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“超越摩爾”新進展,2023 SITRI DAY發布“MEMS標準工藝模塊”和“90nm硅光集成工藝”

Felix分析 ? 來源:電子發燒友網 ? 作者:吳子鵬 ? 2023-12-06 01:04 ? 次閱讀

電子發燒友網報道(文/吳子鵬)隨著摩爾定律的進一步發展,近些年半導體產業界一直都在探尋新路徑,以求在芯片設計上繼續保持高效、高速的發展。在后摩爾定律時代,“超越摩爾”(More than Moore)和“深度摩爾”(More Moore)、“新器件”(Beyond CMOS)是主要的三大發展方向。

2023年12月1日,2023上海國際微技術研究與創新論壇(2023 SITRI DAY),暨上海工研院十周年慶、第四屆菊園科技創新論壇、MEMS WORLD SUMMIT活動在科創之城——上海嘉定順利舉辦。此次大會的主要議題就是“超越摩爾”。


2023 SITRI DAY主論壇


此次會議邀請了多位產業界的重磅嘉賓,包括中國科學院院士祝世寧教授、中國科學院院士褚君浩教授、中國工程院院士吳漢明教授、歐洲科學院及比利時皇家學院雙料院士Johan Hofkens教授、加拿大皇家科學院及工程院兩院院士Andreas Mandelis教授、法國國家醫學科學院外籍通訊院士及上海交通大學醫學院沈柏用教授、教育部長江學者及上海交通大學物理與天文學院金賢敏教授、德國弗勞恩霍夫光電微系統研究所(Fraunhofer IPMS)副所長J?rg Amelung先生、國際傳感器行業協會(全球董事)及萬物云首席科學家丁險峰先生等,并且有來自博世、TDK、廣東增芯、賽微電子等眾多在MEMS技術有獨特造詣的企業派代表參加。

在“超越摩爾”路線上,MEMS工藝和硅光工藝是極具代表性的工藝技術。

作為一種“超越摩爾”技術,MEMS工藝往往意味著微型化、多功能、多方面應用的微型傳感器制造技術,通過微納加工工藝進行批量制造、封裝、測試,MEMS傳感器器件可以廣泛應用于汽車、消費電子工業、醫療、航空航天、通信等領域。

既然是“超越摩爾”技術,MEMS工藝當然有其特殊性,和傳統邏輯產品、存儲器以及模擬產品的生產工藝有很大的不同,MEMS是微機電加工技術,為各種各樣的聲、光、電、機械、生物等等傳感器制造工藝需要適應信號傳感的各種性能,并不局限于電信號的處理,因此具有非常強的工藝和材料獨特性。

當然,MEMS工藝涉及的領域非常廣泛,有很大的發展機遇,但也就會伴隨巨大的挑戰。MEMS是一個涉及機械、感知、電子、物理、生物、材料、傳感等多學科交叉的領域,因此掌握這門工藝并不容易。

和MEMS工藝一樣,硅光子技術也是“超越摩爾”的重要賽道之一,是指利用大規模半導體(CMOS)制造工藝平臺,在絕緣體上硅(SOI)或硅片上集成各類光電器件,進而形成具有特定功能的集成芯片。憑借集成、性能和成本優勢,其在光通信、數據中心、超級計算機、自動駕駛、光電計算以及國防裝備等大量既提高國家硬實力,又具有顛覆性地改變人們生活觀念的巨大市場有廣泛應用前景。

值得慶賀的是,2023 SITRI DAY上,上海工研院發布了“MEMS標準工藝模塊”以及“90nm硅光集成工藝”兩項“超越摩爾”技術成果,幫助整個行業更好地應對上述挑戰。兩項成果均來自上海工研院承擔的國家及市級重大專項所取得的階段性成果,可為中小企業提供MEMS制造和硅光子器件的標準化工藝,大幅提高產品設計效率,其中硅光集成工藝器件庫更是達到國際領先水平。



“MEMS標準工藝模塊”以及“90nm硅光集成工藝”成果發布


根據相關報道和官網信息,上海微技術工業研究院(SITRI)成立于2013年,由上海市科委、嘉定區和中國科學院上海微系統與信息技術研究所發起成立。2017年,SITRI建成全國首條8英寸“超越摩爾”研發中試線,提供MEMS、硅光、生物芯片等“超越摩爾”核心工藝技術。截至目前,SITRI已累計申請專利857項,發明專利655項,其中PCT(國際專利)專利54項。

成果發布儀式后,SITRI與摩侖科技、上海汽車芯片工程中心、聯影微電子、國家信息光電子中心、浙江大學微納電子學院、上海精測、增芯科技、利揚芯片、煒盛科技及大立科技等“超越摩爾”集成電路生態圈戰略合作伙伴代表簽訂戰略合作協議,旨在打通長三角與粵港澳大灣區以及中部地區產業區域限制,實現從設備、芯片生產、設計到封裝測試的全產業鏈布局,助力上海“超越摩爾”集成電路產業高質量發展。

中國科學院上海微系統所所長、上海工研院董事長謝曉明研究員表示,SITRI繼續探索“超越摩爾”技術研發與轉化以及產業生態建設路徑,充分發揮銜接科研和產業以及產業技術策源的功能,為相關企業提供高水平的技術供給和高質量的技術服務。


中國科學院上海微系統所所長、上海工研院董事長謝曉明研究員

小結

MEMS工藝和硅光工藝的特殊性注定這個領域會有一定的準入門檻,SITRI提供的全國首條8英寸“超越摩爾”研發中試線,發布的“MEMS標準工藝模塊”和“90nm硅光集成工藝”兩項“超越摩爾”技術成果,以及參與成立的“超越摩爾”集成電路生態圈,將對行業發展起到積極、明顯的推動作用。目前,“超越摩爾”技術已經取得非凡的成就,未來仍大有可為。

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