在半導體制程中，一系列復雜的先進材料和環境控制的相互作用，致使每種材料和環境控制均須符合純度標準才能確保晶圓良率和器件可靠性。在不破壞材料成分的情況下，分析相互作用的影響因素，從而去除特定微污染物的過程，即稱為定向去除。

Entegris 采用整體方法來保障每個制程和整個半導體供應鏈中的準確性，從而為您節省時間和資金。以下說明工作原理。

什么是定向去除？

幾乎所有進入晶圓廠的物質，包括液體、氣體和環境空氣，都有可能攜帶污染物，會對晶圓和器件的性能造成不利影響。每個制程區域對每種污染物的敏感度各不相同。在不破壞成分的情況下，定向去除微污染物需要格外謹慎。定向去除模型可以識別各種微污染物的威脅，從而保持材料原有的平衡狀態。示例如下：

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構建定向去除模型

要構建用于執行和測量純度的模型，全程需要半導體供應鏈中的所有成員通力合作。

01

確定每個制程中的定向微污染物和敏感度水平以了解晶圓廠概況

02

識別并去除材料純度破壞的風險以保持材料性能

03

分析在指定制程中相互作用的所有材料以及對整個晶圓廠的影響

04

根據以往經驗推薦每個制程區域適用的過濾器和/或純化器

05

測試并驗證解決方案的有效性

助力半導體制造高效除污

Entegris 提供廣泛的材料純度專業知識和系統化方法，可在整個晶圓廠生態系統中構建高效的定向去除工藝。