本文介紹了組成光刻機的各個分系統。

光刻技術作為制造集成電路芯片的重要步驟，其重要性不言而喻。光刻機是實現這一工藝的核心設備，它的工作原理類似于傳統攝影中的曝光過程，但精度要求極高，能夠達到納米級別的分辨率。本文將詳細介紹光刻機的主要組成部分及其功能。

光源系統 光源系統是光刻機的心臟，負責提供曝光所需的能量。早期的光刻機使用汞燈作為光源，但隨著技術的進步，目前多采用深紫外（DUV）或極紫外（EUV）光源，這些光源可以提供更高能量的光線，從而實現更精細的圖案轉移。光源的選擇直接影響到最終芯片的分辨率和生產效率。

照明系統 照明系統的作用是對光源發出的激光進行擴束，確保光照的均勻性和強度，同時提供特定的照明模式以適應不同的工藝需求。該系統主要包含傳輸光路、光束矯正器、光束整形裝置、能量探測與計量控制系統、照明均勻器以及掩模光闌等組件。通過這些組件的協同作用，照明系統能夠有效地提高光刻質量，確保每一片硅片上的曝光效果一致。

投影物鏡系統 投影物鏡系統由20至30塊高精度鏡片構成，其任務是將掩膜版上的電路圖案按照一定的縮放比例精確地投影到硅片表面。此外，該系統還具備補償各種光學誤差的能力，如像散、球差等，這對于保持高分辨率和良好的成像質量至關重要。

工件臺和掩模臺分系統 這兩個平臺負責實現掩模與硅片之間的精確定位及相對運動，包括同步掃描、步進移動、對準掃描等功能。為了確保每次曝光都能準確無誤地落在預定位置，工件臺和掩模臺必須能夠進行極其細微的調整。同時，它們還需配合調平調焦系統，確保整個曝光過程中硅片始終處于最佳聚焦狀態。

調平調焦分系統 調平調焦分系統通過對硅片臺進行六個方向上的微調，確保曝光區域位于所需的焦深范圍內，從而保證最終成像的質量。這一過程需要高度精準，因為即使是非常小的偏差也可能導致嚴重的質量問題。

掩膜與硅片對準分系統

此系統的任務是在每次曝光前將掩模上的圖像與硅片上已存在的圖形精確對齊。這是保證多層電路之間正確套刻的關鍵步驟，任何不對齊都會影響最終產品的性能。

硅片傳輸與預對準系統

該系統負責將硅片從存儲盒中取出并送至工件臺上，同時完成初步的機械和光學對準工作，使得硅片能夠被準確放置在對準系統的有效區域內。曝光完成后，它還需要將硅片安全地送回存儲盒。

整機環境分系統

為了保護光刻機內部的精密組件不受外界因素的影響，整機環境分系統提供了封閉的工作空間，有效隔絕了振動、溫度變化、氣壓波動等因素的干擾。這不僅有助于提高設備的穩定性和可靠性，也是實現長時間連續作業的基礎。 END