制作制板說明書時,應注意以下事項:PCB基板材料,阻焊劑,絲網(wǎng)印刷,表面成型,電路板尺寸和厚度,銅厚度,盲孔和埋孔,通孔電鍍,SMT,面板,公差等在實際制造電路板之前要考慮到這一點。在這些項目中,表面成型的選擇屬于第一類,因為表面成型對提高電子產(chǎn)品的可靠性起著極其重要的作用。由于PCB上的銅層很容易被氧化,因此生成的銅氧化層會嚴重降低焊接質(zhì)量,從而降低最終產(chǎn)品的可靠性和有效性。表面成型具有導電性,可防止焊盤氧化,并確保出色的可焊性和電性能。
表面成型或表面涂層是PCB板制造和電路卡組裝之間過程中最重要的一步,具有兩個主要功能,其中之一是保留裸露的銅電路,另一個是在焊接時提供可焊接的表面組件連接到PCB.如圖1所示,表面成型位于PCB的最外層且在銅之上,起到銅的“涂層”作用。
表面成型的類型
基本上,有兩種主要類型的表面成型:金屬的和有機的。HASL,ENIG / ENEPIG,沉金和沉錫均屬于金屬表面成型,而OSP和碳墨均屬于有機表面成型。
?HASL(熱空氣焊料調(diào)平)
HASL是一種應用于pcb的傳統(tǒng)表面處理方法。PCB通常浸在熔化的焊錫中,這樣所有裸露的銅表面都被焊錫覆蓋。多余的焊錫通過熱風刀之間的PCB去除。通常,HASL遵循如下圖2所示的過程:
HASL表面成型的優(yōu)點 | HASL表面成型的缺點 |
?組件焊接過程中具有良好的潤濕性; ? 避免了銅質(zhì)腐蝕, |
? 垂直調(diào)平機的平面性低導致HASL不能接受精細的部件; ? 工藝過程中的高熱應力會導致電路板出現(xiàn)缺陷; |
為了符合有關(guān)環(huán)境保護的規(guī)定,HASL分為兩個子類別:有鉛HASL和無鉛HASL。后者符合歐盟最初采用的RoHS(有害物質(zhì)限制)法規(guī)和法律。
?ENIG和ENEPIG
ENIG是化學鍍鎳的縮寫,由化學鍍鎳和浸入金的薄層組成,可保護鎳免受氧化。ENEPIG,也稱為化學鎳化學鍍鈀金,與ENIG的不同之處在于,鈀層用作電阻層,可阻止鎳氧化和擴散到銅層。與其他類型的表面成型相比,ENIG和ENEPIG可為PCB提供最高的可焊性,但成本要高得多。ENIG和ENEPIG的制造工藝之間的差異可以在下面的圖3中找到。
化學鎳步驟是一種自動催化過程,包括在鈀催化的銅表面上沉積鎳。必須補充含有鎳離子的還原劑,以提供產(chǎn)生均勻涂層所需的適當濃度,溫度和酸度。在浸金步驟中,金通過分子交換粘附在鍍鎳區(qū)域,這將保護鎳直至焊接過程。金的厚度需要滿足一定的公差,以確保鎳保持其可焊性。
ENIG和ENEPIG分別有其優(yōu)點和缺點。例如,ENIG具有平坦的表面,簡單的工藝機制和耐高溫性,而ENEPIG具有出色的多次回流循環(huán)能力,并具有高度可靠的引線鍵合能力。根據(jù)ENIG和ENEPIG之間的比較,可以將它們應用于不同的應用中以實現(xiàn)不同的目的。ENIG適用于無鉛焊接,SMT(表面安裝技術(shù)),BGA(球柵陣列)封裝等。而ENEPIG能夠滿足包括THT(通孔技術(shù)),SMT,BGA在內(nèi)的多種封裝的嚴格要求,引線鍵合,壓入配合等。
?ImAg(浸銀)
ImAg由在銅導線上的薄浸銀鍍層組成。通常,ImAg遵循以下步驟:
ImAg表面成型的優(yōu)點 | ImAg表面成型的缺點 |
?平整; ?短而容易的過程周期; ?價格便宜; ?高導電性; ?適用于小間距產(chǎn)品; ?銅/錫焊點; ?可重復加工; ?不影響孔的大小; |
?失去光澤; ?白銀遷移; ?平面微空隙; ?蠕變腐蝕; |
ImAg是用于焊接和測試的良好表面成型類型。蠕變腐蝕是其主要缺點。
?ImSn(浸錫)
ImSn與ImAg基本相同,不同之處在于ImSn中使用錫,而ImAg中使用銀。就ImSn的優(yōu)勢而言,它在銅焊盤上提供了極其平坦的表面成型,使其非常適合SMT應用。此外,ImSn還提供了一種可以通過常見的自動光學檢測技術(shù)輕松檢測到的表面。
?OSP(有機可焊性防腐劑)
OSP是一種參與了透明有機材料的表面成型。它使用一種水基有機化合物,該有機化合物選擇性地結(jié)合到銅上并保護銅直到焊接為止。通常,OSP遵循以下過程:
OSP表面成型的優(yōu)點 | OSP表面成型的缺點 |
?平整/平面;?短而容易的過程周期;?價格便宜;?可重做;?不影響成品孔尺寸;?銅/錫焊點; | ?不耐多次回流;?有限的保質(zhì)期;?不導電;?難以檢查;?有限的熱循環(huán); |
上面的描述無法解釋有關(guān)OSP的任何內(nèi)容。您可以參考關(guān)于OSP幾乎不了解的文章,以獲取OSP表面成型技術(shù)的更多詳細信息。
總而言之,每種類型都有其自身的優(yōu)點和缺點。您應該根據(jù)電子產(chǎn)品的使用目的,性能要求,成本,耐腐蝕性,ICT(在線測試),孔填充等選擇最合適的表面成型。選擇過程中考慮的項目越多,精度越高。
一般來說,就成本而言,比較這些類型的表面成型,ImAg和OSP最便宜,而ENIG最昂貴。就耐腐蝕性而言,HASL和ImSn具有最佳的耐腐蝕性,而ImAg具有最差的耐腐蝕性。就ICT而言,只有OSP最差,而其他OSP則同樣好。在空洞填充方面,HASL和ENIG優(yōu)于其他類型。
表面成型選擇
PCB的表面成型選擇是PCB制造中最重要的步驟,因為它直接影響工藝良率,返工數(shù)量,現(xiàn)場故障率,測試能力,報廢率和成本。關(guān)于組裝的所有重要考慮因素都必須納入表面成型的選擇中,以確保最終產(chǎn)品的高質(zhì)量和高性能。
在PCB組裝過程中,不同位置的人對如何選擇表面成型有不同的看法,如下圖所示:
顯然,不同職位的人有不同的選擇標準。無論選擇哪種類型,它都只滿足人們的需求和便利,而很少考慮PCB和PCB組件的質(zhì)量,性能和可靠性。
根據(jù)上述每種類型的表面成型的介紹,某些屬性是最重要的選擇標準。下表顯示了每種類型的表面成型的“具有”和“不具有”的屬性。根據(jù)PCB產(chǎn)品的特定要求和功能,您可以按照此表選擇理想的表面成型選項。
項目 | HASL | ENIG | ENEPIG | ImAg | ImSn | OSP |
產(chǎn)品成本敏感 | √ | X | X | √ | √ | √ |
需要大批量 | X | X | X | √ | √ | √ |
表面成型的化學品 | √ | X | √ | X | √ | √ |
無鉛波峰焊 | √ | √ | √ | √ | X | X |
使用的細間距組件 | X | √ | √ | √ | √ | √ |
引線鍵合至表面成型的要求 | X | √ | √ | √ | X | X |
高產(chǎn)量ICT | √ | √ | √ | √ | √ | X |
無鉛沖擊/跌落 | √ | X | X | √ | √ | √ |
腐蝕失效的可能性 | √ | √ | √ | X | √ | √ |
總而言之,對于表面成型選擇的類型,必須選擇最佳類型,并且可以實現(xiàn)眾多功能。每種類型的表面成型都有其自身的優(yōu)點和缺點。但是不用擔心。有一些工程上的技巧可以解決由于表面成型引起的問題。例如,對于OSP潤濕力較低的缺點,可以使用一些解決方案,例如更改板的可焊性鍍層或波峰焊合金,增加頂側(cè)預熱等。關(guān)鍵點是必須按順序考慮所有可能的元素。獲得理想的性能。
如今,環(huán)境問題在電子領(lǐng)域變得越來越重要。為了限制產(chǎn)生的有害物質(zhì),歐盟已發(fā)布了RoHS。RoHS,也稱為無鉛,代表有害物質(zhì)限制。RoHS,也稱為Directive 2002/95 / EC,起源于歐盟,并限制使用在電氣和電子產(chǎn)品中發(fā)現(xiàn)的六種有害物質(zhì)。自2006年7月1日起,所有在歐盟市場上適用的產(chǎn)品都必須通過RoHS認證。RoHS影響整個電子行業(yè)以及許多電氣產(chǎn)品。因此,未來無鉛焊料的表面成型將有更多的關(guān)注者。
ENIG和ENEPIG之間的比較
在PCB制造過程中應用的技術(shù)中,那些有助于表面成型的技術(shù)在PCB組裝以及其中應用了電路板的電子產(chǎn)品的應用中起著至關(guān)重要的作用。
PCB上的銅層容易在空氣中被氧化,從而易于產(chǎn)生銅氧化,這將嚴重降低焊接質(zhì)量。但是,表面成型能夠阻止銅墊氧化,因此可以保證出色的可焊性和相應的電氣性能。市場對電子設備的小型化,更高的功能性和可靠性的不斷增長的市場需求將PCB推向薄,輕量,高密度和更高的信號傳輸速度。因此,表面成型必須在穩(wěn)定性和可靠性方面接受即將到來的挑戰(zhàn),以與上述開發(fā)要求兼容。
此外,基于對環(huán)境友好型可持續(xù)發(fā)展意識的增強,涉及PCB表面成型的環(huán)境污染問題正日益引起全球關(guān)注。歐盟制定的RoHS(有害物質(zhì)限制)和WEEE(廢棄電氣電子設備)法規(guī)旨在消除電子產(chǎn)品中的鉛和汞等有害物質(zhì),要求綠色或無鉛的PCB表面生產(chǎn)結(jié)束。ENIG(化學鍍鎳沉金)和ENEPIG(化學鍍鎳沉金)作為一種表面成型,不僅可以滿足PCB市場所要求的技術(shù)要求,而且還可以根據(jù)無鉛焊料的趨勢進行調(diào)整,因此發(fā)展?jié)摿Α?/p>
然而,人們很難分辨出ENIG和ENEPIG之間的區(qū)別,更不用說知道何時依賴哪個。本文的以下內(nèi)容將提供ENIG和ENEPIG的定義及其制造工藝,討論它們的優(yōu)缺點,目的是提供在特定情況下何時使用每種成型的指南。
表面成型選擇注意事項
到目前為止,公認的主要表面成型為HASL(熱風焊料調(diào)平),OSP(有機焊料防腐劑),浸錫,浸金,ENIG和ENEPIG。面對具有各自優(yōu)點和缺點的不同表面成型,當您選擇一種與您的產(chǎn)品兼容的類型時,是否遭受了劇烈的痛苦?實際上,無論您的PCB產(chǎn)品類型是什么或必須滿足什么要求,您對表面成型的選擇都必須基于成本,最終產(chǎn)品的應用環(huán)境,細間距組件,無鉛或無鉛,RF應用中的考慮因素。(高頻率可能性),保質(zhì)期,抗沖擊和跌落,熱阻,體積和產(chǎn)量。
因此,上面提到的考慮元素可以作為您最終決定PCB表面成型的參考之一。當然,這些項目永遠不可能是具有同等重要性的平均重要性。然后,在你準備好依賴這個列表并考慮你具體的產(chǎn)品情況之前,應該澄清每個項目的重要性程度。
ENIG和ENEPIG的出現(xiàn)
早在20世紀90年代,由于PCB向更好的線路和微孔的發(fā)展,加上HASL和OSP的突出缺點,如前者的平坦性問題和后者的通量消除問題,ENIG開始被用作PCB制造中表面拋光的另一種替代方案。
為了擊敗黑鎳板,ENIG的主要弱點,ENEPIG作為ENIG的升級版問世。通過在化學鎳和浸金之間添加鍍鈀,ENEPIG會包含一層電阻薄層,其厚度通常在0.05μm至0.1μm的范圍內(nèi)。鈀層在阻止浸金技術(shù)腐蝕鎳層方面發(fā)揮了作用。結(jié)果,ENEPIG能夠克服由ENIG保持的黑墊的缺陷。此外,ENEPIG具有高度可靠的引線鍵合能力,出色的多次回流焊接能力以及包含開關(guān)觸點表面的特性,使其能夠同時滿足高密度PCB和多表面封裝的嚴格要求。基于這些優(yōu)點,ENEPIG也被稱為通用表面成型。
ENIG和ENEPIG的優(yōu)缺點
在1990年代,隨著PCB細線和HASL(熱空氣焊料調(diào)平)的微孔和平面度問題以及OSP(有機可焊性防腐劑)的消除焊錫問題的發(fā)展趨勢,ENIG技術(shù)開始在PCB制造中被廣泛使用。
與ENIG相比,ENEPIG技術(shù)早在1980年代就已應用于PCB制造。然而,由于ENEPIG成本高且產(chǎn)品對表面成型要求低,因此并未得到廣泛使用和推廣。目前,對小型化,薄型化和多功能的要求為ENEPIG提供了更多機會。
下表顯示了ENIG和ENEPIG的優(yōu)點。
ENIG | ENEPIG | |
好處 |
?易于加工的機制 ?平坦的表面 ?良好的抗氧化性 ?良好的電性能 ?耐高溫 ?良好的熱擴散性 ?保質(zhì)期長 ?無集膚效應 ?可用于未經(jīng)處理的接觸表面 ?無鉛 |
?出色的多次回流循環(huán) ?能夠確保良好的可焊性 ?高度可靠的引線鍵合能力 ?表面作為鍵觸點 ?與Sn-Ag-Cu焊料高度兼容 ?適用于多種封裝,尤其是具有多種封裝類型的PCB ?無黑色墊 |
ENEPIG技術(shù)是在ENIG技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展而來的,其中添加了鈀層,因此其性能得到了極大的提高。理由是:a.具有致密膜結(jié)構(gòu)的鈀層完全覆蓋在鎳層上,鈀層中的磷含量低于鎳層中的普通含量,從而避免了黑鎳的產(chǎn)生條件,并且消除了黑墊的可能性。b.鈀的熔點為1,554℃,高于金的熔點(1,063℃)。因此,鈀在高溫下的熔化速度相對較慢,并且具有足夠的時間來產(chǎn)生用于保護鎳層的電阻層。c.鈀比金具有更高的硬度,從而提高了焊料的可靠性,引線鍵合能力和減摩性能。d.錫鈀合金具有最強的防腐能力,能夠阻止由一次電池腐蝕引起的蠕變腐蝕,從而可以延長使用壽命。e。鈀的使用能夠減小金層的厚度,與ENIG相比,其成本降低了60%。
每個硬幣都有兩個面。除了優(yōu)點之外,ENIG和ENEPIG也有一些缺點。
ENIG | ENEPIG | |
缺點 |
?受電鍍條件和整個過程控制的影響 ?受化學鍍鎳和金的厚度的影響 ?電鍍液的電鍍面積受金屬面積大小的影響 ?相對較低的潤濕性 ?容易產(chǎn)生黑墊 ?大大降低了焊點的可靠性 ?集膚效應 |
?由于鈀層太厚,降低了可焊性 ?較慢潤濕 ?成本高 |
具有成本效益的表面成型的措施
根據(jù)ENIG和ENEPIG的優(yōu)缺點,當首先考慮可靠性時,選擇ENEPIG作為更好的解決方案是很自然的。但是,其較高的成本阻止了一些公司犧牲一些收入。但是,由于我們已采取措施消除應用ENIG的黑色焊盤問題,因此您完全可以獲得質(zhì)量與成本之間的最佳平衡。
黑色襯墊隨ENIG的出現(xiàn)而誕生。在將金浸入ENIG中的過程中,由于不良操作下的鎳腐蝕,容易造成黑色焊盤。過度的鎳腐蝕將大大降低潤濕性,并降低焊接性能,當焊料與腐蝕的鎳表面粘接時,焊料必須承受更大的應力。最終,用于焊料和鎳之間接觸的接觸層會破裂,并產(chǎn)生黑色的鎳表面,稱為黑色焊盤。
由于ENIG包含化學鍍金層,因此很難總結(jié)是否存在黑墊。除非通過化學方法將金從表面上剝離下來,否則鎳將不會被暴露。另外,在鎳和金的接觸處(焊接前)和焊料與鎳的接觸處(焊接后)將形成富含P的鎳層。這實際上是自然現(xiàn)象,并且與黑墊無關(guān)。
導致黑墊的主要原因有兩個方面。首先,技術(shù)實施受到這樣的不良控制,使得晶體顆粒不均勻地生長,并且在具有低質(zhì)量產(chǎn)生的鎳膜的晶體顆粒之間發(fā)生許多裂紋。其次,實施金浸沒需要很長時間,以致在鎳表面上容易產(chǎn)生腐蝕并產(chǎn)生裂紋。
在影響化學鍍鎳的所有元素中,阻焊層脫穎而出的原因如下:
原因1:阻焊層的交叉鍵合和剛性不足,容易在銅表面留下污染物,從而阻止了活化反應的發(fā)生。在熱的化學鎳溶液中,會產(chǎn)生氫氣釋放出焊料掩膜單體。然后,它禁止化學鎳的反應并破壞化學平衡。
原因2:阻焊層不良的表面會導致焊盤表面劣化。
原因3:填充在微通孔中的阻焊層傾向于經(jīng)歷電化學反應,從而將阻止形成均勻的催化表面。
為了成功解決黑墊問題,可以采取三種措施:
措施1:應控制化學鎳溶液的pH值。
措施2:必須分析化學鎳溶液的穩(wěn)定劑含量。
措施3:浸金時應停止鎳表面腐蝕。
到目前為止,沉金技術(shù)的改進已取得了良好的效果。新開發(fā)的浸金技術(shù)不僅可以減少鎳表面的腐蝕,而且還有助于降低成本。與上一代的浸金溶液(pH = 4.5-5.5)相比,新一代的浸金溶液的pH值范圍為7.0至7.2,接近中性。中性液體在阻止氫離子腐蝕鎳表面方面表現(xiàn)最佳。而且,新一代浸金技術(shù)可以在較低的金溶液中實施,這使初始原材料的成本降低了50%至80%,并且對底層的鎳影響很小。
當談到柔性PCB的表面成型時,如果將當前的ENIG直接施加到柔性電路板上,則隨著基板彎曲,帶有層的鎳膜會產(chǎn)生裂紋,這將進一步導致底層銅的裂紋。為了適應柔性板的表面成型要求,新開發(fā)的化學鍍鎳技術(shù)能夠產(chǎn)生具有柱狀結(jié)構(gòu)的鎳膜。當基板彎曲時,在表面只能形成微裂紋,并且裂紋不會散布到底層的銅中。
上面列出的所有分析和措施僅適用于ENIG,而ENEPIG則不需要它們作為ENIG的升級版。
實際上,上述措施是由PCB制造商積累并測試的,可以滿足客戶對高可靠性和低成本的需求。一旦選擇了ENIG,即使由于我們以客戶為導向的原則而存在“嚴重”缺陷,我們?nèi)匀挥胸熑未_保其質(zhì)量。
ENIG和ENEPIG之間的應用比較
ENIG和ENEPIG應用領(lǐng)域因其獨特的優(yōu)勢而有所不同。ENIG適用于無鉛焊接,SMT(表面安裝技術(shù)),BGA(球柵陣列)封裝等。ENIG能夠提供的行業(yè)和產(chǎn)品包括數(shù)據(jù)/電信,高端消費者,航空航天,軍事和高性能設備和醫(yī)療行業(yè)。此外,由于其可靠性高,ENIG特別適用于柔性市場。
ENEPIG能夠滿足多種封裝的更嚴格要求,包括THT(通孔技術(shù)),SMT,BGA,引線鍵合,壓配合等。更好的是,ENEPIG還適用于具有不同封裝技術(shù)的PCB.因此,ENEPIG的應用領(lǐng)域可服務于對密度和可靠性有更高要求的航空航天,軍事和高性能設備以及醫(yī)療行業(yè)。
實際上,PCB板制造商的工作就是為客戶提供最優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品。作為PCB制造過程中的重要一步,高質(zhì)量的表面成型絕對決定了電路板的高質(zhì)量。因此,PCB制造商必須確保表面成型能夠滿足其所服務的電路板和最終產(chǎn)品所要求的要求。
技術(shù)與制造過程
要了解ENIG和ENEPIG的技術(shù)和制造工藝可能有些沉悶,但是它可以讓您確切地知道這兩種表面成型會發(fā)生什么。
1)ENIG的技術(shù)與制造工藝
ENIG中涉及三層金屬結(jié)構(gòu),包括銅,鎳和金。該過程主要包括:銅活化,ENP(化學鍍鎳)和浸金。
?銅活化
銅活化是在ENP中進行選擇性沉積的特權(quán)。需要置換反應,以便可以在充當催化表面的銅層上生成鈀的薄層。在PCB制造過程中,PdSO4和PdCl2通常用作具有以下反應式的活化劑:
Cu+Pd2+→Cu2++Pd
?ENP
在ENIG技術(shù)中,鎳層具有兩個功能。作為阻擋層,它可以阻止銅和金的相互擴散。另一方面,它會與錫反應,生成優(yōu)異的IMC(金屬間化合物)Ni3Sn4,從而可以確保良好的組裝可焊性。在催化表面的作用下,ENP通過與NaH2PO2作為還原劑的氧化還原反應導致鎳層的沉積。一旦鎳層完全被鈀催化表面覆蓋,單質(zhì)鎳就使鎳沉積繼續(xù)作為ENP的催化劑。
重要的是要指出的是,通過還原劑的水解所發(fā)射的原子狀態(tài)的活性氫的NaH很重要2PO2,使鎳2+還原成鎳的單質(zhì)情況H2PO2-磷的單質(zhì)。因此,ENIG技術(shù)中的ENP層實際上是鎳-磷合金層。該步驟的反應公式如下:
?2PO2-+ H2O→H ^++ HPO32-+ 2H
Ni2++ 2H→Ni↓+ 2H+
?2PO2-+ H→P↓+ OH-+ H2?
?2PO2-+ H2O→H ^2↑+ H++ HPO32-
?沉金
在ENIG技術(shù)中,金層的優(yōu)點是接觸電阻低,氧化機會少,強度高和抗磨擦,能夠滿足電路導電性要求并保護銅層和鎳層不被氧化,從而可以保證鎳層的可焊性。浸金是指通過置換反應在鎳層表面上生成金層,直到生成的金層完全被鎳層覆蓋后,置換反應才會停止。這就是為什么金層相對較薄。指示該步驟的反應公式如下:
2AU(CN)2+Ni→2AU +Ni2++ 4CN-
2)ENEPIG技術(shù)與制造流程
與ENIG不同,ENEPIG采用四層金屬結(jié)構(gòu),包括銅,鎳,鈀和金。ENEPIG的工藝與ENIG的工藝相同,只是在ENP和浸金之間添加了化學鍍鈀。
鈀層作為阻擋層添加到ENEPIG技術(shù)中,阻止了在金沉積和從鎳層向金層擴散的過程中溶液引起的鎳層腐蝕。同時,由于鈀層的致密性以增加可焊性,因此可以將其用作抗氧化層和抗腐蝕層。類似于化學鍍鎳,化學鍍鈀通過與作為還原劑的NaH2PO2的氧化還原反應導致鈀層的沉積。指示該步驟的反應公式如下:
?2PO2-+ H2O→H ^++ HPO32-+ 2H
鈀2++ 2H→鈀↓+ 2H+
?2PO2-+ H→第↓+ OH-+ H2?
?2PO2-+ H2O→H ^2↑+ H++ HPO32-
原文標題:PCB表面成型的介紹和比較
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