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InSense有望顛覆慣性MEMS產業格局

MEMS ? 來源:cg ? 2018-12-10 16:45 ? 次閱讀

InSense即將問世的10軸單芯片慣性(運動)MEMS傳感器,包括3軸加速度計+3軸陀螺儀+3軸地磁+壓力傳感器據麥姆斯咨詢報道,InSense(盈感電子科技)是一家總部位于美國硅谷的MEMS創業公司,專注于加速度計、陀螺儀等新一代慣性MEMS傳感器的開發和量產。InSense創始人源自美國斯坦福大學和英特爾Intel),在MEMS器件和工藝開發方面深耕多年。InSense的MEMS技術具有顛覆現有慣性傳感器產品的創新性,相比傳統硅MEMS器件在性能上有極大地提高,同時成本獲得了大幅降低。

其早期MEMS傳感器原型產品在斯坦福MEMS納米制造實驗室開發。目前,InSense已經獲得了三家機構的風險投資,投資方包括New Enterprise Associates(全球第一大VC)、Walden International(華登國際)和斯坦?;稹,F在,MEMS器件已經廣泛應用于消費類電子產品和汽車產業。市場對于集成多用元件的需求正在高速增長,分立式MEMS器件市場開始放緩。在組合式MEMS應用中,多個MEMS器件被集成于單個芯片,例如多自由度慣性傳感器,這些微機械加工的MEMS結構(比如加速度計、陀螺儀以及磁力計)全部集成在同一個封裝體內,以獲得更小的器件尺寸、更低的成本以及更低的功耗,因此,這些對單芯片集成提出了新的要求。然而,目前上述慣性傳感器芯片集成通常以混合方式實現,其中含有多顆MEMS芯片和ASIC芯片,這些芯片單獨制造并組裝以形成所需的產品。

由于集成是在器件級而非晶圓級上進行,這種方案的相關成本通常很高。此外,由于需要許多層布線和鍵合,因而使得器件整體尺寸較大。這些瓶頸可以由在CMOS襯底上直接制造MEMS器件來解決。不過,硅是目前制造MEMS 器件的主要材料,其沉積與CMOS襯底的所需熱預算(thermal budget)不兼容,CMOS襯底無法承受任何高于450℃的工藝溫度。InSense的專利技術通過使用電鍍銅(electroplated copper,e-Cu)作為結構材料,在低于 450℃下直接沉積在ASIC互連層上形成MEMS結構,以單片方式提供了晶圓級集成。隨后的微制造步驟限定固定到金屬互連體的MEMS器件,從而提供直接電氣接觸。使用目前用于ASIC金屬互連的e-Cu作為結構材料,可以實現更容易的布線,得益于銅的高密度可以實現優化的機械結構和更小的尺寸。并且由于不需要晶圓鍵合,因此器件成本更低,可以在單個芯片上集成多個傳感器。此外,更小的寄生效應,可以提供低噪聲和更高的性能。

InSense發明專利中的一個實施例,通過ASIC互連層上的直接工藝在CMOS襯底上進行直接制造InSense這項技術曾于2016年獲得美國國家科學基金會(NSF)給予的749,942美元項目(SBIR)支持,該項目已經進入第二階段。從NSF官方給出的信息看到,該項目的首席調查員(Principal Investigator)是InSense董事長兼首席執行官(CEO):Noureddine Tayebi。

InSense獲得美國國家科學基金會的項目支持

InSense董事長兼首席執行官Noureddine TayebiInSense為其創新技術在美國、歐洲和中國都申請了發明專利,其專利技術有望顛覆目前的慣性MEMS產業格局。InSense近日展示的10軸單芯片慣性(運動)MEMS傳感器(3軸加速度計+3軸陀螺儀+3軸地磁+壓力傳感器)目前正在專業代工廠調試,預計將于2019年問世,讓我們一起拭目以待!

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原文標題:有望顛覆慣性MEMS產業格局的新星:InSense

文章出處:【微信號:MEMSensor,微信公眾號:MEMS】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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