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fed顯示技術(shù)原理解析及工藝深究

姚小熊27 ? 來源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 2018-06-04 10:06 ? 次閱讀

什么是FED

FED---FieldEmissionDisplay(orFieldEffectionDisplay)是指所謂電子發(fā)射是指電子從陰極逸出進(jìn)入真空或其它氣體媒質(zhì)中的過程。所有物體都含有大量的電子,常態(tài)下不逸出物體,當(dāng)電子獲得足夠的能量,足以克服阻礙其逸出物體表面的力時(shí),便產(chǎn)生了電子發(fā)射。

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FED技術(shù)原理

場(chǎng)致電子發(fā)射又稱為冷電子發(fā)射,簡單概括為在陰極表面加一個(gè)強(qiáng)電場(chǎng),此外不需要任何附加能量,陰極內(nèi)的電子在該強(qiáng)電場(chǎng)作用下具備足夠能量后從表面逸出,形成電子發(fā)射。其一個(gè)重要應(yīng)用就是FED(fieldemissiondisplay,場(chǎng)致電子發(fā)射顯示器)。其原理是強(qiáng)電場(chǎng)迫使電子從發(fā)射陰極(cathodeemitter)材料的尖端釋放,電子在陽極電場(chǎng)加速后轟擊屏幕上的熒光粉,激發(fā)熒光粉而發(fā)光,每一個(gè)熒光點(diǎn)后面有成千上萬個(gè)極小的電子發(fā)射器,F(xiàn)ED依靠場(chǎng)發(fā)射技術(shù)實(shí)現(xiàn)電子發(fā)射源,不用熱能,取代了CRT顯像管中的熱電子槍,場(chǎng)發(fā)射電子束的能量分布范圍比傳統(tǒng)熱電子束更窄而且具有較高的亮度,可用此技術(shù)實(shí)現(xiàn)設(shè)計(jì)和制作平面顯示器。

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FED顯示的優(yōu)點(diǎn)及發(fā)射形式

FED顯示技術(shù)具有高發(fā)光效率、動(dòng)態(tài)響應(yīng)快與彩色良好等優(yōu)點(diǎn),無需背光源、濾光膜、偏光片或其他光學(xué)薄膜等成像輔助器件,故FED的結(jié)構(gòu)比LCD簡單,響應(yīng)速度更快,視角更大,對(duì)環(huán)境溫度要求不像LCD那樣嚴(yán)格。其優(yōu)點(diǎn)如下:1)可減少背光模組之耗能,可達(dá)到大於20000:1的高對(duì)比度。2)FED利用螢光粉的自發(fā)光性,視角寬,在大視角下依然能維持高色彩品質(zhì)。3)操作溫度范圍大,高耐環(huán)境性。4)可表現(xiàn)高色純度與色再現(xiàn)性。5)可節(jié)省熱發(fā)射的加熱功耗,因此電力消耗低,發(fā)光效率高。

FED場(chǎng)致電子發(fā)射的形式大體上可分為以下三種:尖端外場(chǎng)致電子發(fā)射;介質(zhì)薄膜(介質(zhì)涂層)內(nèi)場(chǎng)電子發(fā)射;碳納米管場(chǎng)致電子發(fā)射。

FED顯示器件制作工藝流程

FED顯示面板基本結(jié)構(gòu)如圖1,在三極型FED中,柵極電壓產(chǎn)生的電場(chǎng)決定了陰極電子發(fā)射的強(qiáng)弱,均勻性主要受以下因素影響(直接影響畫質(zhì)及分辨率):陰極與柵極之間的間距,柵孔直徑,陰極材料等方面,熒光粉的均勻制作等。

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圖1三極型FED結(jié)構(gòu)示意圖

FED顯示器件的制作結(jié)點(diǎn)在于陰極板和熒光粉板的對(duì)合、老練。陰極板的工藝流程為:陰極電極→介質(zhì)層→柵極電極→旋轉(zhuǎn)制作過渡層→微錐尖制作(難點(diǎn))。熒光粉板的工藝流程為:黑條→熒光粉。

理想的場(chǎng)制發(fā)射器件具有以下結(jié)構(gòu):

(1)很細(xì)的微錐尖;(2)陰極材料具有低的功函數(shù),有利于電子發(fā)射;(3)陰極材料熔點(diǎn)高能經(jīng)受高溫考驗(yàn);(4)小的柵極開口有利于增加電場(chǎng)強(qiáng)度;(5)致密的介質(zhì)層防止電極之間的漏電或擊穿。

1、FED陰極板制作

FED陰極板制作包括了基板玻璃的選擇和清洗工藝、陰極板上的電極制造工藝、鍍膜工藝、陰極制造工藝。

(1)微錐尖(Nano-Spindt),其結(jié)構(gòu)采用了新型的技術(shù)來制備(基于薄膜技術(shù)與半導(dǎo)體微加工技術(shù)制備而成),采用鍍膜、蝕刻法;(2)基板,承載薄膜和漿料及隔絕空氣。故要求光滑且強(qiáng)度一定、并應(yīng)對(duì)熱膨脹、承受一定的壓強(qiáng),通常選擇高拐點(diǎn)玻璃;(3)隔離子的配置以及在兩個(gè)基板上的位置都需要優(yōu)化,以防顯示屏發(fā)生形變;(4)排氣孔,用于抽出屏內(nèi)的空氣。

其中電極制造工藝為鍍膜、印刷、腐蝕三個(gè)過程。鍍膜工藝包括鍍金屬膜和鍍絕緣膜。

2、FED陽極板制作

熒光粉板由基板、陽極和熒光粉層組成,能產(chǎn)生可見光。熒光粉板使用的基板與陰極板相同,F(xiàn)ED使用的熒光粉是電子激發(fā)型,柵極和陽極的距離盡量短以聚焦。由于陽極電壓較高(高達(dá)數(shù)萬伏特),陽極與柵極的距離要足夠大以免發(fā)生擊穿現(xiàn)象。

(1)黑條:蒸鍍黑色材料,利用光刻蝕工藝制成黑色條框,用于提高對(duì)比度,限定熒光粉相互混色;(2)R、G和B熒光粉:分別印刷具有感光性的某一種顏色熒光粉漿料,然后曝光(非接觸方式)顯影,去除另外兩種顏色粉位置上的熒光粉;(3)陽極:在熒光粉層上蒸鍍一層金屬Cr,再蒸鍍一層C,最后蒸鍍一層鋁膜形成陽極,該電極使用公共電極的方式引出。

3、FED隔離子(支撐柱)制作

隔離子主要保證陰極板和熒光粉板兩板間距均勻,起支撐隔離作用,一般為陶瓷材料,其高度決定柵、陽兩極之間距離。FED這種高真空器件,隔離子支撐基板防止大氣壓使基板變形或破碎,因此,隔離子材料須滿足高真空和耐壓縮的要求。隔離子的寬度只有數(shù)十微米,由于隔離子部位不能發(fā)光,太寬也會(huì)減少發(fā)光區(qū)域,隔離子的高度也通常小到um級(jí),陽壓越高,隔離子高度就相應(yīng)增加,顯示器的發(fā)光效率也就提高;幾百伏--數(shù)萬伏特陽壓需要100um--1000um的隔離子就能滿足柵陽不被擊穿的要求,而高的柵陽間距會(huì)造成電子束散開,轟擊到熒光粉的電子斑也相應(yīng)增大。隔離子必須有很高的高度與寬度比值。一般的制作工藝為絲網(wǎng)印刷和噴砂法。

4、FED顯示屏的封接及除氣工藝

主要工藝流程為:除氣→封接框制作→玻璃打孔→對(duì)合→封接→抽真空→烤消除氣。在陰極玻璃基片上先接好排氣管,并在陰極發(fā)射面上放隔離子,且行列間距必須符合一定放置規(guī)則。在即將對(duì)合的陰、陽極基板玻璃的四個(gè)周邊涂覆滿只具有低熔點(diǎn)的玻璃漿料,并將電極引線留出,將這個(gè)兩基板玻璃整體進(jìn)行干燥工藝后實(shí)施對(duì)合,再進(jìn)封接室里加熱封接。下一步抽真空,針對(duì)封接屏進(jìn)行抽氣封離;為保證屏內(nèi)的陰極電子發(fā)射的穩(wěn)定性,通常封離條件為1×10-4Pa真空,之后再進(jìn)行烤消除氣,到此完成整個(gè)除氣過程。

5、FED顯示屏的測(cè)試及老練

類似于PDP顯示屏的制作,封接好的FED顯示屏還必須經(jīng)過測(cè)試及老煉工藝,這也是一般制屏工藝的最后一道工序。測(cè)試是指將封接好的屏安置在測(cè)試工裝上,接通測(cè)試電路,看它的整體性能,一般還會(huì)輸入幾個(gè)測(cè)試信號(hào),看該屏是否顯示出理想的圖像,之后根據(jù)測(cè)試結(jié)果對(duì)屏的相關(guān)工藝進(jìn)行調(diào)整和改進(jìn)。老煉是將除氣后的FED顯示屏再經(jīng)必要的電氣處理,使之達(dá)標(biāo),其作用是充分激活陰極,穩(wěn)定發(fā)射,對(duì)屏內(nèi)電極進(jìn)一步除氣,提高電極間絕緣強(qiáng)度,以達(dá)到穩(wěn)定FED的電氣和高頻性能。

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