pn節的形成
PN結的形成
如果把一塊本征半導體的兩邊摻入不同的元素,使一邊為P型,另一邊為N型,則在兩部分的接觸面就會形成一個特殊的薄層,稱為PN結。PN結是構成二極管、三極管及可控硅等許多半導體器件的基礎。
如圖所示是一塊兩邊摻入不同元素的半導體。由于P型區和N型區兩邊的載流子性質及濃度均不相同,P型區的空穴濃度大,而N型區的電子濃度大,于是在交界面處產生了擴散運動。P型區的空穴向N型區擴散,因失去空穴而帶負電;而N型區的電子向P型區擴散,因失去電子而帶正電,這樣在P區和N區的交界處形成了一個電場(稱為內電場)。
PN結內電場的方向由N區指向P區,如圖所示。
在內電場的作用下,電子將從P區向N區作漂移運動,空穴則從N區向P區作漂移運動。經過一段時間后,擴散運動與漂移運動達到一種相對平衡狀態,在交界處形成了一定厚度的空間電荷區叫做PN結,也叫阻擋層,勢壘。
PN結的形成:
PN結不是簡單的把P型半導體與N型半導體組合在一起;而是在同一基片上通過擴散工藝制作一個P區和一個N區。
擴散運動使靠近接觸面P區的空穴濃度降低、靠近接觸面N區的自由電子濃度降低,產生內電場。
內電場使空穴從N區向P區、自由電子從P區向N區運動,組織了擴散運動的進行。
因電場作用所產生的運動稱為漂移運動(少數載流子運動)。
參與擴散運動和漂移運動的載流子數目相同,達到動態平衡,就形成了PN結。
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( 發表人:李倩 )