光刻設(shè)備被譽(yù)為“工業(yè)技術(shù)皇冠上的明珠”，它是電子產(chǎn)業(yè)中最核心的裝備。中山新諾科技是一家專門從事于數(shù)字化激光光刻設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)和銷售的高端裝備制造商。 2009年底將在國際上最早發(fā)明無掩模曝光的 技術(shù)團(tuán)隊引入國內(nèi)，2012年獲得廣東省創(chuàng)新團(tuán)隊的支持。 到2017年9月，新諾科技已完成8個系列光刻設(shè)備的研發(fā)，累計發(fā)、售超過200臺數(shù)字化曝光設(shè)備。多款光刻設(shè)備入選“廣東省首臺套設(shè)備”。

在世界范圍內(nèi)越來越重視知識產(chǎn)權(quán)的今天，很多企業(yè)因為沒有獨(dú)立知識產(chǎn)權(quán)而喪失了核心競爭力。新諾科技始終把知識產(chǎn)權(quán)作為公司的根本和核心競爭力，掌握了數(shù)字化光刻技術(shù)的源頭，是國內(nèi)唯一一家擁有光刻技術(shù)原始專利并可在世界范圍內(nèi)使用的光刻設(shè)備制造商，已將光刻設(shè)備出口銷往美國、荷蘭、新加坡、韓國和***等國家和地區(qū)。新諾科技在原始專利的基礎(chǔ)上，創(chuàng)新出大量自主知識產(chǎn)權(quán)：申請專利75項（已授權(quán)中國發(fā)明17項、實(shí)用新型10項、 美國發(fā)明3項）；軟件著作權(quán)7項；企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)3項。

技術(shù)來源

新諾科技的核心技術(shù)源自公司CTO梅文輝博士——世界上首位將數(shù)字微鏡陣列（DMD）技術(shù)應(yīng)用于光刻領(lǐng)域的科學(xué)家，被光刻行業(yè)譽(yù)為“The Father of Maskless”（無掩模光刻之父）。

1998~2006年，梅博士在美國球型半導(dǎo)體公司帶領(lǐng)團(tuán)隊研究無掩模光刻技術(shù)，并圍繞這項研究 獲得了100多項專利技術(shù)，之后梅博士的無掩模光刻專利被國際上數(shù)家大公司采用。

2009~2010 年重組美國球形半導(dǎo)體公司，將梅文輝博士主導(dǎo)的研發(fā)團(tuán)隊集合在一起，利用加拿大Aiscent Tech公司作為平臺，取得LDI發(fā)明專利在世界范圍內(nèi)的使用權(quán)，將這項技術(shù)和團(tuán)隊帶回中山新諾科技股份有限公司，重新開始展開研發(fā)、生產(chǎn)、銷售無掩模光刻設(shè)備的業(yè)務(wù)，并快 速擴(kuò)展到多個領(lǐng)域的無掩膜光刻的應(yīng)用之中。

發(fā)展歷程

2017年，客戶端

累計裝機(jī)200臺

榮譽(yù)資質(zhì)

知識產(chǎn)權(quán)

公司掌握了國際上數(shù)字化光刻技術(shù)的源頭，擁有數(shù)字化光刻技術(shù)原始專利并在此基礎(chǔ)上創(chuàng)新出大量自主知識產(chǎn)權(quán)：申請專利75項（已授權(quán)中國發(fā)明17項、實(shí)用新型10項、 美國發(fā)明3項）；軟件著作權(quán)7項；企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)3項。

技術(shù)及主要產(chǎn)品

新諾科技分別開發(fā)了適用于高精度電路板、大平板顯示、半導(dǎo)體集成電路、集成電路高密度封裝、觸摸屏、大面積光掩模版、光化學(xué)精密加工等領(lǐng)域應(yīng)用的無掩模光刻設(shè)備系列產(chǎn)品。其中已產(chǎn)業(yè)化的有：高精密印刷電路板（PCB）數(shù)字化光刻（單臺面、雙臺面、全自動連線）設(shè)備；激光無掩模雙面LDI設(shè)備；集成電路芯片高密度/3D封裝數(shù)字化光刻設(shè)備；卷到卷柔性線路板激光直接曝光設(shè)備；觸摸屏無掩模曝光設(shè)備；高精密光掩模和金屬掩模激光直寫曝光設(shè)備；TFT/OLED顯示屏數(shù)字化光刻設(shè)備。國內(nèi)外的客戶已經(jīng)超過100多家（包括美國，荷蘭，新加坡，韓國等發(fā)達(dá)國家，其中雙面數(shù)字化光刻設(shè)備銷售給國際上最大的光刻設(shè)備ASML公司的平行公司ASM Pacific）。

高精度印刷電路板曝光設(shè)備

01單臺面激光直接成像曝光系統(tǒng)PCB系統(tǒng)Jupiter 8000系列

應(yīng)用領(lǐng)域：高精度HDI、內(nèi)外層板、多層板、軟板量產(chǎn)，快板打樣，多品種小批量生產(chǎn)。

產(chǎn)品特點(diǎn)

適用于濕膜、干膜內(nèi)外層板曝光制程

高功率低能耗半導(dǎo)體激光器

多光學(xué)引擎掃描技術(shù)

實(shí)時漲縮管控和分區(qū)域失真補(bǔ)償技術(shù)

02雙臺面直接成像曝光系統(tǒng)PCB系統(tǒng)Jupiter 8000系列

應(yīng)用領(lǐng)域：高精度HDI、PCB、FPS的高速量產(chǎn)

打樣，多品種小批量生產(chǎn)。

產(chǎn)品特點(diǎn)

采用雙臺面結(jié)構(gòu)

可采用大功率混合波長激光光源

多光學(xué)引擎掃描技術(shù)

實(shí)時漲縮管控和分區(qū)域?qū)崙?zhàn)補(bǔ)償技術(shù)

03全自動連線直接成像曝光系統(tǒng)PCB系統(tǒng)Jupiter 8000系列

應(yīng)用領(lǐng)域：廣泛應(yīng)用于HDI、FPC、硬板結(jié)合的內(nèi)外層線路制程，大批量生產(chǎn)。

產(chǎn)品特點(diǎn)

高功率低能耗固態(tài)光源

多光學(xué)引擎掃描技術(shù)

實(shí)時漲縮管控和分區(qū)域失真補(bǔ)償技術(shù)

全制程兼容性

超高的產(chǎn)能

04絲網(wǎng)直接制版系統(tǒng)PCB系統(tǒng)CTS系列

應(yīng)用領(lǐng)域：CTS系統(tǒng)是專門針對高精度、大面積網(wǎng)版曝光而實(shí)際的直接成像（數(shù)字化曝光）設(shè)備。主要應(yīng)用于：電路板印刷（字符、線路、防焊）、工業(yè)品印刷、觸摸屏、太陽能電池、工程玻璃及汽車玻璃、印染、陶瓷燈希望印刷行業(yè)的絲網(wǎng)曝光制版。

產(chǎn)品特點(diǎn)

兼顧高產(chǎn)能和高精度

無需使用菲林，采用數(shù)字化直接成像技術(shù)，大幅度降低網(wǎng)版制作的人工、材料成本。資料分辨力最高可至23400dpi，提升網(wǎng)版的生產(chǎn)精度及品質(zhì)。

更優(yōu)秀的成像品質(zhì)和不同耗材的應(yīng)用性

采用高功率固態(tài)光源，方形像素可提供更高的成像質(zhì)量，高能量可支持傳統(tǒng)的感光材料，光源壽命長，可靠性高，無污染。

低維護(hù)成本

采用固態(tài)光源和LED光源具有壽命長和維護(hù)成本低的優(yōu)勢。

設(shè)備使用能耗低，僅為傳統(tǒng)曝光機(jī)的一半。

國內(nèi)主要客戶