光學測量是利用光的性質如光的傳播、反射、折射、干涉、衍射等，進行長度、形狀、角度、顏色等精確測量的非接觸式測量技術，在工業、醫療、航空航天等領域獲得廣泛的應用。隨著技術的不斷進步與革新，光學測量技術在向更高精度、更高效的方向發展，芯明天納米定位臺以其高精度和快速的響應速度特點，在光學測量技術中提供納米級精密定位，可使測量結果更精確。

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P60.X200系列高精度一維壓電納米定位臺

P60.X200系列壓電納米定位臺采用機構放大設計原理，柔性鉸鏈連接支撐傳動，內部采用高可靠性壓電陶瓷驅動，可產生一維X軸直線運動，位移可達200μm，分辨率可達2nm，承載可達1.3kg，開環狀態下，空載階躍時間可達30ms，可配置閉環傳感實現高精度掃描與定位。P60.X200系列壓電納米定位臺為一維X向運動平臺，可以通過疊加轉接的方式實現二維、三維運動。產品外觀如下所示。

產品特點

一維X向運動，行程可達200μm

承載可達1.3kg

分辨率可達2nm

開/閉環可選，真空版本可選

可組多維使用

產品應用

光學測量

光學檢測

顯微掃描

激光干涉

生物科技

技術參數

配套控制器

E53.D系列壓電控制器非常適用于驅動P60.X200系列壓電納米定位臺。E53.D系列是針對小體積應用要求而設計的單通道控制器，體積小巧，外形尺寸僅為148×27.5×80mm^3，重量為350g，供電電壓24VDC/1A。機身帶有散熱區域，可迅速導出產生的熱量，上位機軟件支持二次開發，體積小巧，易于集成。

審核編輯 黃宇