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90nm國產(chǎn)光刻機對比5nm ASML光刻機,差距很大

獨愛72H ? 來源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 作者:佚名 ? 2020-04-13 17:22 ? 次閱讀

(文章來源:網(wǎng)絡(luò)整理)

眾所周知全球最大的兩個芯片代工廠是三星和臺積電,雖說臺積電和三星如果斷供,像華為麒麟高端芯片可能就會癱瘓,但三星和臺積電也沒有自己的光刻機,只能跟荷蘭ASML公司購買。從去年開始,華為開始被一些科技企業(yè)斷供,現(xiàn)在又有消息稱要從芯片產(chǎn)業(yè)鏈上限制,對此華為徐直軍霸氣回應(yīng)稱那么蘋果手機在國內(nèi)也要被禁售。隨著華為關(guān)注度提升后,臺積電,ASML,中芯國際等企業(yè)也備受關(guān)注,很多網(wǎng)友關(guān)注國產(chǎn)光刻機發(fā)展到了什么地步,與ASML的差距還有多少,接下來就說一說國產(chǎn)光刻機和全球最強的ASML光刻機的差距。

國產(chǎn)最先進的光刻機來自上海微電子(SMEE),成立至今已有18年,目前這家科技企業(yè)所能生產(chǎn)的最頂級的芯片制造工藝是90nm。那么這個水平和ASML相比如何呢,ASML早在2018年就將其光刻機賣給三星和臺積電大規(guī)模量產(chǎn)7nm高端芯片,臺積電表示現(xiàn)在已經(jīng)開始試產(chǎn)5nm芯片,今年下半年大規(guī)模量產(chǎn)。經(jīng)過對比,可以微電子光刻機技術(shù)與世界先進水平的ASML光刻機還有很大的差距,至少25年。

微電子光刻機生產(chǎn)90nm及之前的制程工藝,屬于低端領(lǐng)域,目前微電子壟斷了低端芯片生產(chǎn),全球市場份額高達80%,不過大家最期待的高端芯片市場份額為零,目前16nm已經(jīng)不算高端芯片工藝,而5nm大規(guī)模商用之后,10nm可能又被認為是中端工藝技術(shù),所以說即使現(xiàn)在能做出高端光刻機的企業(yè)罕見,代工廠也就那么幾家,但高端芯片工藝技術(shù)每年都在突破,上海微電子仍需要長時間追趕。

微電子難以突破高端光刻機的一大原因是買不到關(guān)鍵零部件,SAML公司也需要購買美國光柵、德國鏡頭、瑞典軸承、法國閥件等國外一些高科技企業(yè)的光刻機部件,而這些硬件都不對外出售,所以說微電子只能從零開始。當然有總比沒有好,高端光刻機也是從低端開始做起,微電子突破高端光刻機只是時間問題。

目前不僅是高端光刻機關(guān)鍵零部件被限制,流量中芯國際購買ASML光刻機也被暫停供應(yīng),之前購買的7nm EUV高端光刻機至今仍未通過授權(quán),因此中芯還不能生產(chǎn)7nm芯片。但近日純國產(chǎn)芯片麒麟710A正式商用,該芯片由中芯國際代工,12nm工藝,說明中芯已經(jīng)突破能量產(chǎn)12nm芯片,據(jù)悉今年年底量產(chǎn)10nm芯片。總結(jié),目前中芯國際和微電子仍在不斷突破新技術(shù),最終將邁向高端芯片技術(shù)領(lǐng)域。
(責任編輯:fqj)

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