涂層技術EV Group提供由摩托羅拉開發的面罩涂層技術
EV集團提供由摩托羅拉開發的掩模涂層技術
PHOENIX - EV集團公司在此宣布，它將提供由摩托羅拉實驗室開發的用于提高接觸式印刷設備產量的掩模涂層技術。該公司表示，該涂層稱為超級清潔面膜，可防止光刻膠和任何污染物在接觸印刷過程中粘附在面罩上，從而延長了面罩的曝光壽命。 EVG正在為每個掩模對準器提供技術許可。
PHOENIX - EV集團公司在此宣布，它將提供由摩托羅拉實驗室開發的用于提高接觸式印刷設備產量的掩模涂層技術。該公司表示，該涂層稱為超級清潔面膜，可防止光刻膠和任何污染物在接觸印刷過程中粘附在面罩上，從而延長了面罩的曝光壽命。 EVG正在為每個掩模對準器提供技術許可。
據德國公司EVG稱，SCM掩模涂層大大延長了掩模清潔周期，但在使用過程中沒有明顯降低特征尺寸分辨率。被稱為電子視覺。這對于接觸印刷應用是至關重要的，例如微機電系統（MEMS），功率和微波晶體管，齊納二極管和肖特基二極管，太陽能電池和其他大型缺陷敏感功率和光子器件。
與EVG的楔形補償系統結合使用時，SCM涂層在掩模清潔周期之間產生了最大數量的質量曝光，該公司聲稱。它說，這可以改善掩模的使用壽命并大大降低掩模更換要求。
聯系打印機是在20世紀60年代早期為半導體加工開發的。隨著硅晶片變得越來越大 - 高達8英寸，現在為12英寸 - 使用大型石英掩模的接觸式打印機被步進技術取代。 EVG表示，最新的MEMS，化合物半導體，激光和其他使用3-，4-，6-和最近8英寸晶圓的電信產品已經引發了接觸式印刷的復蘇。
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