全球四大光刻機生產商如下：

1.上海微電子

上海微電子簡稱SMEE，主要致力于半導體裝備泛半導體裝備、高端智能裝備的開發、設計、制造、銷售及技術服務。公司設備廣泛應用于集成電路前道、先進封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造領域。

2.荷蘭ASML

ASML是一家總部設在荷蘭埃因霍芬（Eindhoven）的全球最大的半導體設備制造商之一，向全球復雜集成電路生產企業提供領先的綜合性關鍵設備。

ASML為半導體生產商提供光刻機及相關服務，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生產效率最高，應用最為廣泛的高端光刻機型。

3.佳能

佳能是日本的一家全球領先的生產影像與信息產品的綜合集團，佳能光刻機22納米 ，光刻機是制造微機電、光電二極體大規模集成電路的關鍵設備。光刻機可以分鐘兩種，分別是模板和圖樣大小一致的contact aligner ，曝光時模板緊貼芯片;第二是類似投影機原理的stepper ，獲得比模板更小的曝光圖樣。

4.尼康

尼康（Nikon），是日本的一家著名制造商，成立于1917年。尼康作為世界上能夠制造商用光刻機的公司，似乎在這個領域不被許多普通人知道，許多人只知道尼康的相機做的好，卻不知道尼康光刻機同樣享譽全球。

編輯：YYX

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