GaN材料系列具有低的熱產(chǎn)生率和高的擊穿電場,是研制高溫大功率電子器件和高頻微波器件的重要材料。目前,隨著 MBE技術(shù)在GaN材料應(yīng)用中的進(jìn)展和關(guān)鍵薄膜生長技術(shù)的突破,成功地生長出了GaN多種異質(zhì)結(jié)構(gòu)。用GaN材料制備出了金屬場效應(yīng)晶體管(MESFET)、異質(zhì)結(jié)場效應(yīng)晶體管(HFET)、調(diào)制摻雜場效應(yīng)晶體管(MODFET)等新型器件。
聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
-
ti
+關(guān)注
關(guān)注
112文章
8115瀏覽量
212429 -
晶體管
+關(guān)注
關(guān)注
77文章
9693瀏覽量
138196 -
氮化鎵
+關(guān)注
關(guān)注
59文章
1631瀏覽量
116354
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
氮化鎵和砷化鎵哪個(gè)先進(jìn)
氮化鎵(GaN)和砷化鎵(GaAs)都是半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的重要成員,它們在各自的應(yīng)用領(lǐng)域中都展現(xiàn)出了卓越的性能。然而,要判斷哪個(gè)更先進(jìn),并不是一個(gè)簡單的二元對立問題,因?yàn)樗鼈兊南冗M(jìn)性取決于具體的應(yīng)用場
氮化鎵(GaN)的最新技術(shù)進(jìn)展
本文要點(diǎn)氮化鎵是一種晶體半導(dǎo)體,能夠承受更高的電壓。氮化鎵器件的開關(guān)速度更快、熱導(dǎo)率更高、導(dǎo)通電阻更低且擊穿強(qiáng)度更高。氮化
蘋果氮化鎵充電器和普通充電器區(qū)別
蘋果氮化鎵充電器是一種新型的充電器,它采用了氮化鎵材料來實(shí)現(xiàn)高效、節(jié)能的充電功能。與普通充電器相
氮化鎵是什么充電器類型
氮化鎵不是充電器類型,而是一種化合物。 氮化鎵(GaN)是一種重要的半導(dǎo)體材料,具有優(yōu)異的電學(xué)和光學(xué)特性。近年來,氮化
氮化鎵是什么結(jié)構(gòu)的材料
的結(jié)構(gòu)通常采用六方晶系,屬于閃鋅礦型結(jié)構(gòu)。在氮化鎵晶體中,鎵原子和氮原子交替排列,形成緊密堆積的晶格結(jié)構(gòu)。氮化
氮化鎵芯片研發(fā)過程
氮化鎵芯片(GaN芯片)是一種新型的半導(dǎo)體材料,在目前的電子設(shè)備中逐漸得到應(yīng)用。它以其優(yōu)異的性能和特點(diǎn)備受研究人員的關(guān)注和追捧。在現(xiàn)代科技的進(jìn)步中,氮化鎵芯片的研發(fā)過程至關(guān)重要。下面將
氮化鎵芯片生產(chǎn)工藝有哪些
氮化鎵芯片是一種新型的半導(dǎo)體材料,由于其優(yōu)良的電學(xué)性能,廣泛應(yīng)用于高頻電子器件和光電器件中。在氮化鎵芯片的生產(chǎn)工藝中,主要包括以下幾個(gè)方面:材料準(zhǔn)備、芯片制備、工廠測試和封裝等。 首先
氮化鎵芯片和硅芯片區(qū)別
氮化鎵芯片和硅芯片是兩種不同材料制成的半導(dǎo)體芯片,它們在性能、應(yīng)用領(lǐng)域和制備工藝等方面都有明顯的差異。本文將從多個(gè)方面詳細(xì)比較氮化鎵芯片和硅芯片的特點(diǎn)和差異。 首先,從材料屬性上來看,
氮化鎵是什么技術(shù)組成的
氮化鎵是一種半導(dǎo)體材料,由氮?dú)夂徒饘?b class='flag-5'>鎵反應(yīng)得到。它具有優(yōu)異的光電特性和熱穩(wěn)定性,因此在電子器件、光電器件、化學(xué)傳感器等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。本文將從氮化
氮化鎵是什么晶體類型
氮化鎵是一種重要的半導(dǎo)體材料,屬于六方晶系晶體。在過去的幾十年里,氮化鎵作為一種有著廣泛應(yīng)用前景的材料,受到了廣泛關(guān)注和研究。本文將會(huì)詳盡地介紹氮化
氮化鎵mos管型號有哪些
氮化鎵(GaN)MOS管,是一種基于氮化鎵材料制造的金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管(MOSFET)。由于氮化
氮化鎵芯片的應(yīng)用及比較分析
隨著信息技術(shù)和通信領(lǐng)域的不斷發(fā)展,對高性能芯片的需求也越來越大。作為半導(dǎo)體材料中的重要組成部分,氮化鎵芯片因其優(yōu)異的性能在近年來受到了廣泛關(guān)注。本文將詳細(xì)介紹氮化鎵芯片的基本原理及其應(yīng)
氮化鎵功率器件結(jié)構(gòu)和原理
晶體管)結(jié)構(gòu)。GaN HEMT由以下主要部分組成: 襯底:氮化鎵功率器件的襯底采用高熱導(dǎo)率的材料,如氮化硅(Si3N4),以提高器件的熱擴(kuò)散率和散熱能力。 二維電子氣層:
氮化鎵技術(shù)的用處是什么
氮化鎵技術(shù)(GaN技術(shù))是一種基于氮化鎵材料的半導(dǎo)體技術(shù),被廣泛應(yīng)用于電子設(shè)備、光電子器件、能源、通信和國防等領(lǐng)域。本文將詳細(xì)介紹氮化
氮化鎵充電寶和普通充電寶區(qū)別
氮化鎵充電寶和普通充電寶是兩種不同類型的便攜式電池充電設(shè)備。它們之間的主要區(qū)別在于材料和性能,對比這兩種充電寶可以幫助用戶選擇適合自己需求的產(chǎn)品。 首先,氮化鎵充電寶
評論