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電子發燒友網>制造/封裝>下一代EUV***長啥樣?

下一代EUV***長啥樣?

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關于ASML正在開發下一代EUV光刻機性能分析

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ASML研發第二代EUV光刻機的微縮分辨率、套準精度提升了70%

據韓媒報道稱,ASML正積極投資研發下一代EUV光刻機,與現有光刻機相比,二代EUV光刻機最大的變化就是High NA透鏡,通過提升透鏡規格使得新一代光刻機的微縮分辨率、套準精度兩大光刻機核心指標提升70%,達到業界對幾何式芯片微縮的要求。
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ASML下一代EUV光刻機堪稱史上最貴半導體設備 一臺就是12億元人民幣

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臺積電5nm EUV工藝6月實現量產,華為下一代旗艦處理器性能提升50%

臺積電將會在今年年中開始進行5nm EUV工藝的量產,屆時臺積電的主要5nm工藝客戶有蘋果和華為兩家。根據MyDrivers報道,華為的下一代旗艦處理器可能命名為麒麟1020,有5nm EUV工藝加持后性能會比麒麟990 5G SoC提升50%!
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ASML憑什么稱霸光刻機市場

近日,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)公司2019年的年報中披露了關于下一代EUV極紫光刻機的研發進程,預計2022年年初開始出貨,2024年實現大規模生產。
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ASML高管訪問三星討論EUV光刻設備供應和開發合作

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臺積電現采購 35 臺 EUV 光刻機,占 ASML 過半產量

據中國臺灣經濟日報報道,EUV 光刻機制造商 ASML 首席執行官 Peter Wennink 帶領高管拜訪三星,雙方尋求技術與投資合作。三星希望能搶在臺積電之前,取得 ASML 下一代 EUV
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三星攜手ASML開發下一代EUV光刻機方面的合作

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三星希望能搶在臺積電之前,取得ASML下一代EUV設備供應

業內人士分析稱,三星積極追趕臺積電,不過臺積電在高良率與低功耗方面擁有優勢。7nm 制程方面,臺積電先推出 FinFet 架構的 7nm 技術,再推出使用 EUV 的 N7 + 制程。5nm 方面,三星與臺積電仍有二成產能的差距。
2020-12-04 17:23:531479

ASML下一代EUV光刻機延期:至少2025年

的出貨不及預期的35臺,而且他們還宣布了下一代高NA的EUV光刻機要到2025-2026年之間才能規模應用,意味著要延期了。 此前信息顯示,ASML下一代EUV光刻機最早是2022年開始出樣,大規模
2021-01-22 17:55:242639

ASML開發的下一代EUV平臺

具有13.5nm波長源的高數值孔徑系統將提高亞13nm半間距曝光所需的分辨率,以及更大的圖像對比度以實現更好的印刷線均勻性。High-NA EUV光刻的分辨率通常被稱為“13nm到8nm半間距”。
2022-06-02 15:03:561098

2nm芯片最新進展 臺積電再曝2nm芯片新進展

前不久,臺積電、三星電子已經爆出公司2nm芯片新進展,紛紛的尋求下一代 EUV 光刻機,今年臺積電將實現3nm的量產,再往后就是在2025年量產2nm了,這也意味著現在2nm 技術戰已經打響。
2022-07-05 10:05:352219

ASML下一代EUV光刻機High-NA來了!

對于3nm后的節點,ASML及其合作伙伴正在研究一種全新的EUV工具——Twinscan EXE:5000系列,具有0.55 NA(High-NA)透鏡,能夠達到8nm分辨率,可以避免3nm及以上的多圖案。
2022-08-17 15:44:041910

臺積電已啟動1nm工藝先導計劃 升級下一代EUV光刻機是關鍵

在先進工藝上,臺積電今年底量產3nm工藝,2025年則是量產2nm工藝,這一代會開始使用GAA晶體管,放棄現在的FinFET晶體管技術。 再往后呢?2nm之后是1.4nm工藝,Intel、臺積電及三星這三大芯片廠商也在沖刺,其中三星首個宣布2027年量產1.4nm工藝,臺積電沒說時間點,預計也是在2027年左右。 1.4nm之后就是1nm工藝了,這個節點曾經被認為是摩爾定律的物理極限,是無法實現的,但是現在芯片廠商也已經在攻關中。 臺積電已經啟動了先導計劃,傳聞中的1nm晶圓
2022-10-31 11:06:301316

下一代家電供電:如何集腋成裘

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2022-11-02 08:16:071

1納米芯片代表什么?

據悉,下一代EUV光刻機必須要升級下一代的高NA(數值孔徑)標準,從現在的0.33 NA提升到0.55 NA,更高的NA意味著更分辨率更高,是3nm之后的工藝必備的條件。
2022-11-30 09:52:4830113

三星研發下一代EUV關鍵組件

半導體和顯示材料開發商石墨烯實驗室于11月14日宣布,其已開發出用石墨烯制造小于5納米的EUV薄膜(pellicles)的技術,并已準備好量產新型薄膜。
2023-02-16 09:07:34369

下一代EUV***,關鍵技術拆解!

但imec先進成像、工藝和材料高級副總裁斯蒂芬·希爾(Steven Scheer)在接受采訪時非常理性地指出,要經濟高效地引入High NA EUV光刻機,還需翻越“四堵墻”,包括改進EUV光刻膠的厚度、底層材料的屬性、3D掩膜效應對成像的影響,以及與新型邏輯晶體管、存儲芯片組件進行協同設計。
2023-03-17 09:27:091230

Renesas與Wolfspeed的20億美元交易帶來的啟示

該行業甚至愿意更進一步,通過合作和共同融資來開發下一代半導體制造設備,就像最近ASML和Imec之間的協議一樣。他們說,將在開發下一代EUV設備上合作。公司在一份聲明中表示,其他未公開的企業也將加入這個聯盟。
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EUV光刻市場高速增長,復合年增長率21.8%

EUV掩膜,也稱為EUV掩模或EUV光刻掩膜,對于極紫外光刻(EUVL)這種先進光刻技術至關重要。EUV光刻是一種先進技術,用于制造具有更小特征尺寸和增強性能的下一代半導體器件。
2023-08-07 15:55:02399

高數值孔徑EUV的技術要求是什么

今年的大部分討論都集中在 EUV下一步發展以及高數值孔徑 EUV 的時間表和技術要求上。ASML戰略營銷高級總監Michael Lercel表示,目標是提高EUV的能源效率,以及他們下一代高數值孔徑EUV工具的開發狀況。
2023-08-11 11:25:25252

高數值孔徑 EUV技術路線圖

高數值孔徑EUV 今年的大部分討論都集中在EUV下一步發展以及高數值孔徑EUV的時間表和技術要求上。ASML戰略營銷高級總監Michael Lercel表示,其目標是提高EUV的能源效率,以及下一代高數值孔徑EUV工具的發展狀況。
2023-11-23 16:10:27255

納米電子創新中心Imec與三井化學宣布建立戰略合作伙伴關系

比利時納米電子創新中心imec和日本化學公司三井化學宣布建立戰略合作伙伴關系,將下一代EUV半導體光刻系統的關鍵組件商業化。
2024-01-08 09:10:34325

押注2nm!英特爾26億搶單下一代 EUV光刻機,臺積電三星決戰2025!

了。 ? 芯片制造離不開光刻機,特別是在先進制程上,EUV光刻機由來自荷蘭的ASML所壟斷。同時,盡管目前市面上,EUV光刻機客戶僅有三家,但需求不斷增加的情況底下,EUV光刻機依然供不應求。 ? 針對后3nm時代的芯片制造工藝,High-NA(高數值孔徑)EUV光刻機
2022-06-29 08:32:004635

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