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N型單晶硅制備過程中拉晶工藝對氧含量的影響

中科院半導體所 ? 來源:晶格半導體 ? 2025-03-18 16:46 ? 次閱讀

文章來源:晶格半導體

原文作者:晶格半導體

本文介紹了N型單晶硅制備過程中拉晶工藝對氧含量的影響。

在太陽能電池的發展進程中,TOPCon 電池憑借其優異的性能脫穎而出,成為行業焦點。而 N 型硅片作為 TOPCon 電池的關鍵基底材料,其氧含量對電池的轉換效率有著至關重要的影響。本文深入研究拉晶工藝參數對 N 型單晶硅氧含量的作用機制,為提升單晶硅品質、優化電池性能提供有力支撐。

TOPCon 電池通過在 N 型硅片背面構建超薄隧穿氧化層和磷摻雜多晶硅薄層,形成高效的鈍化接觸結構,有效降低金屬接觸復合電流,提升電池的開路電壓和短路電流,進而提高轉換效率。然而,隨著 TOPCon 電池 SE 技術的應用,對硅片氧含量的要求愈發嚴苛。在直拉單晶硅的生產過程中,氧作為主要雜質,以間隙原子形式存在,在后續的熱處理中,易形成氧施主和氧沉淀,嚴重影響硅晶體品質。特別是在 TOPCon 電池的二次高溫工藝中,過高的氧含量會導致氧沉淀環(同心圓)的出現,降低硅片少子壽命,最終影響電池轉換效率。

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為深入探究拉晶工藝參數對 N 型單晶硅氧含量的影響,本文開展了一系列實驗研究。實驗選用陽光設備型單晶硅爐,以 10.5 英寸熱場為例,采用新特電子級多晶硅料和高純石英坩堝,利用高純氬氣控制爐壓,進行 N 型單晶硅棒的拉制。實驗流程涵蓋單晶硅棒拉制、氧含量測試和同心圓檢測。氧含量測試采用傅里葉變換紅外光譜儀,同心圓則通過硅晶片測試儀和電致發光測試儀進行表征。同時,借助 CGSim 晶體生長建模軟件,對拉晶過程進行數值模擬,分析不同工藝參數下的溫度場、流場以及氧含量分布情況。

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坩堝轉速對 N 型單晶硅氧含量的影響十分顯著。數值模擬結果顯示,隨著坩堝轉速增加,熔體流場中出現泰勒 - 普勞德曼漩渦、浮力 - 熱毛細漩渦和次級漩渦。其中,浮力 - 熱毛細漩渦可加速氧的揮發,但坩堝轉速增加會抑制其強度,使氧的揮發受限,導致熔體和坩堝界面處氧含量升高。實驗結果也表明,坩堝轉速降低時,單晶硅棒的氧含量隨之降低。綜合考慮氧含量控制和成晶率,5r/min 的坩堝轉速被確定為最優工藝參數之一。

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氬氣流量和爐壓同樣對 N 型單晶硅氧含量有重要影響。加大氬氣流量、減小爐壓,可增大熔體界面處 SiO 的質量流量,促進其揮發,降低固液界面處氧含量,進而降低單晶硅棒的氧含量。

通過對不同工藝參數下拉制的 N 型單晶硅棒進行同心圓驗證發現,同心圓比例與單晶硅棒氧含量緊密相關。隨著單晶硅氧含量的降低,電池端同心圓比例也顯著下降。其中,坩堝轉速 5r/min、氬氣流量 100L/min 和爐壓 1200Pa 時拉制的 N 型單晶硅氧含量最低,同心圓比例也最低,僅為 0.7% 。

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原文標題:拉晶工藝對N型單晶硅氧含量的影響

文章出處:【微信號:bdtdsj,微信公眾號:中科院半導體所】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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