日前,據韓媒ETnews報道,韓國的光刻膠供應出現了短缺狀況,導致庫存量降低到了通常標準的3個月供應庫存以下。
韓國的光刻膠一向都主要靠日本廠商進口供給,沒有自給自足的能力,然而隨著半導體制程越來越成熟,對光刻膠的需求也越來越大,但是光刻膠的進口量卻沒有得到提升,導致了庫存量越來越少的結果。
據悉,一些韓國工廠的光刻膠庫存量已經只剩2個月的供應量,通常來說,如果庫存量低于3個月的供應量,那么廠商就要啟動緊急計劃來想辦法滿足供應,否則將會出現庫存不足而導致生產中斷的后果。
日本的光刻膠廠商牢牢地壟斷著光刻膠的市場,韓國光刻膠供應大部分都來自日本,然而隨著光刻膠價格上漲和日本出口管制政策的實施,雖然韓國本土的光刻膠廠商已經在努力提高產量,但光刻膠供應仍然無法滿足其半導體產業生產的需求。
綜合整理自 勢銀膜鏈 芯智訊 華爾街見聞
審核編輯 黃昊宇
聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。
舉報投訴
-
光刻膠
+關注
關注
10文章
318瀏覽量
30262
發布評論請先 登錄
相關推薦
一文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻膠
共讀好書關于常用光刻膠型號也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識星球,領取公眾號資料
如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠?
在微流控PDMS芯片加工的過程中,需要使用烘膠臺或者烤膠設備對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進行2-3次。本文簡要介紹SU-8
導致光刻膠變色的原因有哪些?
存儲時間 正膠和圖形反轉膠在存儲數月后會變暗,而且隨著儲存溫度升高而加速。因為該類型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見光譜的部分具有很強的吸收能力,對紫外靈敏度沒有任何影響。這種變色過程
光刻膠涂覆工藝—旋涂
為了確保光刻工藝的可重復性、可靠性和可接受性,必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠。光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中,是一種高粘度材料。根據工藝要求,有許多工藝可用于涂覆光刻膠。 旋涂是用
光刻膠的硬烘烤技術
根據光刻膠的應用工藝,我們可以采用適當的方法對已顯影的光刻膠結構進行處理以提高其化學或物理穩定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現整個光刻膠結構的熱交聯,稱為硬烘烤或者堅膜。或通過低劑量紫外線輻照
光刻膠的一般特性介紹
評價一款光刻膠是否適合某種應用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指標。光刻膠的靈敏度越高,所
光刻膠后烘技術
后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過程。由于光刻膠膜還未顯影,也就是說還未閉合,PEB也可以在高于光刻膠軟化溫度的情況下進行。前面的文章中我們在
光刻膠的保存和老化失效
我們在使用光刻膠的時候往往關注的重點是光刻膠的性能,但是有時候我們會忽略光刻膠的保存和壽命問題,其實這個問題應該在我們購買光刻膠前就應該提出并規劃好。并且,在
SU-8光刻膠起源、曝光、特性
在紫外光照射下,三芳基碘鹽光敏劑被激活,釋放活性碘離子。這些活性碘離子與SU-8光刻膠中的丙烯酸酯單體反應,引發單體之間的交聯反應,導致SU-8光刻膠在曝光區域形成凝膠化的圖案。
評論