電子束曝光機

　　電子束曝光機是一種用于數學領域的分析儀器，于2007年01月01日啟用。

　　電子束曝光機是一臺加工設備，其加工目的是在電子束感光膠上制備出納米級的結構。該設備電子的加速電壓達到100KV，掃描速度12MHz，具有10個承片臺；因此其具有加工精度高，速度快，自動化程度高等特點，從而具有比較高的工作效率。加工樣品不需要掩膜版制備，使得圖形能夠靈活多變，非常適用于科研探索。

　　電子束曝光機與普通光學曝光機區別

　　同普通光學曝光機一樣，電子束曝光機也要在有機聚合物（抗蝕劑）薄膜上制作掩模圖形。這種有機聚合物一般為液態，用旋轉涂覆（甩膠）或噴淋等方法在基片上形成均勻的薄膜層，經培烘成為固體薄膜。由于薄膜對電子束敏感，瘦電子束輻射后，其物理性能和化學性能發生變化，在一定的顯影劑中將變成良溶（正性電子抗蝕劑）的或非良溶（負性電子抗蝕劑）的。

　　因此，在基片上的薄膜，有的溶掉，有的不溶而保留下來形成精細的掩模圖形。有了這層圖形，就可以對基片有選擇的進行加工，即在基片上的某些區域改變基片材料的性能，如擴散摻雜、離子注入；或者將基片的某些區域減薄，如化學腐蝕、離子刻蝕；或者對基片的某些區域用另外的材料來加厚，如蒸鍍或濺射淀積金屬層等。

　　與普通光學曝光機相比，電子束曝光機的分辨率不受光波衍射效應的限制，至少要比普通光學曝光機高一個數量級。電子束曝光的搞分辨率，提高了器件性能，如頻率、功耗、功率密度等，從而提高了器件可靠性；并且為制作特種器件，如單片微波電路、集成光路、聲表面波器件、磁泡存儲器、約瑟夫遜器件等提供了技術基礎。

　　用電子束曝光機制造光學掩模版也有其優越性。按普通光學制版的程序是：首先刻紅模，第一次縮小照像，制中間版，再分布重復照像，制掩模版。兩次縮小制成的掩模版，其缺陷比電子束曝光直接一次制版的缺陷要多。另外，普通光學制版聰設計到制成掩模的周期長，修改困難；而電子束曝光制版周期短，且易修改。目前在微電子工業中和實驗室中使用的掩模版，除了極少數由激光圖形發生器制作外，絕大部分是由電子束曝光制作的。
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