存儲三強的競爭更加激烈了。
美光(Micron)宣布開始量產(chǎn)HBM3E高帶寬內(nèi)存。美光稱,其HBM3E的功耗將比競爭對手的產(chǎn)品低30%。
據(jù)悉,美光的HBM3E將應用于英偉達下一代AI芯片H200 Tensor Core GPU。之前英偉達的HBM由SK海力士獨家供應,如今美光、三星都將加入。
HBM(High Bandwidth Memory)即高帶寬存儲器,屬于圖形DDR內(nèi)存的一種,通過使用先進的封裝方法(如TSV硅通孔技術(shù))垂直堆疊多個DRAM,與GPU通過中介層互聯(lián)封裝在一起。HBM的優(yōu)點在于打破了內(nèi)存帶寬及功耗瓶頸。CPU處理的任務類型更多,且更具隨機性,對速率及延遲更為敏感,HBM特性更適合搭配GPU進行密集數(shù)據(jù)的處理運算,英偉達新一代AI芯片,均搭載HBM內(nèi)存。
HBM產(chǎn)品問世至今,HBM技術(shù)已經(jīng)發(fā)展至第四代,分別為HBM、HBM2、HBM2E、HBM3,第五代HBM3E目前已量產(chǎn),HBM被認為是人工智能時代的新一代DRAM。
HBM方案作為近存計算的典型技術(shù),可以改善存算分離導致的“存儲墻”問題,即存儲單元的帶寬問題、存儲單元與計算單元數(shù)據(jù)傳輸?shù)哪苄栴},并且,HBM中Die裸片的垂直堆疊也增大了容量。因此,在存算一體真正落地之前,HBM技術(shù)是契合當前GPU對更多內(nèi)存、更高帶寬需求的最佳方案。
HBM的特點是大容量、高帶寬(帶寬用于衡量DRAM傳輸數(shù)據(jù)的速率,是核心技術(shù)指標),它將多個DDR裸片堆疊在一起后和GPU封裝在一起,實現(xiàn)大容量、高位寬的DDR組合陣列。
2013年,SK海力士率先推出HBM1,HBM1每個堆棧的帶寬為128GB/s、支持4個DRAM堆棧集成,容量為每堆棧4GB。2017年,SK海力士推出了HBM2,它的帶寬和容量與HBM1相比實現(xiàn)翻倍增長。2018年,JEDEC推出了HBM2e規(guī)范,HBM2e可以實現(xiàn)每堆棧461GB/s的帶寬。SK海力士于2022上半年開始量產(chǎn)HBM3,帶寬達到819.2 GB/s,支持12個DRAM堆棧集成,容量達每堆棧24GB。2023年,主流市場需求從HBM2e轉(zhuǎn)向HBM3,HBM3需求占比提升至39%,隨著使用HBM3的加速芯片陸續(xù)放量,預計2024年HBM3的市場需求占比將達到60%。
2023年底,英偉達發(fā)布了DGX GH200,進一步推升了AI服務器對內(nèi)存性能的需求,DGX GH200共鏈接了256個Grace Hopper超級芯片,具有144TB的共享內(nèi)存,GH200單卡配備了480GB LPDDR5內(nèi)存和96GB的HBM顯存,而在上一代DGX H100服務器中,平均單個H100芯片對應256GB內(nèi)存和80GB的HBM。二者對比,GH200方案的內(nèi)存容量有顯著提升。
TrendForce認為,英偉達正在規(guī)劃更多HBM供應商,美光、SK海力士、三星都已于2023年陸續(xù)提供了8hi(24GB)樣品,三星的HBM3(24GB)已經(jīng)在2023年底完成驗證。
由于HBM的驗證過程繁瑣,預計耗時兩個季度,以上三大內(nèi)存原廠都預計于2024年第一季完成驗證。各原廠的HBM3e驗證結(jié)果,也將決定英偉達2024年HBM供應商的采購權(quán)重分配。
英偉達2023年的高端AI芯片(采用HBM的)的既有產(chǎn)品為A100、A800和H100、H800,2024年,除了上述型號外,該公司還將推出使用6個HBM3e的H200和8個HBM3e的B100,并同步整合自家基于Arm架構(gòu)的 CPU,推出GH200和GB200。
2024年,AMD將重點出貨MI300系列,采用HBM3,下一代MI350將采用HBM3e,將在2024下半年開始進行HBM驗證,預計大規(guī)模量產(chǎn)時間將出現(xiàn)在2025年第一季度。
英特爾方面,2022下半年推出了Habana Gaudi 2,采用6個HBM2e,預計2024年新型號Gaudi 3將繼續(xù)采取HBM2e,但用量將升級至8個。
1月下旬,SK海力士公布了HBM發(fā)展路線圖,該公司副總裁Kim Chun-hwan透露,計劃在2024上半年量產(chǎn)HBM3e,并向客戶交付8層堆疊樣品,在6層堆棧HBM3e配置中,每層堆棧可提供1.2 TB/s的通信帶寬,8層堆疊將進一步提升HBM內(nèi)存的帶寬。
Kim Chun-hwan表示,在不斷升級的客戶期望的推動下,存儲行業(yè)正在面臨激烈的生存競爭。隨著制程工藝節(jié)點的縮小接近極限,存儲器廠商越來越關(guān)注新一代存儲架構(gòu)和工藝,以給客戶應用系統(tǒng)提供更高的性能。為此,SK海力士已經(jīng)啟動了HBM4的開發(fā),計劃于2025年提供樣品,并于次年量產(chǎn)。
根據(jù)美光提供的信息,與前幾代HBM相比,HBM4每層堆棧的理論峰值帶寬將超過1.5 TB/s。為了實現(xiàn)這樣的帶寬,在保持合理功耗的同時,HBM4的目標是實現(xiàn)大約6GT/s的數(shù)據(jù)傳輸速率。
三星也有發(fā)展HBM4的時間表,計劃于2025年提供樣品,并于2026年量產(chǎn)。據(jù)三星高管Jaejune Kim透露,該公司HBM產(chǎn)量的一半以上是定制化產(chǎn)品,未來,定制HBM方案的市場規(guī)模將進一步擴大。通過邏輯集成,量身定制的HBM對于滿足客戶個性化需求至關(guān)重要。
一些市場觀察人士表示,三星在HBM芯片開發(fā)方面落后于SK海力士,為了在新接口標準CXL開發(fā)中占據(jù)優(yōu)勢地位,三星加快了技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)品布局。
審核編輯:劉清
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原文標題:美光量產(chǎn)HBM3E內(nèi)存,功耗比對手產(chǎn)品低30%
文章出處:【微信號:ICViews,微信公眾號:半導體產(chǎn)業(yè)縱橫】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。
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