（文章來源：Science鋒芒）

我國在芯片領域頻頻取得突破，這對于我國來說是非常好的。雖然我國外芯片領域暫時只能夠生產出實現商用的光刻機還在28nm。

但是據報道中國科學院已經攻克了2納米芯片的關鍵技術，隨后要解決的就是量產問題了，14納米芯片生產線難題我國已經解決了，隨后更低級別的芯片也將會實現量產。在日常生活中，芯片小小的體積，很少被人關注到，但是它卻是一個特別高端的技術，它是很多智能設備的核心，手機有了它可以實現良好的溝通。

戰機上有了它，相關人員可以更好地控制戰機，如果這些涉及到智能的設備都沒有了體積小小的芯片，那么這些設備的正常運轉就會很困難。

各位小伙伴應該對芯片生產技術有一定的了解，光刻機就是整個芯片生產最為重要的部分。光刻機的作用在于，它能在芯片上刻畫出研究人員提前做好的程序，然后讓機器按照這個程序運轉起來。我國的芯片技術要取得突破，那就要先解決如光刻機制造的問題，簡單來說就是要保證高端芯片的質量。

目前我國現有的光刻機精度只是45納米，與其他國家相比這已經很落后了，在我國還在頭痛比45納米低一個級別的芯片時，荷蘭有一家公司花了20年研發了7納米EUV光刻機，2018這個公司才研究出了商用生產線。

中國為了在芯片領域盡快趕上其他國家，從荷蘭訂購了一臺這樣的光刻機，不過過了2年，這臺光刻機并沒有交付。在全球都在研制7納米芯片時，中國研究人員在2納米芯片的關鍵技術上取得了突破，這為我國未來在芯片領域的發展打下了良好的基礎，它還是我國中科院的全球首創技術，可以說我們的中科院再立大功。

現在2納米芯片的關鍵技術已經突破了，隨后就是要解決量產過程中會遇到的問題了。現在中國已經在14納米的芯片上實現了量產，等到荷蘭的光刻機交付之后我國7nm的芯片量產也將加快步伐，隨后就是2nm的芯片量產了，這真是讓世界驚嘆。
（責任編輯：fqj）