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imec虛擬晶圓廠可量化IC制造對環(huán)境的影響

半導(dǎo)體芯科技SiSC ? 來源: 半導(dǎo)體芯科技SiSC ? 作者: 半導(dǎo)體芯科技Si ? 2024-02-26 12:15 ? 次閱讀

來源:《半導(dǎo)體芯科技》

納米電子和數(shù)字技術(shù)研究和創(chuàng)新中心imec已經(jīng)推出了公眾可以免費(fèi)訪問的imec.netzero虛擬工廠版本。該工具提供了IC制造對環(huán)境影響的量化視圖,為學(xué)者、政策制定者和設(shè)計(jì)人員提供了寶貴的見解。通過發(fā)布此免費(fèi)網(wǎng)絡(luò)應(yīng)用程序,imec旨在支持半導(dǎo)體行業(yè)以及整個(gè)半導(dǎo)體供應(yīng)鏈減少對環(huán)境的影響。

半導(dǎo)體制造是一個(gè)復(fù)雜的過程,具有多種環(huán)境影響;從高能源消耗到稀缺材料的使用和溫室氣體排放。考慮到市場的增長和巴黎協(xié)議針對氣候變化的目標(biāo),該行業(yè)正致力于優(yōu)化工藝流程。然而,為了確定和減輕對環(huán)境影響較大的工藝或技術(shù),需要大量數(shù)據(jù)。

這一問題在imec的可持續(xù)半導(dǎo)體技術(shù)和系統(tǒng)(Sustainable Semiconductor Technologies and Systems,SSTS)研究計(jì)劃中得以解決。SSTS是一個(gè)涉及整個(gè)半導(dǎo)體生態(tài)系統(tǒng)的協(xié)作框架,從電子產(chǎn)品的最終用戶到晶圓廠、代工廠、材料和設(shè)備制造商,與學(xué)術(shù)界和政府合作一起合作的。

為了準(zhǔn)確量化IC制造對環(huán)境的影響,imec開發(fā)了一個(gè)名為imec.netzero的虛擬工廠。該網(wǎng)絡(luò)應(yīng)用程序利用來自其自己晶圓廠的數(shù)據(jù),并不斷與來自設(shè)備、材料和晶圓廠合作伙伴(例如液化空氣、應(yīng)用材料、ASM、ASML、Edwards、Kurita、Lam Research、SCREEN、Tokyo Electron、GlobalFoundries、三星電子和臺(tái)積電等)的數(shù)據(jù)進(jìn)行基準(zhǔn)測試。該虛擬工廠遵循生命周期評估方法,收集和分析制造IC的每個(gè)工藝步驟中使用的能源、材料、化學(xué)品、氣體和其他資源的數(shù)據(jù)。合作伙伴可以訪問自己專用的imec.netzero軟件應(yīng)用程序,該應(yīng)用程序提供詳細(xì)的分析,以量化當(dāng)前和未來IC技術(shù)的具體排放和其他環(huán)境影響,從而提供切實(shí)的行動(dòng)建議。

現(xiàn)在,imec希望該虛擬晶圓廠工具可以覆蓋更廣泛的受眾。imec.netzero公共版本可以訪問與imec.netzero Private相同的晶圓廠模型和工藝數(shù)據(jù)庫。雖然該網(wǎng)絡(luò)應(yīng)用程序受到一些限制(例如,僅限于當(dāng)前技術(shù)和《溫室氣體協(xié)議》的范圍1+2),但它提供了獨(dú)特的數(shù)據(jù)見解,以前公眾無法訪問。例如,可以根據(jù)不同地理位置的制造情況,為多種邏輯和存儲(chǔ)技術(shù)(從N28開始)生成氣候變化(二氧化碳排放量)、電能消耗或總用水量的可視化演示。

imec項(xiàng)目經(jīng)理Cédric Rolin解釋道:“我們的目標(biāo)是提供有關(guān)IC制造對環(huán)境影響的透明且高質(zhì)量的數(shù)據(jù),不限于半導(dǎo)體供應(yīng)鏈和我們的SSTS計(jì)劃。我們的工具超越了現(xiàn)有的文獻(xiàn),為尋求行業(yè)影響數(shù)據(jù)的產(chǎn)品設(shè)計(jì)師、環(huán)境研究人員和政策制定者提供了價(jià)值。”

審核編輯 黃宇

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