電子發燒友網報道(文/李寧遠)提及芯片制造,首先想到的自然是光刻機和光刻技術。而眾所周知,EUV光刻機產能有限而且成本高昂,業界一直都在探索不完全依賴于EUV光刻機來生產高端芯片的技術和工藝。納米
2024-03-09 00:15:002911 中的項目就是光刻廠。 ? ? 中國電子院對此回應稱,該圖片中的項目并不是國產光刻機工廠,而是北京高能同步輻射光源項目(HEPS)。該項目坐落于北京懷柔雁棲湖畔,是國家“十三五”重大科技基礎設施,它是我國第一臺高能量同步輻射光源
2023-09-20 08:56:502576 電子發燒友網報道(文/李寧遠)提及芯片制造技術,首先想到的自然是光刻機和光刻技術。眾所周知在芯片行業,光刻是芯片制造過程中最重要、最繁瑣、最具挑戰也最昂貴的一項工藝步驟。在光刻機的支持下,摩爾定律
2023-07-16 01:50:153008 光刻機經歷了5代產品發展,每次改進和創新都顯著提升了光刻機所能實現的最小工藝節點。按照使用光源依次從g-line、i-line發展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機發展到浸沒步進式投影光刻機和極紫外式光刻機。
2024-03-21 11:31:4142 3 月 13 日消息,光刻機制造商 ASML 宣布其首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 已完成安裝,新機型將帶來更高的生產效率。 ▲ ASML 在 X 平臺上的相關動態
2024-03-14 08:42:345 據荷蘭《電訊報》3月6日報道,因荷蘭政府的反移民政策傾向,光刻機巨頭阿斯麥(ASML)正計劃搬離荷蘭。
2024-03-08 14:02:15179 在曝光過程中,掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機的縮放比為1:1,分辨率可達到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復接觸和分離,隨著曝光次數的增加,會引起掩模版和光刻膠膜層損壞、芯片良率下降等不良后果。
2024-03-08 10:42:3788 近日,光刻機巨頭ASML傳出可能因荷蘭政府的反移民政策傾向而考慮遷離本國的消息,這令業界嘩然。據悉,荷蘭政府為阻止這一可能發生的變故,已專門成立了由首相馬克·呂特親自掛帥的“貝多芬計劃”特別工作組。
2024-03-07 15:36:51209 郭御風指出,我國已提出“大力推進現代化產業體系建設,加快發展新質生產力”的主張。他解釋道,新質生產力主要體現在如人工智能、腦機接口、新型顯示及智能制造等領域的蓬勃發展,其背后的動力來源正是高端芯片,CPU作為科技產業的算力基石
2024-03-06 15:28:44108 英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第一臺高數值孔徑(High-NA)光刻機而成為新聞焦點。到目前為止,英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機的晶圓廠,據報道它們的售價約為3.8億美元
2024-03-06 14:49:01161 ASML在半導體產業中扮演著舉足輕重的角色,其光刻機技術和市場地位對于全球半導體制造廠商來說都具有重要意義。
2024-03-05 11:26:00123 光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
2024-03-04 17:19:18399 我國在光存儲領域獲重大突破 或將開啟綠色海量光子存儲新紀元 據新華社的報道,中國科學院上海光學精密機械研究所與上海理工大學等合作,在超大容量超分辨三維光存儲研究中取得突破性進展。可以說是“超級光盤
2024-02-22 18:28:451334 )、高級計劃管理(APM)、產能預測(PCE)、生產訂單管理(MOM)和高級物料需求計劃(AMRP)。下面我將詳細介紹這六大核心技術。 1. 產品工藝數據管理(PDM):PDM是APS生產排程軟件的基礎,它負責管理產品的設計和制造過程中的所有數據,包括產
2024-02-20 16:09:17132 Takeishi向英國《金融時報》表示,公司計劃于2024年開始出貨其納米壓印光刻機FPA-1200NZ2C,并補充說芯片可以輕松以低成本制造。2023年11月,該公司表示該設備的價格將比ASML的EUV機器便宜一位數。 佳能表示,與利用光曝光電路圖案的傳統光刻技術不同,納米壓印光刻不需要光源,利用
2024-02-01 15:42:05270 光刻機是微電子制造的關鍵設備,廣泛應用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領域。在集成電路制造中,光刻機被用于制造芯片上的電路圖案。
2024-01-29 09:37:24359 掩模在芯片制造中起到“底片”的作用,是一類不可或缺的晶圓制造材料,在芯片封裝(構筑芯片的外殼和與外部的連接)、平板顯示(TFT-LCD液晶屏和OLED屏〉、印刷電路板、微機電器件等用到光刻技術的領域也都能見到各種掩模的身影。
2024-01-18 10:25:22145 一系列環節如制造、封裝、測試等。 ? 在這其中,制造過程顯得尤為關鍵,而高端光刻機則是制造過程中不可或缺的設備。 光刻機在微電子制造過程中扮演核心角色,其要求具備高度精密的光學系統、復雜的機械結構和先進的控制技術。
2024-01-17 17:56:59292 理想晶延最近發布的業界首款光伏切片電池側壁鈍化 (Edge Passivation Deposition EPD)設備正式整裝出貨,這標志著EPT技術已經從研發階段進入了量產階段。這一突破意味著理想晶延在高端裝備核心技術領域取得了重大進展。
2024-01-17 14:03:29303 在10-11月份中國進口ASML的光刻機激增10多倍后,美國官員聯系了荷蘭政府。荷蘭外交發言人表示,出口許可證是根據荷蘭國家安全逐案評估的。
2024-01-03 15:22:24553 如果我們假設光刻機成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個光刻機的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
2023-12-28 11:31:39406 中國近年來向著科技自立自強的方向邁出了堅定的步伐,核心技術不斷突破,高端儀器設備持續涌現。近日消息,由蘇州博眾儀器科技有限公司(簡稱博眾儀器)自主研發的200kV透射電子顯微鏡BZ-F200已經進入
2023-12-28 11:24:09766 大族半導體成功承接“十三五”規劃中的科技部重點研發計劃重點專項“超短脈沖激光隱形切割系統及應用”,以及“十四五”規劃中的科技部重點研發計劃重點專項“高品質激光剝離與解鍵合裝備開發及應用示范”。
2023-12-15 09:46:03258 “以前中國人對航空發動機技術的了解,還停留在‘0’的階段。”中國航空發動機研究院院長羅榮懷說,過去我國航空發動機都是從國外進口,核心技術掌握不了,只能看別人的臉色。
2023-12-13 14:29:07180 衍梓裝備擁有業界最好的研究開發組。核心技術團隊來自國際知名的idm, foundry,設備和材料等大工廠,包括零部件,制作工程,材料,設備及模擬等領域,具有數十年的生產和研發經驗。
2023-12-08 14:46:26287 政策環境是智能制造裝備行業發展強大的內驅力及支撐,智能制造裝備作為推進智能制造的重要環節受到各國政府重視,2011年美國提出“先進制造伙伴計劃”,2012年我國提出《智能制造裝備產業“十二五”發展規劃》
2023-12-05 15:25:20708 光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發生性質變化,從而使光罩上得圖形復印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-12-04 09:17:241334 雕刻電路圖案的核心制造設備是光刻機,它的精度決定了制程的精度。光刻機的運作原理是先把設計好的芯片圖案印在掩膜上,用激光穿過掩膜和光學鏡片,將芯片圖案曝光在帶有光刻膠涂層的硅片上,涂層被激光照到之處則溶解,沒有被照到之處保持不變,掩膜上的圖案就被雕刻到芯片光刻膠涂層上。
2023-11-24 12:27:061280 顛覆性技術!半導體行業再放大招! 近日,日本佳能官方發布 納米壓印(NIL)半導體制造設備 未來,或將替代ASML光刻機 成為更低成本的芯片制造設備! 要知道,半導體是目前全球經濟的核心,在中國
2023-11-08 15:57:14199 來源:總臺央視 編輯:感知芯視界 Link 10月30日,國家管網集團發布消息,我國首套自主設計研發的天然氣氣質分析裝備日前完成全部工業性試驗正式發布,填補了該類產品國產化空白,標志著我國天然氣檢測
2023-11-06 09:55:34272 清華大學團隊在超高性能計算芯片領域取得新突破,相關研究發表在Nature上。
2023-10-29 09:20:35553 中圖儀器牽頭的國家重點研發計劃——“六自由度激光自動精準跟蹤測量關鍵技術"的項目綜合績效評價會議在深圳順利召開。本項目瞄準我國航空航天、汽車船舶、軌道交通、機器人、核電、大科學裝置等裝備制造領域
2023-10-27 11:27:00
光刻是半導體加工中最重要的工藝之一,決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時間的40%-50%,占其總成本的30%。光刻膠是光刻環節關鍵耗材,其質量和性能與電子器件良品率、器件性能可靠性直接相關。
2023-10-26 15:10:24359 線路板PCB:特斯拉Cybertruck的核心技術
2023-10-25 10:49:18349 近日,上海微系統所魏星研究員團隊在300mm SOI晶圓制造技術方面取得突破性進展,制備出了國內第一片300mm 射頻(RF)SOI晶圓。
2023-10-23 09:16:45498 當制程節點演進到5nm時,DUV和多重曝光技術的組合也難以滿足量產需求了,EUV光刻機就成為前道工序的必需品了,沒有它,很難制造出符合應用需求的5nm芯片,即使不用EUV能制造出一些5nm芯片,其整個生產線的良率也非常低,無法形成大規模的商業化生產。
2023-10-13 14:45:03834 、歐萊新材半導體集成電路靶材研發試制基地項目及補充流動資金。 持續研發投入,構建核心技術壁壘 作為國家高新技術企業,歐萊新材一直以來高度重視技術研發在企業發展中的重要性,并持續加大在研發方面的投入。據歐萊新材IPO招股書披露,公司最
2023-10-12 15:13:29375 公司研究開發組結構完整,現有的研究開發組和核心技術人員可以支持公司未來核心技術和創新產品的持續研究開發業務。公司歷來高度重視研究開發。未來公司將繼續增加研發投入,不斷完善研發團隊建設,加強研發技術人員培訓,不斷提高研發創新能力。
2023-10-10 11:22:19541 電子發燒友網站提供《電磁感應式無線充電的核心技術.pdf》資料免費下載
2023-10-09 16:45:361 先進封裝技術以SiP、WLP、2.5D/3D為三大發展重點。先進封裝核心技術包括Bumping凸點、RDL重布線、硅中介層和TSV通孔等,依托這些技術的組合各廠商發展出了滿足多樣化需求的封裝解決方案,SiP系統級封裝、WLP晶圓級封裝、2.5D/3D封裝為三大發展重點。
2023-09-28 15:29:371613 一、核心技術理念
圖片來源:OpenHarmony官方網站
二、需求機遇簡析
新的萬物互聯智能世界代表著新規則、新賽道、新切入點、新財富機會;各WEB網站、客戶端( 蘋果APP、安卓APK)、微信
2023-09-22 16:12:02
早在2015年,中國的長春光機所就成功研發出了EUV(極紫外光刻)光刻機的高精度弧形反射鏡系統。這個系統的多層層鍍膜面形誤差小于0.1納米,達到了EUV級光刻機的標準。這個成就在國際上已經堪稱頂尖水平。
2023-09-11 17:16:489826 萊普科技全國總公司及集成電路裝備研發制造基地項目總投資16億元,在成都高新區建設萊普科技全國總部、技術中心、制造及國產核心零部件開發及產業化基地等設施中國產核心零部件的開發及產業化基地主要有定制化開發的激光。
2023-09-08 14:50:13732 光刻機是半導體制造行業的“心臟”,也是集成電路制造過程中不可或缺的關鍵設備。盡管國在半導體領域取得了顯著進展,但在光刻機的自主研發方面仍面臨諸多挑戰。本文旨在分析國產光刻機研發中的幾大難點。
2023-08-30 09:42:062096 Neoverse?N2內核是一款高性能、低功耗的產品,采用ARM?v9.0-A架構。
此實施支持所有以前的ARMv8-A架構實施,包括ARM?v8.5-A。
Neoversedsu n2核心在
2023-08-29 08:12:31
光刻機有半導體工業“皇冠上的明珠“之稱,是高速生產芯片所需要的最關鍵和最復雜的設備之一(一臺光刻機有10萬個組件)。目前全世界的高端光刻機被荷蘭公司ASML壟斷(中低端產品美國、日本和中國均能生產),而絕大部分的組件供應商又被美國控制。
2023-08-21 16:09:33472 隨著科技領域國際競爭不斷加劇,我國的關鍵核心技術“卡脖子”問題依然存在,在芯片設計領域追求自主研發的需求尤為迫切。
2023-08-21 15:22:51627 芯片進行代碼編程的電源研發模式,填補了國內該領域技術空白,開啟了免代碼編程開發電源產品的新紀元。
一、PPEC系列產品特點
1、免代碼開發:PPEC系列產品采用森木磊石獨家核心技術,以電源拓撲為核心
2023-08-17 15:42:16
利益為中心”的價值主張,從創新突破到創新引領,是西安大醫集團在專業化之路上越走越遠的“法寶”,更是書寫了“健康中國建設”的優秀答卷。 創新突破,堅持核心技術自主可控,以精準醫療打開腫瘤診療新境界。 一直以來,大
2023-08-16 14:42:34288 雷達逐步成為探測核心裝備。在第二次世界大戰中,雷達(無線電探測及測距, Radio Detection and Ranging,縮寫 Radar)已經被應用于探測目標并取得顯著成果。
2023-08-10 11:25:16714 此前,國家知識產權局公布了一項華為新的專利。反射鏡、光刻設備及其控制方法在極紫外光刻及核心技術上取得突破性進展。 4月,哈工大宣布實現了“電能轉化等離子體線路”,實現了DPP-EUV光源。 7月23
2023-08-09 16:56:371612 芯片制造的國產化任重道遠,比如在EDA工具的國產化、光刻機等,國產化都還有很長的路要走。有統計數據顯示,目前階段我國在清洗、熱處理、去膠設備的國產化率分別達到34%、40%、90%,在涂膠顯影、刻蝕
2023-08-09 11:50:204182 。
Cortex?-A77內核具有L1內存系統和專用的集成L2緩存。
它還包括。超標量、可變長度、無序的管道。
Cortex?-A77核心在Dynamiq?共享單元(DSU)群集中實施。了解更多。
有關詳細信息,請參閱《ARM?Dynamiq?共享單元技術參考手冊》。
2023-08-08 07:17:20
(CSDB、SSBB、PSSBB)指令。
Cortex?-A76內核具有L1內存系統和專用的集成L2緩存。
它還包括一個超標量、可變長度、無序的管道。
Cortex?-A76核心在Dynamiq?共享
2023-08-08 07:05:05
洞悉全球汽車產業格局,前瞻業界未來趨勢。2023年7月27日-30日,時隔三年,重聚武漢國際博覽中心,2023世界汽車制造技術暨智能裝備博覽會盛大開幕。深耕汽車行業多年的世界汽車制造技術暨智能裝備
2023-08-04 13:47:21
Arm Cortex-A78C核心技術參考手冊
2023-08-02 13:44:07
ARM9E-S核心技術參考手冊
2023-08-02 12:00:18
Arm Cortex-A65核心技術參考手冊
2023-08-02 07:38:58
因為該計數器數據直接綁定到GPU塊。
在本指南結束時,您將更好地了解Mali-Midgard系列GPU如何通過共享訪問L2緩存來執行著色器核心操作,Tripipe執行核心的三個不同管道是如何工作
2023-08-02 06:20:08
的產品線,并滿足下游廠商的不同需求,才能在競爭激烈的市場中脫穎而出。其中,廣東歐萊高新材料股份有限公司(歐萊新材)依托經驗豐富的核心技術團隊,持續推動技術工藝的創新和突破,形成了豐富的產品體系,且主要產品
2023-07-19 15:01:42263 領域展開深度技術合作,充分發揮各自業務領域的優勢資源,搭建技術交流合作平臺,共同為構建新型起重裝備制造體系、推進中國高端裝備制造業創新發展作出積極貢獻。 華新機電總經理王吉如、副總經理沈策以 及華新機電核心技術團隊
2023-07-18 16:40:01983 摘要 :隨著微電子產業的迅猛發展,我國迫切需要研制極大規模集成電路的加工設備-光刻機。曝光波長為193nm的投影式光刻機因其技術成熟、曝光線寬可延伸至32nm節點的優勢已成為目前光刻領域的主流設備
2023-07-17 11:02:38592 運動控制系統屬于國家戰略物資,對于數控機床、機器人及各類高端裝備高質高小運行至關重要,運動系統的智能化控制是裝備領域和制造行業的核心技術,決定了裝備的精度、效率。
2023-07-11 16:58:271462 GK-1000光刻掩膜版測溫儀,光刻機曝光光學系統測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設備,主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS(微機電系統)等微細結構。光刻機是一種光學投影技術,通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
展覽會(AMTS)以國際化的視角呈現汽車工程領域全方位的系統集成解決方案。AMTS2023第十八屆上海國際汽車制造技術與裝備及材料展覽會作為AMTS品牌全球系列展的母
2023-07-05 10:11:34437 ? ? 紫外光刻和曝光 是半導體行業生產各種高端芯片、微觀電路結構的核心技術。在紫外光刻過程中,光源發射的紫外線通過掩模上的微小透鏡或光柵,然后投射到光刻膠層上,形成所需的微細圖案。 長期以來
2023-07-05 10:11:241026 光刻機的難度在于要滿足復雜的制程需求、高精度的要求以及大規模生產的挑戰。為了應對這些挑戰,光刻機制造商需要投入大量的研發資源和技術創新,不斷提升設備性能和穩定性。
2023-06-28 16:37:4819503 搞光刻機必須要有搞核彈的精神,但只有這種精神是不夠的!光刻機畢竟不是核彈,光刻機從試驗機改良成量產機,需要與產線相結合試驗生產,這些步驟是不可能秘密進行的。
2023-06-27 15:50:0810752 ·從接觸式到EUV,制程持續演進 ·多個先進系統組合,技術壁壘極高 光刻機 光刻是芯片制造最核心環節,大陸自給率亟待提升 光刻機是芯片制造最核心環節 光刻機是芯片制造中最復雜、最昂貴的設備。芯片制造可以包括多個工藝,如初步氧
2023-06-19 10:04:008367 近日,湖南大學段輝高教授團隊通過開發基于“光刻膠全干法轉印”技術的新型光刻工藝,用于柔性及不規則(曲面、懸空)襯底上柔性電子器件的原位和高保形制造,為高精度、高可靠性和高穩定性柔性電子器件的制造提供
2023-06-17 10:19:38507 光刻機可分為前道光刻機和后道光刻機。光刻機既可以用在前道工藝,也可以用在后道工藝,前道光刻機用于芯片的制造,曝光工藝極其復雜,后道光刻機主要用于封裝測試,實現高性能的先進封裝,技術難度相對較小。
2023-06-15 11:14:533429 光刻機可分為前道光刻機和后道光刻機。光刻機既可以用在前道工藝,也可以用在后道工藝,前道光刻機用于芯片的制造,曝光工藝極其復雜,后道光刻機主要用于封裝測試,實現高性能的先進封裝,技術難度相對較小。
2023-06-09 10:49:205857 光刻機技術有多難搞?有人將它與核彈相提并論:目前,全球光刻機已由荷蘭ASML、日本尼康和佳能公司完全壟斷。10nm節點以下,ASML穩穩占據100%的市場,佳能和尼康等同業競爭對手難以打破這樣的局面
2023-06-08 14:55:0020068 芯片前道制造可以劃分為七個環節,即沉積、涂膠、光刻、去膠、烘烤、刻蝕、離子注入。
2023-06-08 10:57:093765 asml是euv技術開發的領先者。asml公司是半導體領域光刻機生產企業的領頭羊,也是全球市場占有率最大的光刻機生產企業。2012年,asml推出了世界上第一個euv試制品,并于2016年推出了euv第一個商用顯卡制造機asmlnxe:3400b。
2023-06-08 09:37:553202 光刻機是半導體制造領域的核心設備之一,其發展過程當然是半導體產業發展的重要組成部分。雖然我們在網上經常可以看到光刻機的突破性地圖,但事實上,從光刻機的概念萌芽到目前的技術發展和大量生產,其發展過程是漫長而艱辛的。
2023-06-08 09:30:07992 由于無法獲得尖端光學光刻技術,中國芯片的制造工程目前限制在14納米,為了獲得更小的芯片、更強的性能,突破尖端包裝技術更為重要。此前,toff micro實現了5納米芯片技術,吸引了美國企業amd的關注,將本公司80%的包裝事業委托給了該中國企業。
2023-06-01 11:33:532619 汽車整車制造、高端電子制造等領域。 近年來,包括上海思客琦智能裝備科技股份有限公司(以下簡稱:思客琦)在內的行業領先企業,通過不斷的研發投入和技術積累,突破多項具有自主知識產權的重大智能裝備,初步形成了自動
2023-05-24 17:01:32246 摘 要:針對半導體工藝與制造裝備的發展趨勢進行了綜述和展望。首先從支撐電子信息技術發展的角度,分析半導體工藝與制造裝備的總體發展趨勢,重點介紹集成電路工藝設備、分立器件工藝設備等細分領域的技術發展態勢和主要技術挑戰。
2023-05-23 15:23:47974 汽車整車制造、高端電子制造等領域。 ? 近年來,包括上海思客琦智能裝備科技股份有限公司(以下簡稱:思客琦)在內的行業領先企業,通過不斷的研發投入和技術積累,突破多項具有自主知識產權的重大智能裝備,初步形成了自
2023-05-23 10:28:24247 芯片產業一直是我國目前致力于突破的重點領域。畢竟,今天是一個強調高科技的時代。只有掌握了芯片領域的核心技術,才能徹底擺脫受制于人的命運。我們必須知道,美國為了遏制我國在芯片領域的發展,已經對許多中國
2023-05-16 16:46:261925 不僅是國內的網友這么認為,唯光刻機論在海外也很有市場,似乎大部分網友都是這樣想的,已經到了神化ASML的地步了,只要提到芯片制造就會強調光刻機會卡脖子,而有了光刻機,臺積電這樣的公司就能隨便復制一樣。
2023-05-15 11:10:271112 在集成電路制造領域,如果說光刻機是推動制程技術進步的“引擎”,光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:381119 的嵌入式技術企業,專注嵌入式核心控制系統研發、設計和生產,推出的智能主控產品在能源及電力領域有著廣泛的應用。
在未來,飛凌嵌入式將按照國家六部委意見精神,專注智能設備核心平臺研發與制造
2023-05-11 15:33:10
2023年中國光刻機現狀是什么樣的呢?自從2018年以來,我國開始被美國各種手段制裁,光刻機被卡脖子,美國不讓荷蘭賣先進的光刻機給我們,這也讓這些年來無數國人關注光刻機的研發進度。
2023-05-10 16:24:1521220 在整個芯片制造過程中,幾乎每一道工序的實施都離不開光刻技術。光刻技術也是制造芯片最關鍵的技術,占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033 智能制造裝備技術是指為實現智能制造而開發的高度智能化、自動化、柔性化的工裝設備、機械裝置、工具等技術,其主要作用是提高制造流程的效率、精度和品質。
2023-04-25 14:54:269994 光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區做出來。利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發生性質變化,從而使光罩上得圖形復印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-04-25 11:05:322260 光刻是在晶圓上創建圖案的過程,是芯片制造過程的起始階段,包括兩個階段——光掩膜制造和圖案投影。
2023-04-25 09:22:16696 中國在芯片制造領域一直在追趕先進的技術,雖然在一些關鍵技術方面還存在一定差距,但近年來中國在光刻機領域取得了一些進展,下面將詳細介紹中國目前最先進的光刻機是多少納米。
2023-04-24 15:10:0159466 無線回傳技術是移動回傳網絡中連接基站與核心網設備的關鍵技術。隨著通信速率需求的不斷提升,移動通信頻段被擴展至毫米波和更高的太赫茲頻段,信號傳輸損耗大大增加,基站部署密度將成倍增長。
2023-04-20 10:04:26659 ? ? ? ?好消息,中國6G通信技術研發取得重要突破! 日前,國內完成首次太赫茲軌道角動量的實時無線傳輸通信實驗,最大限度提升了帶寬利用率,這是中國航天科工二院完成的通信實驗,利用高精度螺旋相位
2023-04-19 18:58:486040 軟硬件產品的研發,是國家級高新技術企業。堅持自主創新,積極聯合各大高校協同運動控制基礎技術的研究,是國內工控領域發展最快的企業之一,也是國內少有、完整掌握運動控制核心技術和實時工控軟件平臺技術的企業,主要核心產品有激光振鏡運動控制器、運動控制器、運動控制卡、視覺運動控制一體機、遠程IO模塊和HMI等。
2023-04-19 14:34:32
在智能時代,人工智能的底層關鍵技術包括智能裝備、智能產品、互聯網和大數據,而機器人是智能裝備和智能產品的核心技術之一。
2023-04-07 10:51:35215 肖特基的硅片上制作孔專利 此后, IBM開始在集成電路領域發力,并在垂直電互連方面取得了突破。
2023-04-06 11:12:381605 一樣。像上文提及的EUV光刻機則是用于生產芯片的光刻機,此外還有封裝芯片的光刻機以及用于LED制造領域的投影光刻機。 近幾年,我國本土企業在光刻機的研制方面正一步一個腳印地穩步前進,拿上海微電子裝備股份有限公司來說,近幾年,其先
2023-04-06 08:56:49679 項核心技術。光控制技術有如下特點01使用指向性的全新感覺的光顯示除了控制光的強度和顏色之外還可控制指向性,實現了逼真的質感表現和空中圖像等全新光感帶來的顯示效果。02透
2023-04-03 10:31:11426 光刻是將設計好的電路圖從掩膜版轉印到晶圓表面的光刻膠上,通過曝光、顯影將目標圖形印刻到特定材料上的技術。光刻工藝包括三個核心流程:涂膠、對準和曝光以及光刻膠顯影,整個過程涉及光刻機,涂膠顯影機、量測設備以及清洗設備等多種核心設備,其中價值量最大且技術壁壘最高的部分就是光刻機。
2023-03-25 09:32:394950 為2nm及更先進芯片的生產提供更強大的助力。 計算光刻是芯片設計和制造領域中最大的計算工作負載,每年消耗數百億CPU小時。而NVIDIA cuLitho計算光刻庫利用GPU技術實現計算光刻,可以極大的降低功耗、節省時間。 目前臺積電、光刻機制造商阿斯麥,以及EDA巨頭新思科技都已經導入
2023-03-23 18:55:377488
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