電弧離子鍍是一種高能沉積工藝。基體為陽(yáng)極，電弧靶為陰極?；陉帢O真空電弧放電原理進(jìn)行鍍膜。

鍍膜時(shí)，電弧針在磁場(chǎng)的作用下移動(dòng)到靶面，使周圍的氣體分子電離并點(diǎn)燃電弧源，陰極靶面上出現(xiàn)大量的陰極弧斑，這些弧斑在靶面上迅速進(jìn)行不規(guī)則地移動(dòng)，并引起電弧靶燃燒，使陰極靶表面蒸發(fā)并發(fā)生電離，從而產(chǎn)生大量金屬正離子。

這些金屬離子一方面維持著電弧靶的電弧放電，另一方面在負(fù)偏壓作用下，它們直接沉積在基底上或與其他離子結(jié)合沉積在基底上。

在電弧離子鍍中，由于電弧等離子體是從靶材中發(fā)射并電離的致密金屬物質(zhì)，具有裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、金屬電離率高、膜基結(jié)合力強(qiáng)、沉積離子能量高等優(yōu)點(diǎn)。

然而，電弧離子鍍存在著基體負(fù)偏壓大、粒子攜帶能量大、鍍層應(yīng)力大、對(duì)基體材料有一定損傷等缺點(diǎn)。

除此之外，比較大的問(wèn)題是在實(shí)驗(yàn)過(guò)程中會(huì)有大量的金屬液滴沉積在薄膜表面，這些大液滴有的只是簡(jiǎn)單的附著在薄膜表面，有的則會(huì)穿透整個(gè)膜表層，從而增加了膜層的表面粗糙度，產(chǎn)生了內(nèi)部缺陷，進(jìn)而影響薄膜的光學(xué)性能。

這些金屬液滴形成的主要原因是在沉積薄膜時(shí)，電弧放電所產(chǎn)生的局部高溫會(huì)在靶材表面產(chǎn)生一些微小的熔池，熔出大液滴并沉積在基底上。一般來(lái)說(shuō)，在多弧離子鍍?cè)O(shè)備中，真空度、負(fù)偏壓、溫度和蒸發(fā)距離等都是影響薄膜生長(zhǎng)的關(guān)鍵因素。

隨著科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步和高端制造業(yè)的發(fā)展，電弧離子鍍技術(shù)取得了很大的進(jìn)步，可以制備出結(jié)構(gòu)和性能更好的薄膜。

在機(jī)器視覺(jué)和半導(dǎo)體設(shè)備、3D成像和打印、太陽(yáng)能和光伏發(fā)電、生命科學(xué)和醫(yī)療等產(chǎn)品的研發(fā)過(guò)程中，我們經(jīng)常需要一些比較精密的LED光源，目前市場(chǎng)上主要是LED+導(dǎo)光板的簡(jiǎn)單形狀組合，在過(guò)去的時(shí)代尚能使用，在AI時(shí)代，達(dá)到光學(xué)精度級(jí)別的光源才能滿足您的需求。

以下是為您推出的一些精密的光學(xué)精度的光源系列產(chǎn)品：LumiPro3D

(工業(yè)和商業(yè))

具有廣闊的景深和高分辨率成像 (NA0.11, f/4.5)，可在455-460nm的尺寸下進(jìn)行脈沖操作。這款帶有偽隨機(jī)點(diǎn)云網(wǎng)紋可用于立體視覺(jué)的強(qiáng)大圖案投影儀是滿足您3D掃描需求的解決方案。

Lumi3D

(工業(yè)和商業(yè))

具有25-32W的紫外線功率。 單個(gè)照明器的多光譜輸出，可快速斷開(kāi)連接，實(shí)現(xiàn)無(wú)溢出耦合。專為DLP9000設(shè)計(jì), 包裝中含有專用驅(qū)動(dòng)器/控制器。

LumiBright

(醫(yī)藥和生命科學(xué)，工業(yè)和商業(yè))

具有非成像光學(xué)器件，可將 LED陣列發(fā)出的光線引導(dǎo)至所需的錐角，具有高度均勻的照明。光功率高達(dá) 30W / 4000 流明，范圍從紫外光到近紅外光。

LumiFiber

(醫(yī)藥和生命科學(xué)，工業(yè)和商業(yè))

具有強(qiáng)而穩(wěn)定的光功率，是光纖應(yīng)用的理想選擇。 支持最大2mm的光纖束。 高達(dá)25W的紫外光至近紅外光。專為SMA905連接器或?qū)舆B接器而設(shè)計(jì)。

LumiBlaze

(工業(yè)和商業(yè))

定制鏡頭具有多種波長(zhǎng)選擇，具有高均勻性和高亮度的特點(diǎn)，適合在光線充足的地方使用。操作模式包括CW、PWM 模式和脈沖模式。

LumiBlazeR

(工業(yè)和商業(yè))

具有多個(gè)領(lǐng)域可更換的精密標(biāo)線選項(xiàng)與標(biāo)準(zhǔn)或自定義模式，專為1英寸C型鏡頭設(shè)計(jì)，能進(jìn)行高強(qiáng)度的長(zhǎng)距離工作，操作模式包括CW、PWM 模式和脈沖模式。

LumiFlood & LumiLine

(工業(yè)和商業(yè))

具有高度均勻的輸出、緊湊而堅(jiān)固的設(shè)計(jì)適用于紫外線固化和其他可見(jiàn)應(yīng)用。50x50mm，工作距離為27mm。

LumiPro

(醫(yī)藥和生命科學(xué))

具有可調(diào)節(jié)焦距和集成濾光片選項(xiàng)。可在一個(gè)單元中應(yīng)用單波長(zhǎng)或多波長(zhǎng)?？蓡为?dú)尋址的波長(zhǎng)。

LumiXP

(微電子與半導(dǎo)體)

具有高均勻性和高功率的特點(diǎn)，可實(shí)現(xiàn)快速生產(chǎn)。用于接觸式曝光系統(tǒng)。在一個(gè)單元內(nèi)可混合使用各種波長(zhǎng)。金屬模具可單獨(dú)尋址。

LumiDL

(微電子和半導(dǎo)體，工業(yè)和商業(yè))

具有高輻射功率(>30W)的特點(diǎn)，可從單個(gè)照明器輸出多波長(zhǎng)。具有快速斷開(kāi)的無(wú)泄漏接頭。DLP9500和DLP7000在DMD上能高均勻度輸出。

LumiSpectra

(醫(yī)藥和生命科學(xué)，工業(yè)和商業(yè))

具有兩種不同的選擇：透鏡和光纖(最大6mm)。 輻射功率輸出>0.30mW/(nm-mm2- sr)連續(xù)光譜為400nm-990nm，可擴(kuò)展至 1700nm。

LumiSunTM-50

(太陽(yáng)能和光伏發(fā)電)

具有符合 IEC AAA 級(jí)標(biāo)準(zhǔn)且輸出光譜可調(diào)節(jié)的特點(diǎn)。采用多光譜 LED 和用戶友好型的前面板 GUI，提供 0.1 至1.5 SUNS 的均勻和穩(wěn)定的照明。50x50 mm。

LumiSunTM-OEM

(太陽(yáng)能和光伏發(fā)電)

具有0.4 至 1.5 SUNS 的輻照度，適用于光伏電池測(cè)試和研究、光化學(xué)、生物學(xué)以及材料測(cè)試。不含汞和臭氧，可用于硅或CdTe光譜的型號(hào)。 50x50 mm。

審核編輯：湯梓紅