在失效分析領域,X射線檢測和超聲波掃描顯微鏡(C-SAM)是兩種重要的無損檢測技術,它們各自具有獨特的特點和應用場景。失效分析技術對比:X射線檢測(X-RAY)與超聲波掃描顯微鏡(C-SAM)。
檢測目標的區分
X射線檢測:這種技術在電子行業中的應用非常廣泛,主要用于檢測印刷電路板(PCB)的焊接質量,包括但不限于表面貼裝技術(SMT)和插件孔技術(PTH)的組件。X射線能夠穿透電子組件,揭示焊接點的質量,以及是否存在焊接缺陷。
C-SAM檢測:這種技術則更專注于探測半導體芯片和集成電路內部的結構性問題,例如層與層之間的缺陷,以及PCB的粘結質量。金鑒實驗室的C-SAM檢測服務,采用高精度超聲波技術,確保能夠有效識別材料內部的缺陷,提供詳盡的檢測報告。
檢測缺陷的對比
X射線檢測:擅長發現如橋接、立碑、元件缺失、金線斷裂以及焊點缺陷,例如連錫、多錫少錫、枕窩效應和焊點空洞等。然而,X射線對于分層缺陷的檢測能力有限。
C-SAM檢測:能夠檢測到更為復雜的缺陷,包括分層、裂紋、空洞、傾斜和異物等,這些缺陷可能對電子組件的性能產生重大影響。
檢測機制的差異
X射線檢測:利用X射線對不同材料密度的穿透能力不同,通過分析射線穿透樣品后的衰減強度,形成內部結構的影像。X射線可以多角度成像,提供全方位的內部視圖。X光檢查技術是目前那些渴望進一步提高生產工藝水平的廠家,對此,金鑒實驗室提供X光檢測報告,提高生產質量,并將及時發現故障作為解決突破口的生產廠家的最佳選擇。
C-SAM檢測:基于超聲波在介質中傳播時,遇到不同密度或彈性系數的物質會產生反射回波。C-SAM通過分析這些回波的強度差異,來檢測材料內部的缺陷,并構建圖像。
介質需求的差異
X射線檢測:不需要任何介質,可以直接穿透被檢測樣品。
C-SAM檢測:需要介質來傳播超聲波,常用的介質包括去離子水、硅油或專用耦合劑。
成像技術的差異
X射線檢測:通過穿透模式成像,可以獲得整個樣品厚度的合成圖像,這對于評估整體焊接質量非常有用。
C-SAM檢測:采用反射掃描模式,得到的是樣品部分厚度的合成圖像,這對于分析局部缺陷特別有效。
樣品要求的差異
X射線檢測:要求檢測區域不能被高密度物質遮擋,否則會影響成像質量。
C-SAM檢測:要求樣品表面平整,且樣品厚度必須在探頭頻率的檢測范圍內,以確保超聲波能夠有效傳播并返回。
檢測流程的差異
X射線檢測:流程包括確定樣品類型和材料、放置樣品、選擇成像類型、進行快速掃描、圖像透視和缺陷分析。
C-SAM檢測:流程包括確定樣品類型和材料、選擇合適頻率的探頭、放置樣品、選擇掃描模式、掃描圖像和缺陷分析。金鑒實驗室的檢測流程嚴謹規范,確保每次檢測都能提供可靠的結果。
潛在風險的差異
X射線檢測:由于X射線具有電離輻射,操作時需要采取適當的防護措施,以保護操作人員和環境。
C-SAM檢測:使用的超聲波是一種機械波,不會產生電離輻射,因此對人體和環境是安全的。
檢測標準的差異
X射線檢測:遵循IPC-TM-650 2.6.15標準進行檢測。
C-SAM檢測:遵循IPC J-STD-035:1999標準進行檢測。
X射線檢測和C-SAM檢測在檢測對象、缺陷類型、原理、介質、成像方式、樣品要求、檢測步驟、潛在危害和檢測標準等方面存在顯著差異。這些差異使得它們在失效分析中有著各自的應用領域和優勢,選擇合適的檢測技術能夠更有效地評估和分析產品的失效原因。
-
檢測
+關注
關注
5文章
4488瀏覽量
91472 -
X射線
+關注
關注
4文章
208瀏覽量
51029 -
顯微鏡
+關注
關注
0文章
563瀏覽量
23039 -
半導體芯片
+關注
關注
60文章
918瀏覽量
70632
發布評論請先 登錄
相關推薦
評論