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SEMI預(yù)測(cè)半導(dǎo)體設(shè)備支出將在2021年達(dá)到700億美元? 臺(tái)積電計(jì)劃2022年量產(chǎn)4nm工藝制程

章鷹觀察 ? 來源:電子發(fā)燒友整理 ? 作者:章鷹 ? 2020-07-22 13:41 ? 次閱讀

編者按:隨著中國、美國、臺(tái)灣和韓國在半導(dǎo)體工藝制程上投入重量級(jí)資金,半導(dǎo)體設(shè)備的銷售金額連年攀升。據(jù)SEMI的最新報(bào)告,到2020年,原始設(shè)備制造商的半導(dǎo)體制造設(shè)備全球銷售額預(yù)計(jì)將增長6%至632億美元,而2019年為596億美元,2021年將實(shí)現(xiàn)兩位數(shù)的增長,創(chuàng)下700億美元的紀(jì)錄。

7月21日,SEMI在一年一度的SEMICON West上發(fā)布了《半導(dǎo)體制造設(shè)備年中總預(yù)測(cè)-OEM視角》(Mid-Year TotalSemiconductor Equipment Forecast – OEM Perspective)。到2020年,原始設(shè)備制造商的半導(dǎo)體制造設(shè)備全球銷售額預(yù)計(jì)將增長6%至632億美元,而2019年為596億美元,2021年將實(shí)現(xiàn)兩位數(shù)的增長,創(chuàng)下700億美元的紀(jì)錄。

預(yù)計(jì)多個(gè)半導(dǎo)體細(xì)分領(lǐng)域的增長將推動(dòng)這一增長。晶圓廠設(shè)備領(lǐng)域-包括晶圓加工、工廠設(shè)施和掩模/掩模版設(shè)備-預(yù)計(jì)到2020年將增長5%,隨后因存儲(chǔ)器支出的復(fù)蘇以及對(duì)前沿和中國市場(chǎng)的投資,到2021年將增長13%。到2020年和2021年,晶圓代工和邏輯支出將占晶圓制造設(shè)備總銷售額的一半左右,并將在2020年和2021年以個(gè)位數(shù)的速度增長。2020年DRAM和NAND支出都將超過2019年的水平,2021預(yù)計(jì)分別增長20%以上。

預(yù)計(jì)到2020年,由于先進(jìn)封裝產(chǎn)能增長需求,封裝設(shè)備市場(chǎng)將增長10%達(dá)到32億美元,到2021年將增長8%達(dá)到34億美元。半導(dǎo)體測(cè)試設(shè)備市場(chǎng)預(yù)計(jì)將增長13%,2020年將達(dá)到57億美元,并在5G需求的支撐下在2021年繼續(xù)保持增長勢(shì)頭。

預(yù)計(jì)中國大陸、中國臺(tái)灣和韓國將在2020年的支出中居首位。中國大陸在晶圓代工和存儲(chǔ)領(lǐng)域的強(qiáng)勁支出有望使中國大陸在2020年和2021年的半導(dǎo)體設(shè)備總支出中躍居首位。中國臺(tái)灣在2019年實(shí)現(xiàn)68%的增長之后,預(yù)計(jì)今年將收縮,但到2021年將以10%的速度反彈,中國臺(tái)灣將保持設(shè)備投資的第二位。預(yù)計(jì)到2020年,韓國將超過其2019年的水平,在半導(dǎo)體設(shè)備投資中排名第三,使其在2020年成為第三大支出國。在存儲(chǔ)器投資回升的推動(dòng)下,韓國在2021年的設(shè)備支出預(yù)計(jì)將增長30%。大多數(shù)其他地區(qū)也將在2020年或2021年實(shí)現(xiàn)增長。

臺(tái)積電啟動(dòng)4nm制程 預(yù)計(jì)2022年量產(chǎn)

據(jù)臺(tái)灣供應(yīng)鏈消息,臺(tái)積電確認(rèn)5nm產(chǎn)能滿載,3nm將在2022年下半年量產(chǎn),與三星差距持續(xù)擴(kuò)大。

在5nm與3nm之間,臺(tái)積電還將推出4nm芯片,據(jù)介紹,4nm工藝將兼容5nm工藝的設(shè)計(jì)規(guī)則,比5nm工藝芯片有更高的性價(jià)比,也計(jì)劃在2022年量產(chǎn)。

臺(tái)積電在其官網(wǎng)披露的第二季度電話會(huì)議中提到了4nm工藝,并表示將啟動(dòng)4nm工藝作為5nm工藝的延伸。此外,4nm工藝將兼容5nm工藝的設(shè)計(jì)規(guī)則,較5nm工藝更有性價(jià)比優(yōu)勢(shì),瞄準(zhǔn)的是下一波的5nm產(chǎn)品,計(jì)劃在2022年大規(guī)模量產(chǎn)。

此前,臺(tái)積電曾表示,3nm工藝是繼5nm之后臺(tái)積電全新一代的芯片制程工藝節(jié)點(diǎn),3nm工藝沿用FinEFT技術(shù),主要是考量客戶在導(dǎo)入5nm制程的設(shè)計(jì)也能用在3nm制程中,無需面臨需要重新設(shè)計(jì)產(chǎn)品的問題,臺(tái)積電可以保持自身的成本競(jìng)爭(zhēng)力,獲得更多的客戶訂單。

本文資料來自SEMI微信號(hào)和網(wǎng)易科技,本文整理分享。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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