10月15日，據國外媒體報道，目前全球頂尖的光刻機生產商ASML正在研發第三款EUV光刻機，并計劃于明年年中出貨。 從其所公布的信息來看，新款光刻機型號命名為TWINSCAN NXE:3600D
2020-10-17 05:02:00
3456 對于如今的半導體產業而言，EUV光刻機是打造下一代邏輯和DRAM工藝技術的關鍵所在，為了在未來的工藝軍備競賽中保持優勢，臺積電、三星和英特爾等廠商紛紛花重金購置EUV光刻機。 ? 然而，當這些來自
2022-07-22 07:49:002403 推動科技進步的半導體技術真的會停滯不前嗎？這也不太可能，7nm工藝節點將開始應用EUV光刻工藝，研發EUV光刻機的ASML表示EUV工藝將會支持未來15年，部分客戶已經在討論2030年的1.5nm工藝路線圖了。
2017-01-22 11:45:423424 極紫外 (EUV) 光刻系統是當今使用的最先進的光刻系統。本文將介紹這項重要但復雜的技術。
2023-06-06 11:23:54688 
根據最新數據顯示，ASML在12月中完成了第100臺EUV光刻機的出貨。更加利好的消息是，業內預估ASML今年（2021年）的EUV光刻機產能將達到45~50臺的規模。
2021-01-03 00:28:004735 ，我國因為貿易條約被遲遲卡住不放行的也是一臺EUV光刻機。 ? 但EUV光刻機的面世靠的不僅僅是ASML一家的努力，還有蔡司和TRUMPF（通快）兩家歐洲光學巨頭的合作才得以成功。他們的技術分別為EUV光刻機的鏡頭和光源做出了不小的貢獻，也讓歐洲成了唯一
2021-12-01 10:07:4110988 電子發燒友網報道（文/周凱揚）到了3nm這個工藝節點之后，單靠現有的0.33NA EUV光刻機就很難維系下去了。為了實現2nm乃至未來的埃米級工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 01:48:002199 ，購買或者開發EUV光刻機是否必要？中國應如何切實推進半導體設備產業的發展？EUV面向7nm和5nm節點所謂極紫外光刻，是一種應用于現代集成電路制造的光刻技術，它采用波長為10～14納米的極紫外光作為
2017-11-14 16:24:44
隨著半導體技術的發展，光刻技術傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數量級（從毫米級到亞微米級），已從常規光學技術發展到應用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術；使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
）光刻技術，而GlobalFoundries當年也曾經研究過7nm EUV工藝，只不過現在已經放棄了。 而使用極紫外光（EUV）作為光源的光刻機就是EUV光刻機，當然這絕對不是單純只換個光源這么簡單
2020-07-07 14:22:55
三種常見的光刻技術方法根據暴光方法的不同,可以劃分為接觸式光刻,接近式光刻和投影式光刻三種光刻技術。 ◆投影式暴光是利用透鏡或反射鏡將掩膜版上的圖形投影到襯底上的暴光方法.在這種暴光方法中,由于掩膜
2012-01-12 10:56:23
深圳大學現代通信技術測試題目錄簡述1到4G特點（從代表的系統、主要技術及傳輸的指標三方面）： 25G的主要KPI指標（列表給出5個） 25G的主要核心技術（給出10個） 35G手機（華為mate30
2021-07-26 08:31:09
快照】：極紫外(EUV)光刻技術一直被認為是光學光刻技術之后最有前途的光刻技術之一,國際上對EUV光刻技術已開展了廣泛的研究[1-4]。在EUV光刻技術中,EUV光源是其面臨的首要技術難題。實現EUV
2010-04-22 11:41:29
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機作為集成電路制造中最關鍵的設備，對芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽為“超精密制造技術皇冠上的明珠”，根據之前中芯國際的公報，目...
2021-07-29 09:36:46
進入10nm工藝節點之后，EUV光刻機越來越重要，全球能產EUV光刻機的就是荷蘭ASML公司了，他們總共賣出18臺EUV光刻機，總價值超過20億歐元，折合每套系統售價超過1億歐元，可謂價值連城。
2017-01-19 18:22:593470 EUV光刻機的唯一供應商ASML在2017年度Semicon West半導體設備展上也表示，250瓦的EUV光源也萬事俱備。公司2017年財報中也強調，其EUV光刻機滿足了125WPH（每小時生產
2018-01-23 14:51:008018 
隨機變化需要新方法、新工具，以及不同公司之間的合作。 極紫外（EUV）光刻技術正在接近生產，但是隨機性變化又稱為隨機效應正在重新浮出水面，并為這項期待已久的技術帶來了更多的挑戰
2018-03-31 11:52:005861 據業內最新消息，全球最大的芯片機器制造商、荷蘭的AMSL證實，中國向荷蘭訂購一臺最新型的使用EUV（極紫外線）技術的芯片制造機器光刻機，訂貨單位是中芯國際。這也幾乎花掉了中芯國際2017年的所有利潤，該公司去年的凈利潤為1.264億美元。
2018-05-20 10:32:3713638 光學光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規模集成電路器件的結構圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發生化學反應，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統能獲得
2018-06-27 15:43:5011776 隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產，2018年EUV光刻工藝終于商業化了，這是EUV工藝研發三十年來的一個里程碑。不過EUV工藝要想大規模量產還有很多技術挑戰，目前的光源功率以及晶圓產能輸出還沒有
2018-10-30 16:28:403376 年代的投影式光刻機，1980年代的步進式光刻機，到步進式掃描光刻機，到浸入式光刻機和現在的EUV光刻機，設備性能不斷提高，推動集成電路按照摩爾定律往前發展。 EUV作為下一代技術的代表，不需要多重曝光
2018-11-02 10:14:19834 用于高端邏輯半導體量產的EUV(Extreme Ultra-Violet，極紫外線光刻)曝光技術的未來藍圖逐漸“步入”我們的視野，從7nm階段的技術節點到今年(2019年，也是從今年開始)，每2年~3年一個階段向新的技術節點發展。
2019-01-21 10:45:562999 
光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。光刻也是制造芯片的最關鍵技術，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發展中，光刻技術的增長，直接關系到大型計算機的運作等高科技領域。
2019-02-25 10:07:535812 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。
2019-03-02 09:41:2911136 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。光刻也是制造芯片的最關鍵技術，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發展中，光刻技術的增長，直接關系到大型計算機的運作等高科技領域。
2019-03-03 10:00:314088 多重成像技術結合起來使用，但這在無形中提升了制造成本，拉長了工藝周期。為了通過提升技術成本來平衡工序成本和周期成本，廠商們將底牌壓在了EUV光刻機身上，但是EUV真的能夠滿足廠商們的期盼嗎？
2019-04-03 17:26:554449 由于三星去年就小規模投產了7nm EUV，同時ASML（荷蘭阿斯麥）將EUV光刻機的年出貨量從18臺提升到今年的預計30臺，顯然促使臺積電不得不加快腳步。
2019-04-30 17:30:037913 臺積電官方宣布，已經開始批量生產7nm N7+工藝，這是臺積電第一次、也是行業第一次量產EUV極紫外光刻技術，意義非凡。
2019-05-28 16:18:243401 隨著半導體行業持續突破設計尺寸不斷縮小的極限，極紫外 （EUV） 光刻技術的運用逐漸擴展到大規模生產環境中。對于 7 納米及更小的高級節點，EUV 光刻技術是一種能夠簡化圖案形成工藝的支持技術。要在如此精細的尺寸下進行可靠制模，超凈的掩模必不可少。
2019-07-03 15:32:371712 
掌握全球唯一EUV光刻機研發、生產的荷蘭ASML（阿斯麥）公司今天發布了2019年Q2季度財報，當季營收25.68億歐元，其中凈設備銷售額18.51億歐元，總計出貨了41臺光刻機，其中EUV光刻機7臺。
2019-07-18 16:02:003147 
掌握全球唯一EUV光刻機研發、生產的荷蘭ASML（阿斯麥）公司今天發布了2019年Q2季度財報，當季營收25.68億歐元，其中凈設備銷售額18.51億歐元，總計出貨了41臺光刻機，其中EUV光刻機7臺。
2019-07-23 10:47:213102 
格芯首席技術官Gary Patton表示，如果在5nm的時候沒有使用EUV光刻機，那么光刻的步驟將會超過100步，這會讓人瘋狂。所以所EUV光刻機無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產工具，未來圍繞EUV光刻機的爭奪戰將會變得異常激烈。因為這是決定這些廠商未來在先進工藝市場競爭的關鍵。
2019-09-03 17:18:1812845 
截至目前，華為麒麟990 5G是唯一應用了EUV極紫外光刻的商用芯片，臺積電7nm EUV工藝制造，而高通剛發布的驍龍765/驍龍765G則使用了三星的7nm EUV工藝。
2019-12-18 09:20:0315995 近些年來EUV光刻這個詞大家應該聽得越來越多，三星在去年發布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 10:58:473149 2月28日，美國泛林公司宣布與ASML阿斯麥、IMEC比利時微電子中心合作開發了新的EUV光刻技術，不僅提高了EUV光刻的良率、分辨率及產能，還將光刻膠的用量最多降至原來的1/10，大幅降低了成本。
2020-02-29 11:20:583228 近些年來EUV光刻這個詞大家應該聽得越來越多，三星在去年發布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 11:42:4529308 在EUV光刻機方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機，去年出貨26臺，創造了新紀錄。據報道，ASML公司正在研發新一代EUV光刻機，預計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:13:482863 在EUV光刻機方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機，去年出貨26臺，創造了新紀錄。據報道，ASML公司正在研發新一代EUV光刻機，預計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:21:194670 與此同時， 他指出，EUV繼續為ASML的客戶提高產量，迄今為止，他們的客戶已經使用EUV光刻機曝光了超過1100萬個EUV晶圓，并交付了57個3400x EUV系統（3400平臺是EUV生產平臺）。
2020-08-14 11:20:552048 
ASML的EUV光刻機是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產的設備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機必不可缺。一臺EUV光刻機的售價為1.48億歐元，折合人民幣高達11.74億元
2020-10-19 12:02:499647 
臺積電是第一家將EUV（極紫外）光刻工藝商用到晶圓代工的企業，目前投產的工藝包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:561425 據韓媒報道，三星副董事長李在镕在訪問荷蘭期間，在會議上要求ASML在一個月內交付三星已購買的9臺EUV光刻設備。 報道稱，ASML正在審查三星的要求，這部分EUV設備最早可于11月運往韓國。 據悉
2020-10-30 14:13:081269 11月5日，世界光刻機巨頭荷蘭阿斯麥ASML亮相第三屆進博會。作為全球唯一能生產EUV（極紫外光）光刻機的企業，由于ASML目前仍不能向中國出口EUV光刻機，所以此次展示的是其DUV（深紫外光）光刻機。據悉，該產品可生產7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:27:465517 中國需要光刻機，尤其是支持先進制程的高端光刻機。具體來說，就是 EUV （極紫外光源）光刻機。
2020-11-11 10:13:304278 
IT之家 11 月 16 日消息 據韓國媒體 BusinessKorea 上周報道，韓國本土企業在 EUV 光刻技術方面取得了極大進展。但并沒有提到是哪一家企業，合理推測應指代韓國整個半導體光刻產業
2020-11-16 14:19:471817 援引韓媒 BusinessKorea 報道，以三星為代表的韓國企業在 EUV 光刻技術方面取得了極大進展。根據對韓國知識產權局（KIPO）過去十年（2011-2020）的 EUV 相關專利統計，在 2014 年達到 88 項的頂峰，2018 年為 55 項，2019 年為 50 項。
2020-11-16 17:26:111397 的《過去10年（2011-2020年）專利申請報告》顯示，2014年，向韓國知識產權局（KIPO）提交的與EUV光刻相關的專利申請數量達到88件的峰值，2018年達到55件，2019年達到50件。 特別是，韓國公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術上與外國公司的差距。2019年，韓國本土提出的專
2020-11-16 18:07:471355 在半導體工藝進入7nm之后，EUV光刻機就成為兵家必備大殺器了，全球也只有ASML公司能生產，單價達到10億人民幣一臺。不過在EUV技術上，ASML還真不一定就是第一，專利比三星還少。
2020-11-17 09:33:371298 在半導體工藝進入7nm之后，EUV光刻機就成為兵家必備大殺器了，全球也只有ASML公司能生產，單價達到10億人民幣一臺。不過在EUV技術上，ASML還真不一定就是第一，專利比三星還少。
2020-11-17 10:25:182211 自從芯片工藝進入到7nm工藝時代以后，需要用到一臺頂尖的EUV光刻機設備，才可以制造7nm EUV、5nm等先進制程工藝的芯片產品，但就在近日，又有外媒豪言：這種頂尖的EUV極紫外光刻機，目前全球
2020-12-03 13:46:226379 繼SK海力士日前宣布在M14和建設中的M16工廠均引入EUV光刻機后，三星也坐不住了。 按照三星的說法，自2014年以來，EUV光刻參與的晶圓超過了400萬片，公司積累了豐富的經驗，也比其它廠商掌握
2020-12-04 18:26:542201 之前有消息稱，臺積電正在籌集更多的資金，為的是向ASML購買更多更先進制程的EUV光刻機，而這些都是為了新制程做準備。
2020-12-29 09:22:482192 EUV光刻（即極紫外光刻）利用波長非常短的光，在硅片上形成數十億個微小結構，構成一個芯片。與老式光刻機相比，EUV設備可以生產更小、更快、更強大的芯片。
2020-12-29 16:20:301425 Luc Van den hove表示，IMEC的目標是將下一代高分辨率EUV光刻技術高NA EUV光刻技術商業化。由于此前得光刻機競爭對手早已經陸續退出市場，目前ASML把握著全球主要的先進光刻機產能，近年來，IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機，目前目標是將工藝規模縮小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:481673 呢？OFweek君根據公開資料整理出了一些原因，供讀者參考。 與DUV（深紫外光）光刻機相比，EUV光刻機的吞吐量相對較低，每小時可曝光處理的晶圓數量約在120片－175片之間，技術改進后，速度可以提升至275片每小時。但相對而言，EUV生產效率還是更高，
2021-02-14 14:05:003915 近期三星為爭搶EUV設備，高層頻頻傳出密訪ASML，EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV，大家首先想到的就是ASML，ASML并不是一個家喻戶曉的名字，但他卻是現代技術的關鍵。因為它提供了制造半導體必不可少的“光刻”機器，在摩爾定律即將發展到盡頭的現在，可以說，得EUV者得先進工藝。
2021-01-16 10:32:574386 目前，還有ASML有能力生產最先進的EUV光刻機，三星、臺積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協定》的制約，中國大陸沒有從ASML買來一臺EUV光刻機。
2021-01-21 08:56:184078 在四季度財報會議上，荷蘭ASML（阿斯麥）表示，預計今年將出貨交付40臺EUV光刻機，比去年多9臺。
2021-01-21 15:16:431369 %，凈利潤達到36億歐元。全球光刻機主要玩家有ASML、尼康和佳能三家，他們占到了全球市場90%。 ASML由于技術領先，一家壟斷了第五代光刻機EUV光刻機，這類光刻機用于制造7nm以下先進制程的芯片。 2020年ASML對外銷售了31臺EUV光刻機，帶來了45億歐元（折合352.52億
2021-01-22 10:38:164677 
ASML公司前兩天發布了財報，全年凈銷售額140億歐元，EUV光刻機出貨31臺，帶來了45億歐元的營收，單價差不多11.4億歐元了。 雖然業績增長很亮眼，但是ASML也有隱憂，實際上EUV光刻
2021-01-22 17:55:242639 2019 年底在舊金山舉辦的年度國際電子元件會議（IEDM）上，臺積電公布的兩個報告標志著集成電路制造邁入了EUV 光刻時代。第一個報告宣布了應用EUV 光刻技術的7 納米世代的改良版芯片已經
2021-02-19 09:18:203017 
隨著半導體工藝進入10nm節點以下，EUV光刻機成為制高點，之前臺積電搶購了全球多數的EUV光刻機，率先量產7nm、5nm工藝，現在內存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機。
2021-02-25 09:28:551644 隨著半導體工藝進入10nm節點以下，EUV光刻機成為制高點，之前臺積電搶購了全球多數的EUV光刻機，率先量產7nm、5nm工藝，現在內存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻
2021-02-25 09:30:232047 隨著半導體工藝進入10nm節點以下，EUV光刻機成為制高點，之前臺積電搶購了全球多數的EUV光刻機，率先量產7nm、5nm工藝，現在內存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機。
2021-02-25 11:39:091844 三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機廠商ASML爭取訂單，另外一方面也在增資為EUV產業鏈輸血。
2021-03-04 09:52:411757 5nm光刻技術與ASML光刻機有何區別？ EUV光刻機產能如何？ 大飛_6g（聽友） 請問謝博士，EUV光刻機的產能是怎樣的？比如用最先進的光刻機，滿負荷生產手機芯片麒麟990，每天能產多少片？中芯國際有多少臺投入生產的光刻機？是1臺、5臺還是10臺呢？謝謝 謝志
2021-03-14 09:46:3023476 日前，ASML產品營銷總監Mike Lercel向媒體分享了EUV（極紫外）光刻機的最新進展。
2021-03-19 09:39:404630 7nm之下不可或缺的制造設備，我國因為貿易條約被遲遲卡住不放行的也是一臺EUV光刻機。 但EUV光刻機的面世靠的不僅僅是ASML一家的努力，還有蔡司和TRUMPF（通快）兩家歐洲光學巨頭的合作才得以成功。他們的技術分別為EUV光刻機的鏡頭和光源做出了不
2021-12-07 14:01:1010742 EUV光刻技術為半導體制造商提供一個前所未有的速度開發最強大芯片的機會。
2022-04-07 14:49:33488 臺積電和三星從7nm工藝節點就開始應用EUV光刻層了，并且在隨后的工藝迭代中，逐步增加半導體制造過程中的EUV光刻層數。
2022-05-13 14:43:202077 
HVM中的EUV光刻
?背景和歷史
?使用NXE的EUV光刻：3400B
?EUV生成原理
?EUV來源：架構
?現場EUV源
?電源展望
?總結
2022-06-13 14:45:45
0 年引進ASML最先進的High-NA EUV光刻機，并且推動臺積電的創新能力。不過另一位高管補充道：臺積電并不打算在2024年將High-NA EUV光刻機投入到生產工作中去，將首先與合作伙伴進行相關的研究。 據了解，High-NA EUV光刻機的High-NA代表的是高數值孔徑，相比于現在的光刻技術，
2022-06-17 16:33:276499 在芯片研發的過程中，光刻機是必不可少的部分，而隨著芯片制程工藝的不斷發展，普通的光刻機已經不能滿足先進制程了，必須要用最先進的EUV光刻機才能完成7nm及其以下的先進制程，而目前臺積電和三星都在攻克
2022-06-28 15:07:126676 中國芯的進步那是有目共睹，我國在光刻機，特別是在EUV光刻機方面，更是不斷尋求填補空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3516742 三星電子和ASML就引進今年生產的EUV光刻機和明年推出高數值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機達成采購協議。
2022-07-05 15:26:155634 光刻機是芯片制造的核心設備之一。目前世界上最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機。
2022-07-06 11:03:077000 如今世界最先進的EUV光刻機，只有asml一家公司可以制造出來。
2022-07-06 11:19:3850686 EUV光刻機是在2018年開始出現，并在2019年開始大量交付，而臺積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:444523 大家都知道，芯片制造的核心設備之一就是光刻機了。現在，全球最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機，那么euv光刻機目前幾納米呢？ 到現在，世界上最先進的光刻機能夠實現5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4242766 機是哪個國家的呢？ euv光刻機許多國家都有，理論上來說，芯片強國的光刻機也應該很強，但是最強的光刻機制造強國，不是美國、韓國等芯片強國，而是荷蘭。 EUV光刻機有光源系統、光學鏡頭、雙工作臺系統三大核心技術。 目前，在全世
2022-07-10 11:42:276977 機可以生產出納米尺寸更小、功能更強大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機生產。 EUV光刻機有光源系統、光學鏡頭、雙工作臺系統三大核心技術。 目前，最先進的光刻機是荷蘭ASML公司的EUV光刻機。預計在光路系統的幫助下，能
2022-07-10 14:35:066173 目前，光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術，EUV使用的是深紫外光刻技術。EUV為先進工藝芯片光刻的發展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻機原理是什么 芯片生產的工具就是紫外光刻機，是大規模集成電路生產的核心設備，對芯片技術有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產。那么euv光刻機原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1015099 光刻機是當前半導體芯片產業的核心設備，其技術含量和價值含量都很高。那么euv光刻機用途是什么呢？下面我們就一起來看看吧。 光刻設備涉及系統集成、精密光學、精密運動、精密材料傳輸、高精度微環境控制
2022-07-10 16:34:403116 與此同時，在ASML看來，下一代高NA EUV光刻機為光刻膠再度帶來了挑戰，更少的隨機效應、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統的正膠和負膠肯定是沒法用了，DUV光刻機上常用的化學放大光刻膠（CAR）也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現瓶頸
2022-07-22 10:40:082010 EUV 光刻是以波長為 10-14nm 的極紫外光作為光源的芯片光刻技術，簡單來說，就是以極紫外光作“刀”，對芯片上的晶圓進行雕刻，讓芯片上的電路變成人們想要的圖案。
2022-10-10 11:15:024367 光刻是半導體工藝中最關鍵的步驟之一。EUV是當今半導體行業最熱門的關鍵詞，也是光刻技術。為了更好地理解 EUV 是什么，讓我們仔細看看光刻技術。
2022-10-18 12:54:053180 我們當然也清楚，從國外進口就代表著就多出一份錢，畢竟技術掌握在別人手里，不管量有多大，歸根結底還是要比生產成本價高出不少。而想要自己生產出高端芯片，就不得不提到一個讓我們耳熟能詳的儀器——EUV光刻機。
2022-11-21 10:59:304400 該專利提供一種光刻裝置，該光刻裝置通過不斷改變相干光形成的干涉圖樣，使得照明視場在曝光時間內的累積光強均勻化，從而達到勻光的目的，進而也就解決了相關技術中因相干光形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題。
2022-11-23 09:57:021081 電子發燒友網報道（文/ 周凱揚 ）到了3nm這個工藝節點之后，單靠現有的0.33NA EUV光刻機就很難維系下去了。 為了實現2nm乃至未來的埃米級工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 07:25:02952 過去二十年見證了193 nm以下波長光刻技術的發展。在使用 F2 準分子激光器開發基于 157 納米的光刻技術方面付出了一些努力，但主要關注點是使用 13.5 納米軟 X 射線作為光源的極紫外 (EUV) 光刻技術。
2023-02-02 11:49:592234 挑戰性。制造商正在關注稱為極紫
外(EUV) 光刻的先進制造技術。
EUV光刻可用于制造比以前更小規模的芯片。該技術可以導致微處理器的發展，其速度比目前最強大的芯片快十倍。EUV光刻
的本質也可以歸因于當前芯片印刷技術的物理限制。
2023-02-15 15:55:294 新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環境中開發，必須通過精心設計的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進行優化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰，imec 最近開發了一個新的工具箱來匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:121165 EUV光刻技術仍被認為是實現半導體行業持續創新的關鍵途徑。隨著技術的不斷發展和成熟，預計EUV光刻將在未來繼續推動芯片制程的進步。
2023-05-18 15:49:041792 
EUV掩膜，也稱為EUV掩模或EUV光刻掩膜，對于極紫外光刻（EUVL）這種先進光刻技術至關重要。EUV光刻是一種先進技術，用于制造具有更小特征尺寸和增強性能的下一代半導體器件。
2023-08-07 15:55:02399 近20年來，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻膠一直是EUV光刻的三大技術挑戰。
2023-09-14 09:45:12563 
EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光，涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會將圖案打印到晶圓上，用于微芯片設計過程中的后續步驟。
2023-10-30 12:22:55615 三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝
2023-11-23 18:13:02579 
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