DIGITIMES Research觀察,伴隨CPU、GPU、FPGA等高效能運算(HPC)芯片性能要求持續提升,覆晶封裝(Flip Chip;FC)、層疊封裝(Package on Package;PoP)等傳統封裝技術已不敷使用,使2.5D/3D封裝技術需求逐漸增加,吸引半導體制造業者積極布局,其中,IDM與晶圓代工業者2.5D技術發展相對委外半導體封測(OSAT)業者成熟、完整,也具有多年量產經驗,3D封裝技術則將陸續開花結果。
覆晶封裝雖是現行芯片封裝主流技術,然2.5D/3D封裝提供較覆晶封裝7~8倍以上的I/O數增量,以及更高密度集成更多芯片/模塊,有助芯片提升效能、改善功耗等,增加HPC芯片業者采用2.5D/3D技術的誘因。具體來看,NVIDIA與超微(AMD) CPU與GPU、英特爾(Intel)與賽靈思(Xilinx) FPGA等多為2.5D封裝,而英特爾Lakefield CPU更是首個以3D封裝的CPU。
HPC芯片所催生的2.5D/3D封裝商機吸引IC制造業者積極布局,其中,英特爾、三星電子(Samsung Electronic)與臺積電已具成熟的2.5D封裝經驗;3D封裝部分,英特爾已量產Foveros技術,三星與臺積電則將在2021~2022年陸續量產。日月光、安靠(Amkor)等OSAT業者雖布局2.5D/3D封裝,但技術方案仍不若IDM與晶圓代工業者完整,然逐漸強化中。
2.5D和3D封裝技術有何異同?
除了先進制程之外,先進封裝也成為延續摩爾定律的關鍵技術,像是2.5D、3D等技術在近年來成為半導體產業的熱門議題。究竟,先進封裝是如何在延續摩爾定律上扮演關鍵角色?而2.5D、3D等封裝技術又有何特點?
人工智能(AI)、車聯網、5G 等應用相繼興起,且皆須使用到高速運算、高速傳輸、低延遲、低耗能的先進功能芯片;然而,隨著運算需求呈倍數成長,究竟要如何延續摩爾定律,成為半導體產業的一大挑戰。
芯片微縮愈加困難,異構整合由此而生
換言之,半導體先進制程紛紛邁入了7 納米、5 納米,接著開始朝3 納米和2 納米邁進,電晶體大小也因此不斷接近原子的物理體積限制,電子及物理的限制也讓先進制程的持續微縮與升級難度越來越高。
也因此,半導體產業除了持續發展先進制程之外,也「山不轉路轉」地開始找尋其他既能讓芯片維持小體積,同時又保有高效能的方式;而芯片的布局設計,遂成為延續摩爾定律的新解方,異構整合(Heterogeneous Integration Design Architecture System,HIDAS)概念便應運而生,同時成為IC 芯片的創新動能。
▲異構整合成為實現小體積、高效能芯片的另一種方式。(Source:SEMI)
所謂的異構整合,廣義而言,就是將兩種不同的芯片,例如記憶體+邏輯芯片、光電+電子元件等,透過封裝、3D 堆疊等技術整合在一起。換句話說,將兩種不同制程、不同性質的芯片整合在一起,都可稱為是異構整合。
因為應用市場更加的多元,每項產品的成本、性能和目標族群都不同,因此所需的異構整合技術也不盡相同,市場分眾化趨勢逐漸浮現。為此,IC 代工、制造及半導體設備業者紛紛投入異構整合發展,2.5D、3D 封裝、Chiplets 等現今熱門的封裝技術,便是基于異構整合的想法,如雨后春筍般浮現。
2.5D 封裝有效降低芯片生產成本
過往要將芯片整合在一起,大多使用系統單封裝(System in a Package,SiP)技術,像是PiP(Package in Package)封裝、PoP(Package on Package)封裝等。然而,隨著智能手機、AIoT 等應用,不僅需要更高的性能,還要保持小體積、低功耗,在這樣的情況下,必須想辦法將更多的芯片堆積起來使體積再縮小,因此,目前封裝技術除了原有的SiP 之外,也紛紛朝向立體封裝技術發展。
立體封裝概略來說,意即直接使用矽晶圓制作的「矽中介板」(Silicon interposer),而不使用以往塑膠制作的「導線載板」,將數個功能不同的芯片,直接封裝成一個具更高效能的芯片。換言之,就是朝著芯片疊高的方式,在矽上面不斷疊加矽芯片,改善制程成本及物理限制,讓摩爾定律得以繼續實現。
而立體封裝較為人熟知的是2.5D 與3D 封裝,這邊先從2.5D 封裝談起。所謂的2.5D 封裝,主要的概念是將處理器、記憶體或是其他的芯片,并列排在矽中介板(Silicon Interposer)上,先經由微凸塊(Micro Bump)連結,讓矽中介板之內金屬線可連接不同芯片的電子訊號;接著再透過矽穿孔(TSV)來連結下方的金屬凸塊(Solder Bump),再經由導線載板連結外部金屬球,實現芯片、芯片與封裝基板之間更緊密的互連。
▲ 2.5D和3D封裝是熱門的立體封裝技術。(Source:ANSYS)
目前為人所熟知的2.5D 封裝技術,不外乎是臺積電的CoWoS。CoWoS 技術概念,簡單來說是先將半導體芯片(像是處理器、記憶體等),一同放在矽中介層上,再透過Chip on Wafer(CoW)的封裝制程連接至底層基板上。換言之,也就是先將芯片通過Chip on Wafer(CoW)的封裝制程連接至矽晶圓,再把CoW 芯片與基板連接,整合成CoWoS;利用這種封裝模式,使得多顆芯片可以封裝到一起,透過Si Interposer 互聯,達到了封裝體積小,功耗低,引腳少的效果。
▲臺積電CoWos封裝技術概念。(Source:臺積電)
除了CoWos 外,扇出型晶圓級封裝也可歸為2.5D 封裝的一種方式。扇出型晶圓級封裝技術的原理,是從半導體裸晶的端點上,拉出需要的電路至重分布層(Redistribution Layer),進而形成封裝。因此不需封裝載板,不用打線(Wire)、凸塊(Bump),能夠降低30% 的生產成本,也讓芯片更薄。同時也讓芯片面積減少許多,也可取代成本較高的直通矽晶穿孔,達到透過封裝技術整合不同元件功能的目標。
當然,立體封裝技術不只有2.5D,還有3D 封裝。那么,兩者之間的差別究竟為何,而3D 封裝又有半導體業者正在采用?
相較于2.5D 封裝,3D 封裝的原理是在芯片制作電晶體(CMOS)結構,并且直接使用矽穿孔來連結上下不同芯片的電子訊號,以直接將記憶體或其他芯片垂直堆疊在上面。此項封裝最大的技術挑戰便是,要在芯片內直接制作矽穿孔困難度極高,不過,由于高效能運算、人工智能等應用興起,加上TSV 技術愈來愈成熟,可以看到越來越多的CPU、GPU 和記憶體開始采用3D 封裝。
▲ 3D封裝是直接將芯片堆疊起來。(Source:英特爾)
臺積電、英特爾積極發展3D 封裝技術
在3D 封裝上,英特爾(Intel)和臺積電都有各自的技術。英特爾采用的是「Foveros」的3D 封裝技術,使用異構堆疊邏輯處理運算,可以把各個邏輯芯片堆棧一起。也就是說,首度把芯片堆疊從傳統的被動矽中介層與堆疊記憶體,擴展到高效能邏輯產品,如CPU、繪圖與AI 處理器等。以往堆疊僅用于記憶體,現在采用異構堆疊于堆疊以往僅用于記憶體,現在采用異構堆疊,讓記憶體及運算芯片能以不同組合堆疊。
另外,英特爾還研發3 項全新技術,分別為Co-EMIB、ODI 和MDIO。Co-EMIB 能連接更高的運算性能和能力,并能夠讓兩個或多個Foveros 元件互連,設計人員還能夠以非常高的頻寬和非常低的功耗連接模擬器、記憶體和其他模組。ODI 技術則為封裝中小芯片之間的全方位互連通訊提供了更大的靈活性。頂部芯片可以像EMIB 技術一樣與其他小芯片進行通訊,同時還可以像Foveros 技術一樣,通過矽通孔(TSV)與下面的底部裸片進行垂直通訊。
同時,該技術還利用大的垂直通孔直接從封裝基板向頂部裸片供電,這種大通孔比傳統的矽通孔大得多,其電阻更低,因而可提供更穩定的電力傳輸;并透過堆疊實現更高頻寬和更低延遲。此一方法減少基底芯片中所需的矽通孔數量,為主動元件釋放了更多的面積,優化裸片尺寸。
而臺積電,則是提出「3D 多芯片與系統整合芯片」(SoIC)的整合方案。此項系統整合芯片解決方案將不同尺寸、制程技術,以及材料的已知良好裸晶直接堆疊在一起。
臺積電提到,相較于傳統使用微凸塊的3D 積體電路解決方案,此一系統整合芯片的凸塊密度與速度高出數倍,同時大幅減少功耗。此外,系統整合芯片是前段制程整合解決方案,在封裝之前連結兩個或更多的裸晶;因此,系統整合芯片組能夠利用該公司的InFO 或CoWoS 的后端先進封裝技術來進一步整合其他芯片,打造一個強大的「3D×3D」系統級解決方案。
▲臺積電SoIC整合方案。(Source:臺積電)
此外,臺積電亦推出3DFabric,將快速成長的3DIC 系統整合解決方案統合起來,提供更好的靈活性,透過穩固的芯片互連打造出強大的系統。藉由不同的選項進行前段芯片堆疊與后段封裝,3DFabric 協助客戶將多個邏輯芯片連結在一起,甚至串聯高頻寬記憶體(HBM)或異構小芯片,例如類比、輸入/輸出,以及射頻模組。3DFabric 能夠結合后段3D 與前段3D 技術的解決方案,并能與電晶體微縮互補,持續提升系統效能與功能性,縮小尺寸外觀,并且加快產品上市時程。
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原文標題:【DIGITIMES Research】2.5D/3D封裝快速成長 滿足HPC芯片發展是關鍵
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