內(nèi)容提要:
雙方協(xié)力加速 N3E 和 N2 節(jié)點上的人工智能、超大規(guī)模和移動 IC 開發(fā)
共同客戶積極使用 N3E 和 N2 的 PDK 進行設計
支持 TSMC 最新節(jié)點的 Cadence 流程提供了最佳的 PPA、簡易的模擬數(shù)據(jù)遷移并幫助加快產(chǎn)品上市
楷登電子(美國 Cadence 公司,NASDAQ:CDNS)近日宣布,Cadence 數(shù)字和定制/模擬設計流程已通過 TSMC N3E 和 N2 先進工藝的設計規(guī)則手冊(DRM)認證。兩家公司還發(fā)布了相應的 N3E 和 N2 制程設計套件(PDK),以加快在上述節(jié)點的移動、人工智能和超大規(guī)模計算的 IC 設計創(chuàng)新。客戶已開始積極使用這些新的工藝節(jié)點和經(jīng)過認證的 Cadence流程來實現(xiàn)功率、性能和面積(PPA)目標,簡化模擬遷移過程,并縮短上市時間。
N3E 和 N2 工藝的數(shù)字全流程認證
Cadence 和 TSMC 緊密合作,確保其完整的 RTL-to-GDS 流程符合 TSMC 的 N3E 和 N2 節(jié)點要求,其中包括Innovus Implementation System、Quantus Extraction Solution 和 Quantus Field Solver、TempusTiming Signoff Solution 和 ECO Option、PegasusVerification System、LiberateCharacterization Portfolio、VoltusIC Power Integrity Solution 以及 Voltus-Fi Custom Power Integrity Solution。GenusSynthesis Solution 結(jié)合預測性質(zhì)的 iSpatial 技術也支持最新的 N3E 和 N2 技術。
完整的 Cadence 數(shù)字實現(xiàn)和簽核流程支持一系列新的設計特征,包括為了在 N3E 節(jié)點上實現(xiàn)最佳 PPA 結(jié)果,從綜合到簽核工程變更命令(ECO)都可以使用原生的混合單元行優(yōu)化技術;以及對單元引腳對齊和連接的支持。該流程可供客戶快速采用,以便他們體驗最新的 TSMC N3E 和 N2 工藝技術所帶來的優(yōu)勢。
N3E 和 N2 定制/模擬流程認證
Cadence Virtuoso Studio,包括 Virtuoso Schematic Editor、Virtuoso ADE Suite 和 Virtuoso Layout Suite,以及 SpectreSimulation Platform,包括 Spectre X Simulator、Spectre Accelerated Parallel Simulator (APS)、Spectre eXtensive Partitioning Simulator (XPS) 和 Spectre RF Option,這些產(chǎn)品在管理工藝角仿真、統(tǒng)計分析、設計中心化和電路優(yōu)化上均做了改進。最新的 Virtuoso ADE Suite 架構(gòu)能夠在現(xiàn)代計算集群或公有云/私有云中并行運行多達數(shù)千個仿真點,從而幫助用戶優(yōu)化設計。
Virtuoso Layout Suite 包含多項創(chuàng)新,旨在提供更高效的 IC layout,以提供更好的性能和擴展性;基于網(wǎng)格的結(jié)構(gòu)化器件擺放方法,在布局、布線、填充和 dummy 的插入上具有互動式的助理功能;一個新的器件級自動布線工具,旨在解決先進制程節(jié)點上的挑戰(zhàn);在 TSMC 先進制程節(jié)點上跨節(jié)點移植定制設計和 layout,具有增強的模擬遷移和 layout 重用功能;集成的寄生參數(shù)提取和 EM-IR 檢查;以及結(jié)合 Pegasus Verification Solution,進行集成式簽核級別的物理驗證能力。
“我們的客戶能夠使用已通過最先進的 N3E 和 N2 工藝認證的設計工具,這至關重要。他們可以享受最新工藝革新帶來的顯著功耗和性能提升。”TSMC 設計基礎設施管理部主管 Dan Kochpatcharin表示,“通過與 Cadence 的持續(xù)合作,我們一直在尋找新的方法,來為客戶提供價值。這些客戶每日都在努力將下一代芯片創(chuàng)新帶入生活。”
“Cadence 和 TSMC 都致力于推動技術進步,塑造電子設計的未來,助力工程師們實現(xiàn) PPA 和生產(chǎn)力目標,”Cadence 公司資深副總裁兼數(shù)字與簽核事業(yè)部總經(jīng)理 Chin-Chi Teng 博士表示,“隨著芯片需求持續(xù)增長,創(chuàng)新的步伐也必須跟上。我們非常有信心,使用我們的數(shù)字和定制/模擬設計流程,加上 TSMC 的 N3E 和 N2 技術,客戶一定能夠?qū)崿F(xiàn)設計成功。”
Cadence 的數(shù)字和定制/模擬設計流程支持 Cadence 的智能系統(tǒng)設計(Intelligent System Design)戰(zhàn)略,旨在實現(xiàn)系統(tǒng)級芯片(SoC)的卓越設計。
關于 Cadence
Cadence 是電子系統(tǒng)設計領域的關鍵領導者,擁有超過 30 年的計算軟件專業(yè)積累。基于公司的智能系統(tǒng)設計戰(zhàn)略,Cadence 致力于提供軟件、硬件和 IP 產(chǎn)品,助力電子設計概念成為現(xiàn)實。Cadence 的客戶遍布全球,皆為最具創(chuàng)新能力的企業(yè),他們向超大規(guī)模計算、5G 通訊、汽車、移動設備、航空、消費電子、工業(yè)和醫(yī)療等最具活力的應用市場交付從芯片、電路板到完整系統(tǒng)的卓越電子產(chǎn)品。Cadence 已連續(xù)九年名列美國財富雜志評選的 100 家最適合工作的公司。
審核編輯:湯梓紅
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原文標題:Cadence 數(shù)字和定制/模擬設計流程獲得 TSMC 最新 N3E 和 N2 工藝技術認證
文章出處:【微信號:gh_fca7f1c2678a,微信公眾號:Cadence楷登】歡迎添加關注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。
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