鑒于先進工藝設計的規(guī)模和復雜性,而且各方為 搶先將產品推向市場而不斷競爭,片上系統(tǒng) (SoC) 設計團隊沒有時間等到所有芯片模塊都全 部完成后才開始組裝芯片。因此,SoC 設計人員 通常會在模塊開發(fā)的同時開始芯片集成工作,以 便在設計周期的早期捕獲并糾正任何布線違規(guī), 從而幫助縮短至關重要的上市時間。錯誤在早期 階段更容易修復,而且對版圖沒有重大影響,設 計人員在此階段消除錯誤,可以減少實現流片所 需的設計規(guī)則檢查 (DRC) 迭代次數(圖 1)。
但是,早期階段芯片級物理驗證面臨許多挑 戰(zhàn)。通常,在布局規(guī)劃的早期階段,未完成模 塊中報告的違規(guī)數量非常多,導致此現象的原 因是許多系統(tǒng)性問題可能廣泛分布在整個設計中。系統(tǒng)性問題的典型例子包括:SoC 級別的模塊布局偏離網格、SoC MACRO 封裝外發(fā)生IP 合并、保留布線層上發(fā)生 IP 布線、時鐘網絡上的過孔類型 不正確,以及 SoC 中 IP 布局方向不匹配,如圖 2 所示。在這 個階段區(qū)分模塊級違規(guī)和頂層布線違規(guī)并非易事。
圖 1:識別和解決芯片集成問題與模塊開發(fā)并行 進行,可最大程度地減少整個設計實現流程中 的 DRC 迭代次數。
對初始 DRC 運行使用晶圓代工廠規(guī)則集中的默認設置,通常會 導致運行時間非常長,還會報告非常多的違規(guī),并產生極其龐 大的結果數據庫,所有這些都使得調試極其困難且耗時。
圖 2:系統(tǒng)性錯誤常常導致早期芯片級驗 證中出現大量違規(guī)。
在此早期階段,SoC 設計人員的目標通常是最大限度地減少每 次 DRC 迭代的運行時間,并且僅關注此時相關的違規(guī)情況。 除了將模塊違規(guī)與需要調試的布線違規(guī)區(qū)分開來之外,SoC 設 計人員還可以將模塊違規(guī)送回模塊所有者進行調試和更正。 從早期的布局規(guī)劃到最終的產品流片,SoC 設計人員的終極目 標是發(fā)現并修復 SoC 系統(tǒng)性問題。
改善錯誤較多的模塊/芯片級驗證
Calibre? Reconnaissance (Calibre Recon) 工具是一個完整的功能包,支持設計團隊在設計周 期的早期階段(此時各種組件尚不成熟)便開始對整個芯片設計版圖進行探索和物理驗 證。Caliber Recon 工具能夠非常有效地發(fā)現早期潛在的集成問題,向設計團隊快速提供反 饋以便其采取適當的糾正措施,最終減少 DRC 迭代次數,縮短總周轉時間,加快產品上市。 此外,Caliber Recon 工具經過精心設計,從第一次運行便能提供所有這些功能,支持在任何 工藝技術節(jié)點上按原樣使用任何晶圓代工廠/獨立設備制造商 (IDM) 的 Caliber sign-off 設計 套件。
自動檢查選擇
當存在錯誤時,某些規(guī)則檢查往往會運行很長時 間。取消選擇此類規(guī)則可以大大加快運行速度,但 設計人員如何確定取消選擇哪些檢查呢?取消選擇涉 及許多操作的檢查?還是取消選擇某一類檢查,例 如天線檢查或所有連通性檢查?選擇運行 “最佳” 的一 組檢查并不容易,這可能需要進行大量的高級分 析,并對晶圓代工廠規(guī)則集進行一些編輯(圖 3)。
Caliber Recon 工具可自動取消選擇與當前開發(fā)階段無 關的檢查。Calibre 引擎根據檢查類型和檢查涉及的操 作數量來決定取消選擇哪些檢查,以提供良好的覆蓋率、加快運行時間并減少內存消耗。對于各種工藝節(jié)點,平均而言,Caliber Recon 工具可將 要執(zhí)行的檢查數量減少約 50%。取消選擇的檢查/類別會在過程記錄副本中報告,以供用戶 參考。Caliber Recon 工具也會接受用戶手動取消選擇的所有檢查/類別。
圖 3:選擇正確的檢查集合進行早期驗 證需要仔細分析。
自動取消選擇檢查時,報告的違規(guī)總數通常會減少到原數量的 70% 左右(圖 4)。但這些違 規(guī)對于目標實現階段更有意義,有助于分析和調試實際系統(tǒng)性問題。
圖 4:使用 Caliber Recon 功能時執(zhí)行的規(guī)則檢查總 數量的減少情況,以及最 終報告的違規(guī)數量的減少 情況。
Caliber Recon 工具最多可將整體 DRC 運行時間縮短為原來的 1/14,同時仍能檢查總 DRC 集合的大約 50%。Calibre 引擎自動選擇的規(guī)則子集可以有效識別布局規(guī)劃和子芯片集成問 題,向設計團隊快速提供反饋以便采取適當的糾正措施,并顯著縮短總周轉時間。圖 5 基于 測試顯示了不同芯片的 DRC 運行時間結果。
圖 5:在各種芯片上測試 Caliber Recon 自動檢查選 擇的結果表明,早期實 現階段的 DRC 運行時間和 內存耗用量大幅減少。
Caliber Recon 驗證不僅能幫助 SoC 設計人員進行早期芯片級驗證,而且支持早期模塊驗證。 因為模塊和芯片設計是并行完成,所以模塊設計人員可以在模塊上運行 Caliber Recon 驗證。 如果報告了錯誤,模塊設計人員可以修復系統(tǒng)性問題。如果 Caliber Recon 結果無錯誤,便可 將模塊傳遞給芯片,而模塊設計人員可以在該模塊上并行運行其余規(guī)則。如圖 6 所示,在初 始布線期間對模塊(重復單元)運行 Caliber Recon 工具可使運行時間縮短 8 倍,內存占用減 少 4 倍。
圖 6:在不同的開發(fā)階段 時,將針對重復單元和完 整芯片執(zhí)行的 Calibre Recon 和完整 Calibre nmDRC 進 行比較,結果顯示 Calibre Recon 的運行時間和內存 耗用量都減少。
灰框排除
遵循相同的排除概念,但這次是從設計 角度來看,是否有可能忽略設計的某些 部分(主要是不成熟的模塊),從而聚 焦于接口和布線違規(guī)并減少運行時間? Caliber Recon 灰框功能允許設計人員在 檢查頂層布線時不必考慮單元細節(jié)。 灰框標記可移除指定單元中的數據,而 不會從更高的父層級中刪除幾何形狀
(圖 7)。因此,指定單元上的任何布線 違規(guī)仍能被捕捉到。此外,設計人員可 以通過縮小單元的范圍來在移除的幾何 形狀周圍保留一個暈圈,以便捕獲指定 單元與其相鄰單元之間的接口違規(guī)。
圖 7:利用 Caliber Recon 灰框標記,設計人員可以從 DRC 中排除版圖的某些部分,同時仍能檢查這些區(qū)域是 否存在接口或布線違規(guī)。
灰框解決方案對于矩形和非矩形單元均適用,但設計人員可能需要指定代表非矩形單元范 圍的層(邊界層可用于此目的)。
雖然灰框功能可縮短運行時間,但從指定單元中移除幾何形狀可能會引入一些新的 DRC 違 規(guī),這將需要額外的調試來區(qū)分哪些是實際違規(guī),哪些是因為從指定單元中切除幾何形狀所 產生的違規(guī)。為了避免此問題,以及免于編輯晶圓代工廠規(guī)則集來為灰框功能增加規(guī)范說 明,設計人員可以將 Caliber Recon 灰框功能與 Caliber Auto-Waivers 功能結合使用。如圖 8 所示,其主要目的是不檢查不完整模塊中的幾何形狀以縮短運行時間,附帶的好處是可豁免 從指定單元排除區(qū)域時所引入的任何違規(guī)。這種結合使得設計人員可以專注于原始(有效) DRC 接口違規(guī)。所有豁免的違規(guī)都保存到豁免結果數據庫文件中,供日后需要時審查。
圖 8:Caliber Recon 灰框 功能與 Calibre Auto-Waiver 功能相結合,使得設計人 員可以執(zhí)行接口和頂層布 線驗證,而不必擔心因為 從灰框單元中移除幾何形 狀而產生錯誤。
灰框解決方案能將 SoC 團隊指向需要注意的接口 DRC 錯誤。它還將與組裝相關的集成和布 線違規(guī)與不成熟模塊的違規(guī)區(qū)分開來。如圖 9 所示,將此功能與自動選擇相關檢查相結合, 可進一步縮短運行時間,因為系統(tǒng)會針對設計區(qū)域報告的違規(guī),選擇其中需要在特定階段 多加注意的違規(guī),讓設計人員只專注在這些違規(guī)上。因此,它有助于設計團隊在設計周期 的早期解決更多關鍵接口問題,避免最后一刻出現令人沮喪的意外。
圖 9:Caliber Recon 自動 檢查選擇與灰框功能結合 使用,有助于在早期設計 實現階段將驗證重點放在 關鍵接口和布線問題上。
DRC ANALYZE
Caliber Recon DRC Analyze 功能可幫助設計人員快速分析其設計并直觀地查看錯誤分布,以 便找出可快速提高版圖質量的機會點。
DRC Analyze 功能允許設計人員繪制不同的直方圖(基于層次化單元或窗口)以進行芯片分 析,并為這些直方圖指定自定義縮放范圍。它還支持繪制結果的彩色圖,既可以在獨立窗 口上繪制,也可以映射到設計上,讓設計人員能夠探查每個單元和每個窗口的錯誤細節(jié), 結果會分布在整個設計上(圖 10)。
圖 10:Caliber Recon DRC Analyze 功能支持在錯誤 檢查和調試過程中進行 快速、深入的可視化和 分析。
DRC Analyze 功能的主要優(yōu)點是,設計人員可以使用晶圓代工廠規(guī)則集來執(zhí)行所有必需的分 析,而無需進行任何編輯。與這種分析在芯片分析和調試期間提供的價值相比,相關開銷
(運行時間平均增加 10% 和內存耗用量平均增加 20% )非常小。
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