近日,華潤微電子有限公司(“華潤微電子”)旗下的華潤上華科技有限公司(以下簡稱“華潤上華”)宣布,公司已成功開發出第三代0.18微米BCD工藝平臺。新一代BCD工藝平臺在降低導通電阻的同時,提升了器件的可靠性,降低了工藝成本,可覆蓋7V-40V的寬工作電壓范圍,為電源管理IC的設計提供了有競爭力的工藝方案。
華潤上華第三代0.18微米BCD工藝基于大量的仿真和流片數據,對高壓器件結構進行優化,將綜合性能做到業界領先水平。其中30V nLDMOS的擊穿電壓達到50V,導通電阻僅為 15 mohm*mm^2,相比第二代0.18微米BCD工藝在品質因子 (Ron*Qg)指標上優化25%。新一代BCD工藝平臺提供了BJT、Poly電阻、Zener、SBD等種類豐富的寄生器件,以及針對不同工作電壓的ESD保護方案。目前已有手機、安防監控、消費電子等多個領域的客戶在該平臺導入產品,器件性能得到國內外多家客戶的一致認可。
作為國內領先的模擬晶圓代工廠,華潤上華在BCD工藝平臺上已耕耘多年,具有豐富的量產經驗,從6英寸生產線到8英寸生產線,從1μm延伸至0.18μm,在各個節點上可滿足客戶對電源管理芯片設計的全方位需求。
華潤上華市場銷售副總經理邵軍表示:“我們期待第三代0.18微米BCD工藝平臺能為客戶提供更高性價比的方案。未來,華潤上華還將持續精進,不斷提升BCD工藝平臺的競爭力,滿足客戶在電源管理芯片上的多種需求。”
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原文標題:華潤上華成功開發第三代0.18微米BCD工藝平臺
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