光刻系統(tǒng)供應商ASML 22日對外公布2017年第四季業(yè)績，其銷售額創(chuàng)造新單季紀錄，此外還新接10臺新一代極紫外（EUV）光刻設備訂單。ASML表示，2017年全年中國光刻設備銷售額增長超過20％；2018年，將繼續(xù)支持中國發(fā)展半導體產(chǎn)業(yè)，除了向非中國客戶在中國的晶圓廠出貨，ASML也計劃向5家中國本土晶圓廠客戶出貨。

ASML 2017年第四季業(yè)績創(chuàng)新高

ASML目前在光刻系統(tǒng)領域全球市占率逾8成。其業(yè)績對于半導體廠的先進制程極具指標作用。

根據(jù)ASML最新公布財報顯示，2017年銷售額90.5億歐元（約合110.4億美元），比2016年增長33％；2017年實現(xiàn)利潤21.2億歐元（約合25.9億美元），比2016年增長44％。

若單看第四季度，ASML總銷售額為25.6億歐元（約合31.2億美元），比第三季度增長4％毛利率45.2％；季度凈收入為6.44億歐元（約合7.86億美元），比第三季度增長16％。

2017年光學光刻工具的出貨量也大幅增長。該公司表示，光刻系統(tǒng)出貨量比2016年增長了21％，達到了161臺。

ASML還預計，2018年第一季度銷售額約為22億歐元（約合27億美元）毛利率47％至48％。

EUV供不應求 累積訂單高達28臺

ASML在第四季度ASML獲得了額外的10個極紫外(EUV)系統(tǒng)訂單，在這一年中，累積在手里積壓的EUV設備訂單已高達28臺，顯示該市場極為搶手，供不應求。

ASML總裁兼首席執(zhí)行官Peter Wennink對外表示， “EUV進入大批量芯片制造的準備工作將進一步加快”。由于來自大客戶的裝機壓力，ASML于第四季度提前交付了客戶要求的兩臺EUV光刻系統(tǒng)。同時也促成了第四季度業(yè)績的強勢增長。

Peter Wennink說，兩套EUV系統(tǒng)營收早于預期，隨著EUV銷售額已突破11億歐元大關，將EUV引入大批量芯片制造的準備工作在2017年進展地“如火如荼”。

外界預料，三星和臺積電都宣布將在2018年試生產(chǎn)內含EUV技術的圓晶制程，Intel不是目前第一個采用EUV技術量產(chǎn)圓晶的企業(yè)，但將來， Intel或許會是采購最多EUV設備的公司。此外三星也傳出以重金包下EUV訂單，來防堵競爭對手臺積電的設備采購。以上客戶積極搶下EUV訂單都是推助EUV新訂單的動力。

從2016年僅四臺出貨量，到2017年交付10臺EUV系統(tǒng)，EUV將在2018到2019年大量被客戶裝機批量生產(chǎn)。市場機構也預測，2019年市場規(guī)模將達到突破30億美元以上。

關鍵零件供給有限 賣方市場吃香

艾司摩爾（ASML）已積壓大量訂單在手。有媒體指出，艾司摩爾EUV設備生產(chǎn)出貨受限的主因，就是來自光學鏡頭供應商蔡司（Carl Zeiss）供貨進度跟不上需求所致。

在2017年美國舊金山舉行的2017年度Semicon West半導體設備展期間，ASML也已宣布達成了最重要且長期難以突破的里程碑：250瓦(watt)的EUV光源。

光源功率(source power)──直接等同于生產(chǎn)力，芯片制造商一直以來都堅持250瓦光源功率是達成每小時125片晶圓(WPH)生產(chǎn)量的必要條件，主要是ASML與光源技術供貨商Cymer。

ASML表示，目前EUV采無缺陷EUV光罩保護薄膜、已實現(xiàn)了2納米EUV-to-DUV套刻精度匹配，能夠符合5納米邏輯節(jié)點要求。

看好中國本土客戶供貨進展

展望2018年，ASML認為持續(xù)充滿希望。2018年第一季度，ASML預測凈銷售額將達到22億歐元左右，毛利率在47％至48％之間，研發(fā)投入約為3.5億歐元，SG＆A的成本約為1.15億歐元，目標實現(xiàn)有效年化稅率約14％。

針對中國市場隨著不斷擴張的國內半導體產(chǎn)業(yè)，2017年ASML在中國的光刻設備銷售額增長超過20％。2018年，除了向非中國客戶在中國的工廠出貨達成以外，ASML還計劃向5家中國本土客戶出貨。

Peter Wennink認為，隨著消費電子、人工智能、云計算和移動端的持續(xù)創(chuàng)新，預計2018年ASML銷售和盈利能力將持續(xù)穩(wěn)健增長。