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光刻膠又遇“卡脖子”，國產替代刻不容緩
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芯片制造工藝：光學光刻-掩膜、光刻膠
制造集成電路的大多數工藝區域要求100級（空氣中每立方米內直徑大于等于0.5μm的塵埃粒子總數不超過約3500）潔凈室，在光刻區域，潔凈室要求10級或更高。
2024-03-20 12:36:00
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關于光刻膠的關鍵參數介紹
與正光刻膠相比，電子束負光刻膠會形成相反的圖案。基于聚合物的負型光刻膠會在聚合物鏈之間產生鍵或交聯。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解，而曝光的光刻膠則保留下來，從而形成負像。
2024-03-20 11:36:50193
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使用國產貼片電感替代國外品牌有哪些優勢
使用國產貼片電感替代國外品牌有哪些優勢 編輯：谷景電子 不同品牌電感的兼容替代一直都是比較受關注的一個話題，特別是最近幾年在很多行業使用國產電感替代國外品牌電感，更是體現了需求之大。不久前
2024-03-08 15:51:1072
72淺談不同階段光刻機工作方式
在曝光過程中，掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機的縮放比為1:1，分辨率可達到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復接觸和分離，隨著曝光次數的增加，會引起掩模版和光刻膠膜層損壞、芯片良率下降等不良后果。
2024-03-08 10:42:3788
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一文解析半導體設計電路的“光刻工藝”
利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。
2024-03-06 14:28:5062
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PCM1750U-DUAL CMOS 18 BIT這款數模轉換芯片有國產替代嗎？
PCM1750U-DUAL CMOS 18 BIT這款數模轉換芯片有國產替代嗎？國產替代是否會涉及專利權或者知識產權問題？
2024-03-05 18:46:33
基于SEM的電子束光刻技術開發及研究
電子束光刻（e-beam lithography，EBL）是無掩膜光刻的一種，它利用波長極短的聚焦電子直接作用于對電子敏感的光刻膠（抗蝕劑）表面繪制形成與設計圖形相符的微納結構。
2024-03-04 10:19:28206
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MABA-007159-000000的PINTOPIN國產替代 CH-BMA-7159-MA PDF資料
MABA-007159-000000的PINTOPIN國產替代 CH-BMA-7159-MA PDF資料
2024-02-27 10:58:49
瑞紅集成電路高端光刻膠總部落戶吳中
據吳中發布的最新消息，簽約項目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項目，該項投資高達15億元，旨在新建半導體光刻膠及其配套試劑的生產基地。
2024-01-26 09:18:43207
207國產數字隔離器實現進口替代：關鍵點深度分析
本文將深入分析國產數字隔離器實現進口替代的關鍵點，探討其在技術、經濟和市場等方面的優勢，為推動國產數字隔離器更好地替代進口產品提供深入思考。
2024-01-19 16:40:02170
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2023年中國光刻膠行業市場前景及投資研究報告
光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料，是半導體制造中使用的核心電子材料之一。伴隨著晶圓制造規模持續提升，中國有望承接半導體
2024-01-19 08:31:24340
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中國工業軟件產業發展的十個誤區
對于工業軟件，多數人一直忽略了一個核心問題：我們真的需要做出大鱷們一樣厲害的軟件么？我們經常講對標，到底應該對什么標？現在每天講突破“卡脖子”困局，講國產替代，于是，就想當然地對標國際先進軟件。
2024-01-14 09:29:56431
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光刻膠分類與市場結構
光刻膠主要下游應用包括：顯示屏制造、印刷電路板生產、半導體制造等，其中顯示屏是光刻膠最大的下游應用，占比30%。光刻膠在半導體制造應用占比24%，是第三達應用場景。
2024-01-03 18:12:21346
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國產工控主板：開創替代發展新篇章
在當今全球化的背景下，國產化替代正逐漸成為國家發展的重要戰略。在技術領域中，國產化替代的核心任務之一是推動國產工控主板的發展和替代進口產品。本文將探討國產化替代的重要意義，并分析國產工控主板國產
2024-01-02 15:33:12204
204全球光刻膠市場預計收入下滑，2024年有望反彈
所謂的“光刻膠”，即是在紫外線、電子束等輻射下，其溶解度會產生變化的耐腐蝕薄膜材料。作為光刻工藝中的關鍵要素，廣泛應用于晶圓和分立器件的精細圖案制作中。其品種繁多，此次漲價涉及的KrF 光刻膠則屬高級別光刻膠，將成為各廠商關注的焦點。
2023-12-28 11:14:34379
379光刻工藝的基本步驟 ***的整體結構圖
光照條件的設置、掩模版設計以及光刻膠工藝等因素對分辨率的影響都反映在k?因子中，k?因子也常被用于評估光刻工藝的難度，ASML認為其物理極限在0.25，k?體現了各家晶圓廠運用光刻技術的水平。
2023-12-18 10:53:05326
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勻膠速度影響光刻膠的哪些性質？
勻膠是光刻中比較重要的一步，而旋涂速度是勻膠中至關重要的參數，那么我們在勻膠時，是如何確定勻膠速度呢？它影響光刻膠的哪些性質？
2023-12-15 09:35:56442
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光刻膠價格上漲，韓國半導體公司壓力增大
光刻膠類別的多樣化，此次漲價案所涉KrF光刻膠屬于高階防護用品，也是未來各地廠家的競爭焦點。當前市場中，光刻膠主要由東京大賀工業、杜邦、JSR、信越化學、住友化學及東進半導體等大型制造商掌控。
2023-12-14 15:20:36408
408萬潤股份在半導體制造材料領域穩步推進，涉足光刻膠單體、PI等業務
近期，萬潤股份在接受機構調研時透露，其“年產65噸半導體用光刻膠樹脂系列”項目已經順利投入運營。該項目旨在為客戶提供專業的半導體用光刻膠樹脂類材料。
2023-12-12 14:02:58328
328半導體制造之光刻工藝講解
光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-12-04 09:17:241334
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金升陽國產醫療電源有哪些亮點
我國作為人口大國，人均醫療資源相較于發達國家仍有不足，醫療健康產業還有很大提升空間。卡脖子的現象在醫療器械中十分明顯，這也是醫療產業重點需要解決的。“國產化”便是有效的解決方案。
2023-12-01 09:45:10269
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韓國SKMP開發出高厚度KrF光刻膠助力3D NAND閃存制造
據報道，韓國SK集團于2020年斥資400億韓元收購當地錦湖石化的電子材料業務，收購后成立的新子公司SK Materials Performance（SKMP）已開發出一種高厚度KrF光刻膠，并通過了SK海力士的性能驗證，這將有利于SK海力士3D NAND閃存的技術開發。
2023-11-29 17:01:56433
433光刻膠國內市場及國產化率詳解
KrF光刻膠是指利用248nm KrF光源進行光刻的光刻膠。248nmKrF光刻技術已廣 泛應用于0.13μm工藝的生產中,主要應用于150 , 200和300mm的硅晶圓生產中。
2023-11-29 10:28:50283
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韓國SKMP開發出高厚度KrF光刻膠，可助力3D NAND閃存制造
據悉，skmp開發的新型KrF光刻膠的厚度為14至15米，與東進半導體（DONGJIN SEMICHEM）向三星提供的產品相似。日本jsr公司的類似產品厚度只有10微米。
2023-11-29 10:02:52258
258不僅需要***，更需要光刻膠
為了生產高純度、高質量的光刻膠，需要高純度的配方原料，例如光刻樹脂，溶劑PGMEA…此外，生產過程中的反應釜鍍膜和金屬析出污染監測也是至關重要的控制環節。例如，2019年，某家半導體制造公司由于光刻膠受到光阻原料的污染，導致上萬片12吋晶圓報廢
2023-11-27 17:15:48550
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西隴科學9天8板，回應稱“未生產、銷售光刻膠”
20日，西隴科學（株）發布公告稱，該公司沒有生產銷售礦產品。公司生產及銷售用于清洗劑、顯影液、剝離液等的光刻膠，占公司營業收入的比例，是目前用于上述用途的光刻膠配套。
2023-11-21 14:54:57315
315光刻膠黏度如何測量？光刻膠需要稀釋嗎？
光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體，不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標。那么光刻膠的黏度為什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻膠算高黏度，哪些算低黏度呢？
2023-11-13 18:14:11570
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關于數字處理技術部分的路線圖介紹
EUV 超薄 （≤10nm）尺度的光刻膠：隨著特征尺寸的縮小，光刻膠分子成分成為特征尺寸的一部分。構成光刻膠的分子必須是單組分、小的構建塊，以防止聚集和分離。新的設計結構將需要超薄光刻膠和底層組合。
2023-11-06 11:23:15402
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晶瑞電材子公司引入戰投中石化資本，定增募資8.5億元加碼光刻膠項目
股，募集資金人民幣850,000,002.24元，用于瑞紅蘇州先進制程工藝半導體光刻膠及配套試劑業務的研發、采購、生產和銷售及相關投資。
2023-11-02 10:59:26555
555半導體關鍵材料光刻膠市場格局發展現狀
生產光刻膠的原料包括光引發劑（光增感劑、光致產酸劑幫助其更好發揮作用）、樹脂、溶劑和其他添加劑等，我國由于資金和技術的差距，如感光劑、樹脂等被外企壟斷，所以光刻膠自給能力不足。
2023-11-01 15:51:48138
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半導體制造領域光刻膠的作用和意義
光刻是半導體加工中最重要的工藝之一，決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時間的40%-50%，占其總成本的30%。光刻膠是光刻環節關鍵耗材，其質量和性能與電子器件良品率、器件性能可靠性直接相關。
2023-10-26 15:10:24359
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具有獨特底部輪廓的剝離光刻膠的開發
金屬圖案的剝離方法已廣泛應用于各種電子器件的制造過程中，如半導體封裝、MEMS和LED的制造。與傳統的金屬刻蝕方法不同的是，采用剝離法的優點是節省成本和工藝簡化。在剝離過程中，經過涂層、曝光和開發過程后，光刻膠會在晶片上形成圖案。
2023-10-25 10:40:05185
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光學光刻技術有哪些分類 光刻技術的原理
光學光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規模集成電路器件的結構圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發生化學反應，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統能獲得的分辨率直接相關，而減小照射光源的波長是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:15271
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副邊反激控制器 5L0380R 有國產替代嗎？
客戶做小功率電源，目前有一款副邊反激控制器型號 5L0380R目前價格處于高位，客戶為了降本增效考慮國產替代，具體參數詳見附件，望各位大神不另賜教！
*附件：ON-KA5L0380R.pdf
2023-10-23 17:21:16
光刻區為什么選黃光燈？為什么不使用紅光或綠光？
黃光的波長遠離UV范圍，因此不會引起光刻膠的意外曝光。黃光燈通常不含有紫外線，從而保護光敏材料免受不必要的曝光。
2023-10-11 15:14:33746
746龍芯中科攜手百代存儲打造基于龍架構的新一代國產統一存儲解決方案
為解決國產化存儲的"卡脖子"問題，滿足數據存儲自主可控的核心需求，龍芯中科技術股份有限公司聯合百代（上海）數據技術有限公司（以下簡稱“百代存儲”）打造基于龍架構的新一代國產統一存儲解決方案。
2023-10-09 14:49:36423
423半導體制造之光刻原理、工藝流程
光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一，是電子產業的關鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發劑和成膜樹脂三種主要成分組成，是一種具有光化學敏感性的混合液體。其利用光化學反應，經曝光、顯影等光刻工藝，將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上，是用于微細加工技術的關鍵性電子化學品。
2023-10-09 14:34:491674
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EUV光刻膠開發面臨哪些挑戰？
EUV光刻膠材料是光敏物質，當受到EUV光子照射時會發生化學變化。這些材料在解決半導體制造中的各種挑戰方面發揮著關鍵作用，包括提高靈敏度、控制分辨率、減少線邊緣粗糙度（LER）、降低釋氣和提高熱穩定性。
2023-09-11 11:58:42349
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華為新型5G芯片是否突破卡脖子問題
華為 Mate 60 Pro 的發售引起了人們對其搭載處理器的關注，而根據專業人士對新款手機的拆解結果顯示，該手機搭載了麒麟9000s處理器，這個“新型”處理器是否意味著華為芯片“卡脖子”的問題得到解決呢？
2023-09-06 14:44:031695
1695華為突破技術封鎖，自主研發芯片，是否意味著卡脖子問題得到解決？
“卡脖子”的問題已經得到突破？ 北京郵電大學教授、中國信息經濟學會常務副理事長呂廷杰表示從目前國內外各個機構對華為新手機的拆解來看，它的麒麟9000s芯片，包括其它10000多種部件，應該說基本實現了國產化。如果真的全部實現國產化
2023-09-06 10:12:481664
1664# 中國北斗，沒有被卡脖子？
規模化、國產化替代。并且依托深圳這樣一個外向型經濟的全國橋頭堡，實現了自主導航定位芯片的出口，真正推動了我們自主的北斗走向全球，踐行了“中國的北斗，世界的北斗”的國家發展目標。
02 小型化和低功耗
2023-09-04 14:43:44
加速流體仿真軟件國產化替代進程，積鼎亮相第19屆CAE年會
仿真領域的成績。 積鼎科技受邀,基于“積鼎自研CFD軟件的成果和應用”作特邀報告。“積鼎專注于打造好用、易用的國產流體仿真軟件,著重解決2個突出問題,一是,國內流體仿真技術卡脖子問題;其次是,軟件的正版化問題。積鼎經過10多年的沉淀,對標國外壟斷
2023-09-01 15:32:30402
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又一卡脖子技術突破！國內首條MEMS芯片原子鐘產線落成投產！
在芯片原子鐘領域打破國外壟斷，突破關鍵器件“卡脖子”問題，滿足國內該技術產品在相關領域的迫切需求。 芯片原子鐘屬于電子信息技術中時間頻率技術領域的核心基礎器件，是使用微機電系統（MEMS）技術制造的緊湊型低功耗原子鐘
2023-08-23 21:08:55520
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年產千噸電子級光刻膠原材料，微芯新材生產基地簽約湖州
湖州國資消息，寧波微芯新材料科技有限公司的半導體材料生產基地項目總投資3.5億元人民幣，用地35畝，年產1000噸的電子級光刻膠原材料（光刻膠樹脂、高等級單體等核心材料）基地建設。”全部達到，預計年產值可達到約5億元。
2023-08-21 11:18:26942
942光刻膠產業大會在邳舉行，上達電子等與會！
會上，經開區分別同4家企業就功率器件IC封測項目、超級功率電池及鋰電池PACK產線項目、氫能產業集群項目、高性能電池項目進項現場簽約。會議還舉行了《2023勢銀光刻膠產業發展藍皮書》發布儀式。
2023-08-16 15:30:38483
483英偉達a100有國產替代嗎？
英偉達a100有國產替代嗎？ 目前尚未出現明確可替代英偉達A100的國產產品，但中國國內的企業正在積極推進相關領域的研發和生產。例如，中國科技巨頭華為正在開發自主研發的AI芯片，其已發布的昇騰910
2023-08-08 15:37:123468
3468光刻技術概述及其分類
光刻是一種圖像復制技術，是集成電路工藝中至關重要的一項工藝。簡單地說，光刻類似照相復制方法，即將掩膜版上的圖形精確地復制到涂在硅片表面的光刻膠或其他掩蔽膜上面，然后在光刻膠或其他掩蔽膜的保護下對硅片進行離子注入、刻蝕、金屬蒸鍍等。
2023-08-07 17:52:531480
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中國軍工測試連接器國產化，突破“卡脖子”難題
高新技術企業也一直在追求技術創新和突破。 現如今，我國的軍工業迅速崛起，涌現了一批優秀的國產品牌，破解了國外“卡脖子”的難題。 就拿騰方中科自主研發的斷連塊來講，一種信號通斷利器，此前一直被美國史陶比爾和瑞士壟
2023-08-02 17:12:34474
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深圳重磅發文！為傳感器裝上鴻蒙系統，劍指這個萬億市場！
7月28日下午，深圳工信局最新發文，推出3年行動計劃，引導、推動開源鴻蒙、歐拉產業的發展。 操作系統是我國關鍵“卡脖子”技術之一，但推動國產系統鴻蒙歐拉的崛起，據相關分析，不止是為了手機
2023-08-01 08:45:44508
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御芯微榮獲2023國產化替代品大賽先鋒獎
近日，備受矚目的2023國產化替代品大賽圓滿落幕。御芯微以自主研發產品測溫傳感通信一體化芯片UC8288和模組UCM200系列斬獲“國產化替代產品先鋒獎”。這是對御芯微不懈努力和持續創新的肯定，也是
2023-07-31 23:04:06442
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清華大學尹首一：《以架構創新，突破算力“卡脖子”問題》的主題演講
但現在的客觀情況是國家算力供給面臨著嚴重的“卡脖子”問題，即美國限制高算力芯片對華出口，而且可能進一步收緊出口限制。歸根結底其動機要限制中國得高算力芯片、數字經濟和人工智能等方面的發展。
2023-07-17 16:38:57502
502針對集成電路等核心技術“卡脖子”問題，集中力量開展科研攻關
芯視界 來源：全球半導體觀察 7月12日，教育部部長懷進鵬在全國高校科技創新暨優秀科研成果獎表彰大會上表示，將針對核心技術“卡脖子”問題，加強組織科研攻關。 懷進鵬指出，教育部將圍繞集成電路、工業母機、儀器儀表、生物醫
2023-07-17 13:06:20434
434破解國產傳感器的卡脖子問題，為什么需要領頭羊企業？
近年來，要加快科技自立自強步伐，解決外國“卡脖子”問題。以成為中國高科技產業重要問題。卡脖子看上去是一個技術節點，是一個孤立問題。但實際上，卡脖子是由于系統性失靈所造成的，它涉及到多家供應商
2023-07-11 08:39:01730
730光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學系統測溫儀
光刻膠（光敏膠）進行光刻，將圖形信息轉移到基片上，從而實現微細結構的制造。光刻機的工作原理是利用光學系統將光線聚焦到光刻膠上，通過掩膜版（也稱為光刻掩膜）上的圖形
2023-07-07 11:46:07
光刻膠國內頭部企業阜陽欣奕華完成超5億元D輪融資
來源：欣奕華材料 據欣奕華材料官微消息，近日，國內光刻膠龍頭企業阜陽欣奕華材料科技有限公司（以下簡稱“阜陽欣奕華”）完成超5億元人民幣 D 輪融資。 據悉，本輪融資由盛景嘉成母基金
2023-06-13 16:40:00552
552院士撰文：我國海洋監測儀器仍在“卡脖子”
卷。 海洋監測儀器裝備是關心海洋、認識海洋、經略海洋的基礎保障和重要前提，雖然我國海洋監測儀器裝備技術水平與業務化應用近年來進步顯著，但相比海洋發達國家仍在“卡脖子”技術、關鍵設備研制方面存在一定差距。 本文從全球海洋立
2023-06-13 09:35:07336
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知識分享---光刻模塊標準步驟
通常，光刻是作為特性良好的模塊的一部分執行的，其中包括晶圓表面制備、光刻膠沉積、掩模和晶圓的對準、曝光、顯影和適當的抗蝕劑調節。光刻工藝步驟需要按順序進行表征，以確保模塊末端剩余的抗蝕劑是掩模的最佳圖像，并具有所需的側壁輪廓。
2023-06-02 16:30:25418
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這個傳感器100%靠進口，為什么中國造不出來？這才是被卡脖子最嚴重的地方！
CTD 傳感器產品, 短期內又無法獲得相應的替代儀器, 嚴重影響了產品應用,“卡脖子”之痛油然而生。? 據2020年由傳感器國家工程研究中心等四個行業核心機構，聯合發布的權威報告《中國傳感器發展藍皮書》，特別寫到中國高端傳感器的應用市場幾乎被國外壟斷，
2023-06-02 08:39:22686
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光刻膠產業天價離婚案！分割市值高達140億元
來源：每日經濟新聞，記者：程雅 編輯：張海妮，謝謝 編輯：感知芯視界 5月24日晚，國產光刻膠大廠彤程新材發布公告稱，于近日收到實控人Zhang Ning與Liu Dong Sheng的通知，二人
2023-05-29 09:33:44187
187化學放大型光刻膠的作用原理
感光速度:即光刻膠受光照射發生溶解速度改變所需的最小能量，感光速度越快，單位時間內芯片制造的產出越高，經濟效益越好，另-方面，過快的感光速度會對引起工藝寬容度的減小，影響工藝制程的穩定性。
2023-05-25 09:46:09561
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采用光刻膠犧牲層技術改善薄膜電路制備工藝
改善之后的工藝與之前最大的區別在于使用光刻膠充當濺射的掩膜，在電鍍之前將電路圖形高精度的制備出來，不再進行濕法刻蝕，避免了側腐蝕對線條精度和膜基結合力的影響，同時，基板只浸入丙酮中一次以去除光刻膠，避免了大量溶液的使用
2023-05-16 09:40:351218
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專家稱***只占20%芯片制造：并非最重要的
不僅是國內的網友這么認為，唯光刻機論在海外也很有市場，似乎大部分網友都是這樣想的，已經到了神化ASML的地步了，只要提到芯片制造就會強調光刻機會卡脖子，而有了光刻機，臺積電這樣的公司就能隨便復制一樣。
2023-05-15 11:10:271112
1112
全面解讀光刻膠工藝制造流程
光刻膠可以通過光化學反應，經曝光、顯影等光刻工序將所需要的微細圖形從光罩（掩模版）轉移到待加工基片上。依據使用場景，這里的待加工基片可以是集成電路材料，顯示面板材料或者印刷電路板。
2023-05-11 16:10:492775
2775
2023年中國***現狀
2023年中國光刻機現狀是什么樣的呢？自從2018年以來，我國開始被美國各種手段制裁，光刻機被卡脖子，美國不讓荷蘭賣先進的光刻機給我們，這也讓這些年來無數國人關注光刻機的研發進度。
2023-05-10 16:24:1521220
21220EUV光刻的無名英雄
晶圓廠通常使用光刻膠來圖案化抗蝕刻硬掩模，然后依靠硬掩模來保護晶圓。但是，如果光刻膠太薄，它可能會在第一個轉移步驟完成之前被侵蝕掉。隨著光刻膠厚度的減小，底層厚度也應該減小。
2023-04-27 16:25:00689
689
光刻技術的種類介紹
根據維基百科的定義，光刻是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質層，例如玻璃、SOS中的藍寶石。
2023-04-25 11:11:331243
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光刻技術的詳細工序
清洗硅片（Wafer Clean）
清洗硅片的目的是去除污染物去除顆粒、減少針孔和其它缺陷，提高光刻膠黏附性
基本步驟：化學清洗——漂洗——烘干。
2023-04-25 11:09:403858
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光刻技術的原理及發展前景分析
光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區做出來。利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-04-25 11:05:322260
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*** 激光雷達 傳感器等35項卡脖子的技術經過5年發展之后進展如何
2018年，我國中央科技新聞媒體《科技日報》發表了系列文章，報道制約我國工業發展的35項“卡脖子”的關鍵技術， 其中包括芯片、傳感器、光刻機、激光雷達等關鍵技術 。引起了廣泛關注與討論。 如今
2023-04-19 14:54:388817
8817淺談EUV光刻中的光刻膠和掩模等材料挑戰
新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環境中開發，必須通過精心設計的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進行優化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰，imec 最近開發了一個新的工具箱來匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:121164
1164高端光刻膠通過認證 已經用于50nm工藝
此前該公司指出，公司已建成年產5噸ArF干式光刻膠生產線、年產20噸ArF浸沒式光刻膠生產線及年產45噸的光刻膠配套高純試劑生產線，具備ArF光刻膠及配套關鍵組分材料的生產能力，目前公司送樣驗證的產品均由該自建產線產出。
2023-04-11 09:25:32920
920LEM HLSR系列電流傳感器國產替代介紹：芯森電子AN3V系列
、售后等多方面原因，傳感器市場出現被外企“卡脖子”現象，漲價、缺芯、無貨等狀況頻出。為此，國內眾企業開始響應“國產替代”號召，力圖打破傳感器國外壟斷。 芯森電子AN3V系列霍爾電流傳感器，就是響應“國產替代”的產品。此產品可原位替代
2023-04-04 13:17:301195
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ACS758/ACS770系列電流傳感器國產替代介紹：芯森電子AN1V系列
。 但由于國際形式及價格、售后等多方面原因，傳感器市場出現被外企“卡脖子”現象，漲價、缺芯、無貨等狀況頻出。為此，國內眾企業開始響應“國產替代”號召，力圖打破傳感器國外壟斷。 芯森電子AN1V系列霍爾電流傳感器，就是響應“國產替代”的產品。此產品
2023-04-03 13:38:11571
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金航標kinghelm薩科微Slkor總經理宋仕強：“國產替代”恰逢其時
實現“自主可控”非常重要，突破歐美的卡脖子。我國在高端的半導體集成電路、工業軟件、高端機床裝備、電腦操作系統、集成電路架構IP核、EDA軟件等高新技術領域的國產替代戰略，是要長期投入長期堅持的。金航標電子薩科微半導體都屬于這一輪
2023-03-25 14:32:52315
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被卡脖子的半導體設備（萬字深度報告）
光刻是將設計好的電路圖從掩膜版轉印到晶圓表面的光刻膠上，通過曝光、顯影將目標圖形印刻到特定材料上的技術。光刻工藝包括三個核心流程：涂膠、對準和曝光以及光刻膠顯影，整個過程涉及光刻機，涂膠顯影機、量測設備以及清洗設備等多種核心設備，其中價值量最大且技術壁壘最高的部分就是光刻機。
2023-03-25 09:32:394950
4950被卡脖子的半導體材料（萬字深度報告）
根據SEMI數據，2020年全球晶圓制造材料中，硅片占比最高，為35%；電子氣體排名第2，占比13%；掩膜版排名第3，占比12%，光刻膠占比6%；光刻膠配套材料占比8% ；濕電子化學品占比7%；CMP拋光材料占比6%；靶材占比2%。
2023-03-25 09:30:544119
4119日韓半導體“冰釋前嫌”，光刻膠供應鏈進入新牌局
芯片產業產能過剩：韓國統計廳發布的數據顯示，1月韓國芯片制造商的芯片庫存與銷售比達到265.7%，創下26年來的最高值。如果上游材料持續被日本卡脖子，韓國芯片產業的日子就更難過了。
2023-03-23 09:32:58977
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工商網監
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