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電子發(fā)燒友網(wǎng)>電源/新能源>功率器件>GaN 和 SiC 器件相似和差異

GaN 和 SiC 器件相似和差異

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GaN中游我們可以將其分為器件設(shè) 計、晶圓制造、封裝測試三個部分。 作為化合物半導(dǎo)體的一類,與SiC類似,全球產(chǎn)能普遍集中在IDM廠商上,不過相比于SiCGaN在設(shè)計和制造環(huán)節(jié)正在往垂直分工的模式
2022-07-18 01:59:454002

功率半導(dǎo)體觀察:SiCGaN飛速發(fā)展的時代

SiCGaN等下一代功率器件的企業(yè)有所增加,為數(shù)眾多的展示吸引了各方關(guān)注。SiCGaN也變得不再是“下一代”。
2013-07-09 09:46:493475

基于SiCGaN的功率半導(dǎo)體應(yīng)用設(shè)計

SiC)和氮化鎵(GaN)占有約90%至98%的市場份額。供應(yīng)商。WBG半導(dǎo)體雖然還不是成熟的技術(shù),但由于其優(yōu)于硅的性能優(yōu)勢(包括更高的效率,更高的功率密度,更小的尺寸和更少的冷卻),正在跨行業(yè)進軍。 使用基于SiCGaN的功率半導(dǎo)體來獲
2021-04-06 17:50:533168

具有SiCGaN的高功率

電力電子將在未來幾年發(fā)展,尤其是對于組件,因為 WBG 半導(dǎo)體技術(shù)正變得越來越流行。高工作溫度、電壓和開關(guān)頻率需要 GaNSiC 等 WBG 材料的能力。從硅到 SiCGaN 組件的過渡標志著功率器件發(fā)展和更好地利用電力的重要一步。
2022-07-27 10:48:41761

GaNSiC功率器件的最佳用例

碳化硅 (SiC) MOSFET 和氮化鎵 (GaN) HEMT 等寬帶隙 (WBG) 功率器件的采??用目前正在廣泛的細分市場中全面推進。在許多情況下,WBG 功率器件正在取代它們的硅對應(yīng)物,并在
2022-07-29 14:09:53807

SiC功率器件和模塊!

在很寬的范圍內(nèi)實現(xiàn)對器件制造所需的p型和n型的控制。因此,SiC被認為是有望超越硅極限的功率器件材料。SiC具有多種多型(晶體多晶型),并且每種多型顯示不同的物理特性。對于功率器件,4H-SiC被認為是理想的,其單晶4英寸到6英寸之間的晶圓目前已量產(chǎn)。
2022-11-22 09:59:261373

SJ MOSFET的應(yīng)用及與SiCGaN的比較

超結(jié)(SJ)硅MOSFET自1990年代后期首次商業(yè)化用于功率器件應(yīng)用領(lǐng)域以來,在400–900V功率轉(zhuǎn)換電壓范圍內(nèi)取得了巨大成功。參考寬帶隙(WBG)、碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)功率器件,我們將在本文中重點介紹其一些性能特性和應(yīng)用空間。
2023-06-08 09:33:241389

GaNSiC功率半導(dǎo)體市場有望在2027年達45億美元

全球范圍內(nèi)5G技術(shù)的迅猛發(fā)展,為氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)功率半導(dǎo)體制造商提供新的增長前景。2020年,GaNSiC功率半導(dǎo)體市場規(guī)模為7億美元,預(yù)計2021年至2027年的復(fù)合年增長率
2021-05-21 14:57:182257

同是功率器件,為什么SiC主要是MOSFET,GaN卻是HEMT

電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/梁浩斌)在我們談?wù)摰谌雽?dǎo)體的時候,常說的碳化硅功率器件一般是指代SiC MOSFET(金屬-氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管),而氮化鎵功率器件最普遍的則是GaN HEMT(高電子
2023-12-27 09:11:361220

GaN器件在Class D上的應(yīng)用優(yōu)勢

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2023-06-25 15:59:21

GaNSiC區(qū)別

半導(dǎo)體的關(guān)鍵特性是能帶隙,能帶動電子進入導(dǎo)通狀態(tài)所需的能量。寬帶隙(WBG)可以實現(xiàn)更高功率,更高開關(guān)速度的晶體管,WBG器件包括氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC),以及其他半導(dǎo)體。 GaNSiC
2022-08-12 09:42:07

GaN基微波半導(dǎo)體器件材料的特性

材料。與目前絕大多數(shù)的半導(dǎo)體材料相比,GaN 具有獨特的優(yōu)勢:禁帶更寬、飽和漂移速度更大、臨界擊穿電場和熱導(dǎo)率更高,使其成為最令人矚目的新型半導(dǎo)體材料之一。目前,GaN 基發(fā)光器件的研究已取得了很大
2019-06-25 07:41:00

GaN是高頻器件材料技術(shù)上的突破

為什么GaN可以在市場中取得主導(dǎo)地位?簡單來說,相比LDMOS硅技術(shù)而言,GaN這一材料技術(shù),大大提升了效率和功率密度。約翰遜優(yōu)值,表征高頻器件的材料適合性優(yōu)值, 硅技術(shù)的約翰遜優(yōu)值僅為1, GaN最高,為324。而GaAs,約翰遜優(yōu)值為1.44。肯定地說,GaN是高頻器件材料技術(shù)上的突破。  
2019-06-26 06:14:34

SiC GaN有什么功能?

基于碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)等寬帶隙(WBG)半導(dǎo)體的新型高效率、超快速功率轉(zhuǎn)換器已經(jīng)開始在各種創(chuàng)新市場和應(yīng)用領(lǐng)域攻城略地——這類應(yīng)用包括太陽能光伏逆變器、能源存儲、車輛電氣化(如充電器
2019-07-31 06:16:52

SiC MOSFET的器件演變與技術(shù)優(yōu)勢

MOSFET ,是許多應(yīng)用的優(yōu)雅解決方案。然而,SiC功率器件的圣杯一直是MOSFET,因為它與硅IGBT的控制相似 - 但具有前述的性能和系統(tǒng)優(yōu)勢。  SiC MOSFET的演變  SiC MOSFET存在
2023-02-27 13:48:12

SiC SBD的器件結(jié)構(gòu)和特征

1. 器件結(jié)構(gòu)和特征SiC能夠以高頻器件結(jié)構(gòu)的SBD(肖特基勢壘二極管)結(jié)構(gòu)得到600V以上的高耐壓二極管(Si的SBD最高耐壓為200V左右)。因此,如果用SiC-SBD替換現(xiàn)在主流產(chǎn)品快速PN結(jié)
2019-03-14 06:20:14

SiC-MOSFET器件結(jié)構(gòu)和特征

通過電導(dǎo)率調(diào)制,向漂移層內(nèi)注入作為少數(shù)載流子的空穴,因此導(dǎo)通電阻比MOSFET還要小,但是同時由于少數(shù)載流子的積聚,在Turn-off時會產(chǎn)生尾電流,從而造成極大的開關(guān)損耗。  SiC器件漂移層的阻抗
2023-02-07 16:40:49

SiC/GaN具有什么優(yōu)勢?

基于SiC/GaN的新一代高密度功率轉(zhuǎn)換器SiC/GaN具有的優(yōu)勢
2021-03-10 08:26:03

SiC/GaN功率開關(guān)有什么優(yōu)勢

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2018-10-30 11:48:08

SiC/GaN功率轉(zhuǎn)換器已在各種創(chuàng)新市場和應(yīng)用領(lǐng)域攻城略地

(51, 51, 51) !important]隔離式柵極驅(qū)動器的要求已經(jīng)開始變化,不同于以前的。對于SiCGaN,寬柵極電壓擺幅、快速上升/下降時間和超低傳播延遲。ADuM4135隔離式柵極驅(qū)動器
2019-07-16 23:57:01

SiC器件與硅器件相比有哪些優(yōu)越的性能?

與硅相比,SiC有哪些優(yōu)勢?SiC器件與硅器件相比有哪些優(yōu)越的性能?碳化硅器件的缺點有哪些?
2021-07-12 08:07:35

SiC功率器件SiC-MOSFET的特點

電導(dǎo)率調(diào)制,向漂移層內(nèi)注入作為少數(shù)載流子的空穴,因此導(dǎo)通電阻比MOSFET還要小,但是同時由于少數(shù)載流子的積聚,在Turn-off時會產(chǎn)生尾電流,從而造成極大的開關(guān)損耗。SiC器件漂移層的阻抗比Si器件
2019-05-07 06:21:55

SiC功率器件概述

1. SiC材料的物性和特征SiC(碳化硅)是一種由Si(硅)和C(碳)構(gòu)成的化合物半導(dǎo)體材料。不僅絕緣擊穿場強是Si的10倍,帶隙是Si的3倍,而且在器件制作時可以在較寬范圍內(nèi)控制必要的p型、n型
2019-07-23 04:20:21

SiC功率器件概述

)工作頻率的高頻化,使周邊器件小型化(例:電抗器或電容等的小型化)主要應(yīng)用于工業(yè)機器的電源或光伏發(fā)電的功率調(diào)節(jié)器等。2. 電路構(gòu)成現(xiàn)在量產(chǎn)中的SiC功率模塊是一種以一個模塊構(gòu)成半橋電路的2in1類型
2019-05-06 09:15:52

SiC功率器件的封裝技術(shù)研究

  具有成本效益的大功率高溫半導(dǎo)體器件是應(yīng)用于微電子技術(shù)的基本元件。SiC是寬帶隙半導(dǎo)體材料,與Si相比,它在應(yīng)用中具有諸多優(yōu)勢。由于具有較寬的帶隙,SiC器件的工作溫度可高達600℃,而Si器件
2018-09-11 16:12:04

SiC功率元器件的開發(fā)背景和優(yōu)點

前面對SiC的物理特性和SiC功率元器件的特征進行了介紹。SiC功率元器件具有優(yōu)于Si功率元器件的更高耐壓、更低導(dǎo)通電阻、可更高速工作,且可在更高溫條件下工作。接下來將針對SiC的開發(fā)背景和具體優(yōu)點
2018-11-29 14:35:23

IGN0450M250高功率GaN-on-SiC RF功率晶體管

`IGN0450M250是一款高功率GaN-on-SiC RF功率晶體管,旨在滿足P波段雷達系統(tǒng)的獨特需求。它在整個420-450 MHz頻率范圍內(nèi)運行。 在100毫秒以下,10%占空比脈沖條件
2021-04-01 10:35:32

T2G6001528-Q3 GaN on SiC HEMT

Qorvo 的 T2G6001528-Q3 是 15 W (P3dB) 寬帶無與倫比的分立式 GaN on SiC HEMT,可在直流至 6 GHz 和 28V 電源軌范圍內(nèi)運行。該器件采用行業(yè)標準
2021-08-04 11:50:58

為什么GaN會在射頻應(yīng)用中脫穎而出?

方形,通過兩個晶格常數(shù)(圖中標記為a 和c)來表征。GaN 晶體結(jié)構(gòu)在半導(dǎo)體領(lǐng)域,GaN 通常是高溫下(約為1,100°C)在異質(zhì)基板(射頻應(yīng)用中為碳化硅[SiC],電源電子應(yīng)用中為硅[Si])上通過
2019-08-01 07:24:28

了解一下SiC器件的未來需求

引言:前段時間,Tesla Model3的拆解分析在行業(yè)內(nèi)確實很火,現(xiàn)在我們結(jié)合最新的市場進展,針對其中使用的碳化硅SiC器件,來了解一下SiC器件的未來需求。我們從前一段時間的報道了解到:目前
2021-09-15 07:42:00

什么是基于SiCGaN的功率半導(dǎo)體器件

元件來適應(yīng)略微增加的開關(guān)頻率,但由于無功能量循環(huán)而增加傳導(dǎo)損耗[2]。因此,開關(guān)模式電源一直是向更高效率和高功率密度設(shè)計演進的關(guān)鍵驅(qū)動力。  基于 SiCGaN 的功率半導(dǎo)體器件  碳化硅
2023-02-21 16:01:16

傳統(tǒng)的硅組件、碳化硅(Sic)和氮化鎵(GaN)

傳統(tǒng)的硅組件、碳化硅(Sic)和氮化鎵(GaN)伴隨著第三代半導(dǎo)體電力電子器件的誕生,以碳化硅(Sic)和氮化鎵(GaN)為代表的新型半導(dǎo)體材料走入了我們的視野。SiCGaN電力電子器件由于本身
2021-09-23 15:02:11

基于GaN的開關(guān)器件

在過去的十多年里,行業(yè)專家和分析人士一直在預(yù)測,基于氮化鎵(GaN)功率開關(guān)器件的黃金時期即將到來。與應(yīng)用廣泛的MOSFET硅功率器件相比,基于GaN的功率器件具有更高的效率和更強的功耗處理能力
2019-06-21 08:27:30

報名 | 寬禁帶半導(dǎo)體(SiCGaN)電力電子技術(shù)應(yīng)用交流會

`由電氣觀察主辦的“寬禁帶半導(dǎo)體(SiCGaN)電力電子技術(shù)應(yīng)用交流會”將于7月16日在浙江大學玉泉校區(qū)舉辦。寬禁帶半導(dǎo)體電力電子技術(shù)的應(yīng)用、寬禁帶半導(dǎo)體電力電子器件的封裝、寬禁帶電力電子技術(shù)
2017-07-11 14:06:55

未找到GaN器件

您好,有人能告訴我如何在原理圖窗口中添加GaN器件,因為當我在ADS的原理圖窗口中搜索它時,它只顯示GaAs,JFET和BJT器件。我想做一個功率放大器模擬,我需要一個GaN器件。請?zhí)岢瞿愕慕ㄗh
2019-01-17 15:55:31

未來發(fā)展導(dǎo)向之Sic功率元器件

`①未來發(fā)展導(dǎo)向之Sic功率元器件“功率元器件”或“功率半導(dǎo)體”已逐漸步入大眾生活,以大功率低損耗為目的二極管和晶體管等分立(分立半導(dǎo)體)元器件備受矚目。在科技發(fā)展道路上的,“小型化”和“節(jié)能化
2017-07-22 14:12:43

氮化鎵功率晶體管與Si SJMOS和SiC MOS晶體管對分分析哪個好?

高效率和高密度的功率轉(zhuǎn)換。如表所示,與Si和SiC相比,具有相似RDS(on)的GaN功率晶體管在LLC關(guān)鍵參數(shù)方面具有很大的優(yōu)勢。Co(tr)、Qgd、toff和Qg的值越低,LLC轉(zhuǎn)換器在效率
2023-02-27 09:37:29

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SiC-MOSFET 是碳化硅電力電子器件研究中最受關(guān)注的器件。成果比較突出的就是美國的Cree公司和日本的ROHM公司。在國內(nèi)雖有幾家在持續(xù)投入,但還處于開發(fā)階段, 且技術(shù)尚不完全成熟。從國內(nèi)
2019-09-17 09:05:05

淺析SiC功率器件SiC SBD

1. 器件結(jié)構(gòu)和特征SiC能夠以高頻器件結(jié)構(gòu)的SBD(肖特基勢壘二極管)結(jié)構(gòu)得到600V以上的高耐壓二極管(Si的SBD最高耐壓為200V左右)。因此,如果用SiC-SBD替換現(xiàn)在主流產(chǎn)品快速PN結(jié)
2019-05-07 06:21:51

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、InP化合物半導(dǎo)體材料之后的第三代半導(dǎo)體材料。  在光電子、高溫大功率器件和高頻微波器件應(yīng)用方面有著廣闊的前景。SiC功率器件在C波段以上受頻率的限制,也使其使用受到一定的限制;GaN功率管因其
2017-06-16 10:37:22

請問一下SiCGaN具有的優(yōu)勢主要有哪些

請問一下SiCGaN具有的優(yōu)勢主要有哪些?
2021-08-03 07:34:15

適用于5G毫米波頻段等應(yīng)用的新興SiCGaN半導(dǎo)體技術(shù)

  本文介紹了適用于5G毫米波頻段等應(yīng)用的新興SiCGaN半導(dǎo)體技術(shù)。通過兩個例子展示了采用這種GaN工藝設(shè)計的MMIC的性能:Ka頻段(29.5至36GHz)10W的PA和面向5G應(yīng)用的24至
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驅(qū)動新一代SiC/GaN功率轉(zhuǎn)換器的IC生態(tài)系統(tǒng)

副邊發(fā)生故障后復(fù)位。對于更緊湊的純SiC/GaN應(yīng)用,新型隔離式柵極驅(qū)動器ADuM4121是解決方案。該驅(qū)動器同樣基于ADI公司的iCoupler數(shù)字隔離技術(shù),其傳播延遲在同類器件中最低 (38 ns
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SiC器件的核心挑戰(zhàn)#硬聲創(chuàng)作季

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電子學習發(fā)布于 2022-11-20 21:18:34

PEC-電力電子帶你看SiCGaN技術(shù)與發(fā)展展望

據(jù)權(quán)威媒體分析,SiCGaN器件將大舉進入電力電子市場,預(yù)計到2020年,SiCGaN功率器件將分別獲得14%和8%市場份額。未來電力電子元器件市場發(fā)展將更多地集中到SiCGaN的技術(shù)創(chuàng)新上。
2013-09-18 10:13:112464

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安華高科技公司(Avago Technologies)推出了四款光電耦合器新產(chǎn)品,主要用于使用 SiC(碳化硅)和 GaN(氮化鎵)制造的功率半導(dǎo)體器件等的門極驅(qū)動。新產(chǎn)品的最大特點是最大傳播延遲
2017-09-12 16:07:001

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2017-10-17 17:23:191633

第三代半導(dǎo)體材料盛行,GaNSiC如何撬動新型功率器件

1.GaN 功率管的發(fā)展微波功率器件近年來已經(jīng)從硅雙極型晶體管、場效應(yīng)管以及在移動通信領(lǐng)域被廣泛應(yīng)用的LDMOS 管向以碳化硅(SiC)、氮鎵(GaN) 為代表的寬禁帶功率管過渡。SiCGaN材料
2017-11-09 11:54:529

介紹 SiC 新功率元器件

使用SiC的新功率元器件技術(shù)
2018-06-26 17:56:005775

SiC器件SiC材料的物性和特征,功率器件的特征,SiC MOSFET特征概述

SiC(碳化硅)是一種由Si(硅)和C(碳)構(gòu)成的化合物半導(dǎo)體材料。SiC臨界擊穿場強是Si的10倍,帶隙是Si的3倍,熱導(dǎo)率是Si的3倍,所以被認為是一種超越Si極限的功率器件材料。SiC中存在
2018-07-15 11:05:419257

GaNSiC器件或?qū)⒊蔀楣β兽D(zhuǎn)換應(yīng)用中的新型解決方案

基于碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)等材料的新型功率開關(guān)技術(shù)的出現(xiàn)促使性能大幅提升,超越了基于MOSFET和IGBT技術(shù)的傳統(tǒng)系統(tǒng)。
2018-10-04 09:03:004753

GaNSiC器件將成為功率轉(zhuǎn)換應(yīng)用中的新型解決方案

基于碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)等材料的新型功率開關(guān)技術(shù)的出現(xiàn)促使性能大幅提升,超越了基于MOSFET和IGBT技術(shù)的傳統(tǒng)系統(tǒng)。
2019-01-05 09:01:093767

是時候采用氮化鎵功率器件設(shè)計DC/DC轉(zhuǎn)換器了

很多工程師提問關(guān)于氮化鎵(GaN)及碳化硅(SiC)的異同。GaNSiC都是寬帶隙半導(dǎo)體,因此可以在更小、更快的器件中處理比硅更多的功率。GaN的一個額外優(yōu)點是可以在器件表面產(chǎn)生二維電子氣(2DEG)。
2019-03-14 17:05:395887

采用GaNSiC技術(shù)的新一代半橋逆變器的性能分析

新一代逆變器採用GaNSiC等先進開關(guān)技術(shù)。寬帶隙功率開關(guān),具有更出色的功效、更高的功率密度、更小巧的外形和更輕的重量,通過提高開關(guān)頻率來實現(xiàn)。
2019-07-25 06:05:001892

中國LED芯片產(chǎn)業(yè)的崛起與GaNSiC器件需求的飆升

對led芯片產(chǎn)業(yè)有所了解的朋友應(yīng)該知道,GaNSiC這些化合物半導(dǎo)體曾經(jīng)被推廣到led芯片當作襯底,而Cree作為當中的領(lǐng)頭羊,在這些領(lǐng)域都有很深入的研究和積累。雖然led市場吸引力不再,但這些技術(shù)在功率電子和射頻領(lǐng)域看到了很大的成長空間。
2019-05-07 16:04:316990

Si、SiCGaN這三種材料共存,到底該如何選擇

碳化硅(SiC)是最成熟的WBG寬帶隙半導(dǎo)體材料, 它已經(jīng)廣泛用于制造開關(guān)器件,例如MOSFET和晶閘管。氮化鎵(GaN)具有作為功率器件半導(dǎo)體的潛力,并且在射頻應(yīng)用中是對硅的重大改進。
2020-04-30 14:35:3111723

半導(dǎo)體材料:Si、SiCGaN

作為半導(dǎo)體材料“霸主“的Si,其性能似乎已經(jīng)發(fā)展到了一個極限,而此時以SiCGaN為主的寬禁帶半導(dǎo)體經(jīng)過一段時間的積累也正在變得很普及。所以,出現(xiàn)了以Si基器件為主導(dǎo),SiCGaN為"游擊"形式存在的局面。
2020-08-27 16:26:0010156

5種羅姆常用的SiC功率器件介紹(上)

汽車日漸走向智能化、聯(lián)網(wǎng)化與電動化的趨勢,加上5G商用在即,這些將帶動第三代半導(dǎo)體材料碳化硅(SiC)與氮化鎵(GaN)的發(fā)展。根據(jù)拓墣產(chǎn)業(yè)研究院估計,2018年全球SiC基板產(chǎn)值將達1.8億美元
2023-02-02 16:19:59968

SiC的發(fā)展與未來

隨著半導(dǎo)體材料步入第三代半導(dǎo)體時代,行業(yè)巨頭在SiC/GaN器件和模塊上早已布局多年。 事實上,從特性上來講,SiCGaN的優(yōu)勢是互補的,應(yīng)用覆蓋了電動汽車(EV)、新能源、光伏逆變器、智能電器
2020-11-09 10:56:042636

SiC功率器件GaN功率、射頻器件介紹

,特別適用于5G射頻和高壓功率器件。 據(jù)集邦咨詢(TrendForce)指出,因疫情趨緩所帶動5G基站射頻前端、手機充電器及車用能源等需求逐步提升,預(yù)期2021年GaN通訊及功率器件營收分別為6.8億和6100萬美元,年增30.8%及90.6%,SiC器件功率領(lǐng)域營收
2021-05-03 16:18:0010174

國產(chǎn)SiC & GaN功率器件已達國際一流水平,組建歐洲銷售團隊“出海

日前,SiC & GaN功率器件設(shè)計和方案商派恩杰官方正式宣告與德國Foxy Power合作組建歐洲&北美銷售團隊。
2021-09-09 09:39:171065

氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)的區(qū)別在哪里?

氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)功率晶體管這兩種化合物半導(dǎo)體器件已作為方案出現(xiàn)。這些器件與長使用壽命的硅功率橫向擴散金屬氧化物半導(dǎo)體(LDMOS) MOSFET和超級結(jié)MOSFET競爭。
2022-04-01 11:05:193412

一文知道GaNSiC區(qū)別

半導(dǎo)體的關(guān)鍵特性是能帶隙,能帶動電子進入導(dǎo)通狀態(tài)所需的能量。寬帶隙(WBG)可以實現(xiàn)更高功率,更高開關(guān)速度的晶體管,WBG器件包括氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC),以及其他半導(dǎo)體。
2022-04-16 17:13:015712

功率器件SiCGaN的電壓變化率與電流變化率

/dt也就越大。影響dv/dt和di/dt的主要因素是器件材料,其次是器件的電壓、電流、溫度以及驅(qū)動特性。為了加深大家對高速功率半導(dǎo)體器件的理解,今天我們以SiCGaN為例來聊一下這個話題,看看高速功率器件的dv/dt和di/dt到底有多大?
2022-04-22 11:29:482477

寬帶隙半導(dǎo)體GaN、ZnO和SiC的濕法化學腐蝕

寬帶隙半導(dǎo)體具有許多特性,這些特性使其對高功率、高溫器件應(yīng)用具有吸引力。本文綜述了三種重要材料的濕法腐蝕,即ZnO、GaNSiC。雖然ZnO在包括HNO3/HCl和HF/HNO3的許多酸性溶液
2022-07-06 16:00:211642

如何確定GaN電源的質(zhì)量和可靠性

GaN 行業(yè)旨在證明 GaN 解決方案的 預(yù)期壽命至少與硅 MOSFET 相同,理想情況下,壽命更長。該行業(yè)和 JEDEC JC-70 委員會正在努力為 GaNSiC 器件定義一系列測試、條件
2022-07-27 08:02:531039

寬帶隙半導(dǎo)體:GaNSiC 的下一波浪潮

SiC”,從當天的主題演講中汲取靈感,包括新產(chǎn)品開發(fā)、技術(shù)挑戰(zhàn)和晶圓制造。? 由于尺寸、重量和成本的節(jié)省以及更高的效率,GaNSiC 功率器件正在大力推動超越快速充電器和可再生能源,進入
2022-07-29 18:06:26391

GaNSiC功率器件的基礎(chǔ)知識

,這意味著鎵和晶格中的氮原子比硅之間的多,”Lidow 說。“它與 SiC 非常相似,兩者的帶隙都約為 3.26,”Lidow 說。
2022-08-03 08:04:292748

GaNSiC熱管理的進展

由氮化鎵 (GaN) 和碳化硅 (SiC)。基于 GaNSiC器件可以提供最新一代電源應(yīng)用所需的高性能。然而,它們極高的功率密度應(yīng)該得到適當?shù)墓芾恚@使得創(chuàng)新的熱管理技術(shù)成為一個需要考慮的關(guān)鍵方面。
2022-08-03 08:04:57996

通過測試和認證確保GaN的可靠性

該 氮化鎵產(chǎn)業(yè) 的目的是證明氮化鎵的解決方案至少有相同的預(yù)期壽命為硅MOSFET,理想,美好的生活。該行業(yè)和 JEDEC JC-70 委員會正在努力為 GaNSiC 器件定義一系列測試、條件
2022-08-05 08:05:03898

工業(yè)家合作滿足 GaNSiC 市場需求

(SiC) 的采用,電力電子技術(shù)走上了一條非凡的道路。Yole Développement (Yole) 估計了這些寬帶隙材料的總體情況。雖然硅仍然占據(jù)市場主導(dǎo)地位,但 GaNSiC 器件的出現(xiàn)一直在引領(lǐng)技術(shù)走向新的高效成果。 在技術(shù)基礎(chǔ)上,碳化硅技術(shù)側(cè)重于在更大直徑和功率
2022-08-08 15:19:37658

優(yōu)化SiC功率器件的三個步驟

鎵 (GaN) 等技術(shù)所需的最高開關(guān)速度和系統(tǒng)尺寸限制而設(shè)計。架構(gòu)的演進滿足了新的效率水平和時序性能的穩(wěn)定性,從而減少了電壓失真。本文以羅姆半導(dǎo)體的基于 SiC 技術(shù)的功率器件為參考點。
2022-08-10 15:22:11813

SiC和Si產(chǎn)線差異和轉(zhuǎn)換

。在接受《半導(dǎo)體工程》采訪時,Veliadis詳細介紹了SiC制造工藝和Si工藝的差異的一些要點。 Etch蝕刻工藝。SiC在化學溶劑中呈現(xiàn)惰性,只有干法蝕刻可行。掩膜材料、掩膜蝕刻的選擇、混合氣體
2022-08-19 16:53:301022

詳解GaNSiC器件測試的理想探頭

DL-ISO 高壓光隔離探頭具有 1 GHz 帶寬、2500 V 差分輸入范圍和 60 kV 共模電壓范圍,提供非常高的測量精度和豐富的連接方式,是GaNSiC 器件測試的理想探頭。
2022-11-03 17:47:061121

功率SiC器件GaN器件市場預(yù)測

電動汽車中的 GaN 還處于早期階段。許多功率 GaN 廠商已經(jīng)開發(fā)并通過汽車認證 650 V GaN 器件,用于 EV/HEV 中的車載充電器和 DC/DC 轉(zhuǎn)換,并且已經(jīng)與汽車企業(yè)建立了無數(shù)合作伙伴關(guān)系。
2023-01-06 11:11:34459

SiCGaN,會把硅功率器件趕出歷史舞臺?

云計算、虛擬宇宙的大型數(shù)據(jù)中心以及新型智能手機等各種小型電子設(shè)備將繼續(xù)投資。SiCGaN 都可以提供更小的尺寸和更低的熱/功耗,但它們成為標準技術(shù)還需要一些時間。
2023-01-11 14:23:18348

碳化硅與氮化鎵器件的特點差異

  碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)被稱為“寬帶隙半導(dǎo)體”(WBG)。在帶隙寬度中,硅為1.1eV,SiC為3.3eV,GaN為3.4eV,因此寬帶隙半導(dǎo)體具有更高的擊穿電壓,在某些應(yīng)用中可以達到1200-1700V。
2023-02-05 14:13:341220

SiCGaN功率電子器件的優(yōu)勢和應(yīng)用

  隨著硅接近其物理極限,電子制造商正在轉(zhuǎn)向非常規(guī)半導(dǎo)體材料,特別是寬帶隙(WBG)半導(dǎo)體,如碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)。由于寬帶隙材料具有相對較寬的帶隙(與常用的硅相比),寬帶隙器件可以在高壓、高溫和高頻下工作。寬帶隙器件可以提高能效并延長電池壽命,這有助于推動寬帶隙半導(dǎo)體的市場。
2023-02-05 14:25:15676

使用多個電流探頭研究SiCGaN功率半導(dǎo)體器件的電極間電容

本文介紹了使用多個電流探頭研究SiCGaN功率半導(dǎo)體器件的電極間電容。它分為四部分:雙電流探頭法原理、測量結(jié)果、三電流探頭法原理和測量結(jié)果。
2023-02-19 17:06:18350

2023年第三代半導(dǎo)體GaNSiC MOSFET的發(fā)展前景

GaNSiC 冰火兩重天。GaN受消費類市場疲軟的影響,市場增長微乎其微。SiC在光伏新能源、電動汽車以及儲能、充電樁等行業(yè)取得了快速發(fā)展。
2023-02-24 14:25:42941

SiCGaN的共源共柵解決方案

GaNSiC器件比它們正在替代的硅元件性能更好、效率更高。全世界有數(shù)以億計的此類設(shè)備,其中許多每天運行數(shù)小時,因此節(jié)省的能源將是巨大的。
2023-03-29 14:21:05296

什么是GaN氮化鎵?Si、GaNSiC應(yīng)用對比

由于 GaN 具有更小的晶體管、更短的電流路徑、超低的電阻和電容等優(yōu)勢,GaN 充電器的運行速度,比傳統(tǒng)硅器件要快 100 倍。GaN 在電力電子領(lǐng)域主要優(yōu)勢在于高效率、低損耗與高頻率,GaN 材料的這一特性令其在充電器行業(yè)大放異彩。
2023-04-25 15:08:212337

GaN單晶襯底顯著改善HEMT器件電流崩塌效應(yīng)

最重要的器件之一,在功率器件和射頻器件領(lǐng)域擁有廣泛的應(yīng)用前景。HEMT器件通常是在硅(Si)、藍寶石(Al2O3)、碳化硅(SiC)等異質(zhì)襯底上通過金屬有機氣象外延(MOCVD)進行外延制備。由于異質(zhì)
2023-06-14 14:00:551653

GaNSiC功率器件的特點 GaNSiC的技術(shù)挑戰(zhàn)

 SiCGaN被稱為“寬帶隙半導(dǎo)體”(WBG),因為將這些材料的電子從價帶炸毀到導(dǎo)帶所需的能量:而在硅的情況下,該能量為1.1eV,SiC(碳化硅)為3.3eV,GaN(氮化鎵)為3.4eV。這導(dǎo)致了更高的適用擊穿電壓,在某些應(yīng)用中可以達到1200-1700V。
2023-08-09 10:23:39431

一文看懂SiC功率器件

一、什么是SiC半導(dǎo)體?1.SiC材料的物性和特征SiC(碳化硅)是一種由Si(硅)和C(碳)構(gòu)成的化合物半導(dǎo)體材料。不僅絕緣擊穿場強是Si的10倍,帶隙是Si的3倍,而且在器件制作時可以在較寬
2023-08-21 17:14:581144

長電科技高可靠性車載SiC功率器件封裝設(shè)計

長電科技在功率器件封裝領(lǐng)域積累了數(shù)十年的技術(shù)經(jīng)驗,具備全面的功率產(chǎn)品封裝外形,覆蓋IGBT、SiCGaN等熱門產(chǎn)品的封裝和測試。
2023-10-07 17:41:32398

碳化硅(SiC)與氮化鎵(GaN)應(yīng)用差異在哪里?

SiCGaN 被稱為“寬帶隙半導(dǎo)體”(WBG)。由于使用的生產(chǎn)工藝,WBG 設(shè)備顯示出以下優(yōu)點:
2023-10-09 14:24:361332

SiCGaN 的興起與未來 .zip

SiCGaN的興起與未來
2023-01-13 09:06:226

了解SiC器件的命名規(guī)則

了解SiC器件的命名規(guī)則
2023-11-27 17:14:49357

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