GTC 2023 NVIDIA將加速計算引入半導體光刻 計算光刻技術提速40倍

NVIDIA cuLitho的計算光刻庫可以將計算光刻技術提速40倍。這對于半導體制造而言極大的提升了效率。甚至可以說為2nm及更先進芯片的生產提供更強大的助力。

計算光刻是芯片設計和制造領域中最大的計算工作負載，每年消耗數百億CPU小時。而NVIDIA cuLitho計算光刻庫利用GPU技術實現計算光刻，可以極大的降低功耗、節(jié)省時間。

目前臺積電、***制造商阿斯麥，以及EDA巨頭新思科技都已經導入NVIDIA cuLitho。

黃仁勛表示：“芯片行業(yè)是全球幾乎所有其他行業(yè)的基礎。光刻技術已臨近物理極限，NVIDIA cuLitho的推出以及我們與 TSMC、ASML 和 Synopsys的合作，使晶圓廠能夠提高產量、減少碳足跡并為2納米及更高工藝奠定基礎。”

cuLitho在GPU上運行，其性能比當前光刻技術工藝（通常指在硅晶圓上繪制電路）提高了40倍，能夠為目前每年消耗數百億CPU小時的大規(guī)模計算工作負載提供加速。

憑借這項技術，500個NVIDIA DGX H100系統(tǒng)即可完成原本需要4萬個CPU系統(tǒng)才能完成的工作，它們能夠同時運行計算光刻工藝的所有流程，助力降低耗電以及對環(huán)境的影響。

在短期內，使用cuLitho的晶圓廠每天的光掩模（芯片設計模板）產量可增加3-5倍，而耗電量可以比當前配置降低9倍。原本需要兩周時間才能完成的光掩模現在可以在一夜之間完成。

從長遠來看，cuLitho將帶來更好的設計規(guī)則、更高的密度和產量以及AI驅動的光刻技術。