PLC = Programmable Logic Controller，可編程邏輯控制器，一種數字運算操作的電子系統，專為在工業環境應用而設計的。它采用一類可編程的存儲器，用于其內部存儲程序，執行邏輯運算，順序控制，定時，計數與算術操作等面向用戶的指令，并通過數字或模擬式輸入/輸出控制各種類型的機械或生產過程。是工業控制的核心部分。

橫河PLC FA-M3在擴散爐上的應用。擴散爐工作區間內（800到1000mm）一般需要±01℃（個別要求±0.5℃）。擴散爐是集成電路生產線前工序的重要工藝設備之一，它的主要用途是對半導體進行摻雜，即在高溫條件下將摻雜材料擴散入硅片，從而改變和控制半導體內雜質的類型、濃度和分布，以便建立起不同的電特性區域。雖然某些工藝可以使用離子注入的方法進行摻雜，但是熱擴散仍是最主要、最普遍的摻雜方法。硅的熱氧化作用是使硅片表面在高溫下與氧化劑發生反應，生長一層二氧化硅膜。氧化方法有干氧氧化和水汽氧化（含氫氧合成）兩種，擴散爐是用這兩種氧化方法制備氧化層的必備設備。擴散爐是半導體集成電路工藝的基礎設備，它與半導體工藝互相依存、互相促進、共同發展。

擴散爐工作區間內（800到1000mm）一般需要±01℃（個別要求±0.5℃）。多數情況下只使用外溫控制，內溫只在數據測試（Profiling）和2-3周一次的矯正時使用。不同晶片及數量的要求內溫相對外溫設定值由profiling給出。使用內溫時，使用串級控制，內溫輸出作為外溫設定值使用。

控制難點：

1：溫度精度的保持。＋0.1度需要相當的控制工藝（PID參數）積累。

2：程序的自由度。多組目標值數據要存儲并自由切換。避免干涉。

3：電熱絲斷線預警；通常使用CT監測電流，配以電壓監視。也有使用監視同等條件下的輸出變化（比如從60%升高到70%）來判斷老化程度給出預警。

FA-M3適用模塊：

各電熱絲溫度控制－－－－-F3CU04-1S：

☆提供200ms周期，0.1度的高精度控制，溫度控制曲線條數不受限制。

☆單系統最多144loop溫控控制，節省了大量的安裝空間，控制更靈活，方便聯網擴展。

☆各點獨立，不必加裝隔離柵，減少電熱絲間干擾。

☆由于是模塊式，不再需要PLC與溫度調節器間繁瑣的通信編程和布線。

☆使用專用軟件設定PID/測試/監視。不必使用記錄儀輔助。多路圖彩監視為調試提供了方便。

其他－－－－-斷線檢測和e-RT3智能CPU

☆檢測加熱器電流的下限，斷線報警。

☆補償電源電壓變動，以防止誤報警。

☆e-RT實時系統CPU完成主控部和溫度控制部處理，代替傳統PC，系統更穩定。