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電子發燒友網>今日頭條>高顏值手機!星雨光刻工藝加持,OPPO Reno7系列將登場

高顏值手機!星雨光刻工藝加持,OPPO Reno7系列將登場

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半導體制造技術之刻蝕工藝

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半導體制造之光刻工藝講解

光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發生性質變化,從而使光罩上得圖形復印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用
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數字后端先進工藝知識科普

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KrF光刻膠是指利用248nm KrF光源進行光刻光刻膠。248nmKrF光刻技術已廣 泛應用于0.13μm工藝的生產中,主要應用于150 , 200和300mm的硅晶圓生產中。
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三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝

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光刻膠黏度如何測量?光刻膠需要稀釋嗎?

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中國折疊屏手機Q3出貨大漲90.4%,華為穩居第一

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半導體制造領域光刻膠的作用和意義

光刻是半導體加工中最重要的工藝之一,決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時間的40%-50%,占其總成本的30%。光刻膠是光刻環節關鍵耗材,其質量和性能與電子器件良品率、器件性能可靠性直接相關。
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請問wincc7d對硬件要求嗎?

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Bumping工藝流程工作原理 光刻工藝原理和流程

Bumping工藝是一種先進的封裝工藝,而Sputter是Bumping工藝的第一道工序,其重要程度可想而知。Sputter的膜厚直接影響Bumping的質量,所以必須控制好Sputter的膜厚及均勻性是非常關鍵。
2023-10-23 11:18:18475

半導體制造之光刻原理、工藝流程

光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一,是電子產業的關鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發劑和成膜樹脂三種主要成分組成,是一種具有光化學敏感性的混合液體。其利用光化學反應,經曝光、顯影等光刻工藝,將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上,是用于微細加工技術的關鍵性電子化學品。
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關于光刻技術的五大分類

光刻是通過一系列操作,除去外延片表面特定部分的工藝,在半導體器件和集成電路制作中起到極為關鍵的作用。
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低能量電子束曝光技術

直接蝕刻和剝離是兩種比較流行的圖案轉移工藝。在直接蝕刻工藝中,首先使用光刻技術對聚合物抗蝕劑進行構圖,然后通過干法蝕刻技術用抗蝕劑作為掩模將圖案轉移到襯底或子層上。
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半導體制造工藝光刻工藝詳解

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半導體前端工藝:沉積——“更小、更多”,微細化的關鍵

在半導體制程中,移除殘余材料的“減法工藝”不止“刻蝕”一種,引入其他材料的“加法工藝”也非“沉積”一種。比如,光刻工藝中的光刻膠涂敷,其實也是在基底上形成各種薄膜;又如氧化工藝中晶圓(硅)氧化,也需要在基底表面添加各種新材料。那為什么唯獨要強調“沉積”工藝呢?
2023-08-17 15:33:27370

如何實現PCB蝕刻工藝中的均勻性呢?有哪些方法?

PCB蝕刻工藝中的“水池效應”現象,通常發生在頂部,這種現象會導致大尺寸PCB整個板面具有不同的蝕刻質量。
2023-08-10 18:25:431013

光刻技術概述及其分類

光刻是一種圖像復制技術,是集成電路工藝中至關重要的一項工藝。簡單地說,光刻類似照相復制方法,即將掩膜版上的圖形精確地復制到涂在硅片表面的光刻膠或其他掩蔽膜上面,然后在光刻膠或其他掩蔽膜的保護下對硅片進行離子注入、刻蝕、金屬蒸鍍等。
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當談到該創新工藝時,不可避免地要與傳統的光刻工藝體系進行對比。光刻工藝體系是一種減法工藝:首先要在襯底表面沉積一層材料,例如銅;然后在材料層表面涂布一層光刻膠;接著將光刻膠圖形化曝光并顯影,形成有圖案的光刻覆蓋區域
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次時代EUV光刻已箭在弦上!

半導體技術的未來通常是通過光刻設備的鏡頭來看待的,盡管高度挑戰性的技術問題幾乎永無休止,但光刻設備仍繼續為未來的工藝節點提供更好的分辨率。
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半導體光刻工藝 光刻—半導體電路的繪制

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GK-1000光刻掩膜版測溫儀,光刻機曝光光學系統測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設備,主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS(微機電系統)等微細結構。光刻機是一種光學投影技術,通過光線通過
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今日看點丨ASML:沒有向中國市場推出特別版***;蘋果 iPhone 15 系列將于 8 月量產

1.ASML :沒有向中國市場推出特別版光刻機 ? 近日消息人士稱,荷蘭推出并即將實施出口限制,ASML可能會發布其TWINSCAN NXT:1980系列DUV光刻工具的調整版,以減輕對中國芯
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知識分享---光刻模塊標準步驟

通常,光刻是作為特性良好的模塊的一部分執行的,其中包括晶圓表面制備、光刻膠沉積、掩模和晶圓的對準、曝光、顯影和適當的抗蝕劑調節。光刻工藝步驟需要按順序進行表征,以確保模塊末端剩余的抗蝕劑是掩模的最佳圖像,并具有所需的側壁輪廓。
2023-06-02 16:30:25418

一文了解DPC陶瓷基板工藝流程

直接鍍銅陶瓷基板(Direct Plating Copper, DPC)是在陶瓷薄膜工藝加工基礎上發展起來的陶瓷電路加工工藝。以氮化鋁/氧化鋁陶瓷作為線路的基板,采用濺鍍工藝于基板表面復合金屬層,并以電鍍和光刻工藝形成電路。
2023-05-31 10:32:021587

【機器視覺】歡創播報 | OPPO Reno10 系列正式發布

1 OPPO Reno10 系列正式發布 ? 24日,OPPO Reno10系列發布。據介紹,Reno10系列全系標配超光影長焦,配合OPPO超光影算法,Find X6系列同款動態光影屏,實現人像
2023-05-25 15:44:57452

AAC為Reno10系列創新定制感知系統解決方案

5月24日,OPPO全新Reno10系列發布,這是Reno的十代里程碑之作,感知體驗全面升級。
2023-05-25 10:19:40380

產品力不容小覷,OPPO Reno10系列2499元起售,影像性能更強悍了

滿滿,不僅提供標準版、Pro版和Pro+版三款機型,滿足不同需求和預算的消費者。 和歷代Reno系列產品一樣,OPPO Reno10系列擁有輕薄機身高顏值的屬性。它擁有燦爛金、暮光紫、月海黑、溢彩藍四種全新優雅配色,并在燦爛金配色上再次工藝創新,通過金縷流紗工藝,賦予機身精密
2023-05-25 10:07:44598

全系標配超光影長焦,十代里程碑之作 OPPO Reno10 系列今日正式發布

OPPO 今日正式發布 Reno 十代里程碑之作 Reno10 系列新品。得益于 Reno 系列在輕薄美學和人像科技賽道的長期深耕,Reno10 系列創新地為用戶帶來一款兼具輕薄手感和大底潛望的人像輕旗艦。
2023-05-24 16:03:25930

OPPO Reno10 系列兼顧輕薄手感與大底潛望長焦,定檔5月24日

OPPO 今日宣布,OPPO Reno10 Pro+的重量僅為194g,難得地兼顧了輕薄手感與大底潛望長焦。OPPO Reno10 系列,既是人像旗艦,又是輕薄標桿。
2023-05-19 17:56:411140

7種方法教您怎么進步電感Q

的方法來進步電感Q7種方法教您怎么進步電感Q總得來說,以上7種進步電感Q的方法,就是經過對電感資料,尺度,繞線方法以及工藝上的優化,來盡可能的下降電感損耗,然后進步Q。更多概況咨詢金昊德客服。
2023-05-19 15:08:32

采用光刻膠犧牲層技術改善薄膜電路制備工藝

改善之后的工藝與之前最大的區別在于使用光刻膠充當濺射的掩膜,在電鍍之前將電路圖形高精度的制備出來,不再進行濕法刻蝕,避免了側腐蝕對線條精度和膜基結合力的影響,同時,基板只浸入丙酮中一次以去除光刻膠,避免了大量溶液的使用
2023-05-16 09:40:351218

音圈馬達加持的Pixel Fold折疊屏手機

音圈馬達加持的Pixel Fold折疊屏手機。近日,谷歌宣布,2023年度 I/O 大會在美國加利福尼亞州山景城舉行。這次還帶來傳聞已久的Pixel Fold折疊屏手機。 據小編音圈馬達獲悉,谷歌
2023-05-12 08:38:40227

全面解讀光刻工藝制造流程

光刻膠可以通過光化學反應,經曝光、顯影等光刻工序將所需要的微細圖形從光罩(掩模版)轉移到待加工基片上。依據使用場景,這里的待加工基片可以是集成電路材料,顯示面板材料或者印刷電路板。
2023-05-11 16:10:492775

積木易搭Magic Swift Plus為雕刻工藝品精雕復刻提供三維數字化解決方案

一、傳統工藝品制作煥發生機,3D掃描技術帶來生產工藝革新 傳統工藝美術是老百姓在日常生活和勞作中的精神提煉與藝術創作的具體體現。而雕刻便是傳統工藝美術的具體表現之一。傳統的雕刻工藝包括木雕、浮雕
2023-04-25 13:04:47375

光刻技術的種類介紹

根據維基百科的定義,光刻是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構,然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓,還可以是其他金屬層、介質層,例如玻璃、SOS中的藍寶石。
2023-04-25 11:11:331243

什么是光刻技術

光刻技術簡單來講,就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過程,是大規模集成電路的基礎。目前市場上主流技術是193nm沉浸式光刻技術,CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術獲得的電路尺寸。
2023-04-25 11:02:322261

半導體工藝之金屬布線工藝介紹

本篇要講的金屬布線工藝,與前面提到的光刻、刻蝕、沉積等獨立的工藝不同。在半導體制程中,光刻、刻蝕等工藝,其實是為了金屬布線才進行的。在金屬布線過程中,會采用很多與之前的電子元器件層性質不同的配線材料(金屬)。
2023-04-25 10:38:49986

光刻膠顯影殘留原因

151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會有一撮殘留,找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52

ASML是如何崛起的?半導體發展的三個歷史階段

那時集成電路也剛剛發明不久,光刻工藝還在微米級別,工藝步驟也比現在簡單很多美國是走在世界前列的。在那個對工藝要求并不高的年代,很多半導體公司通常自己用鏡頭設計光刻工具,光刻機在當時甚至不如照相機的結構復雜。
2023-04-20 09:22:331314

OPPO Reno5pro 不開機 #oppo手機維修 #專業維修#硬聲創作季

電路維修
也許吧發布于 2023-04-19 15:06:06

淺談EUV光刻中的光刻膠和掩模等材料挑戰

新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環境中開發,必須通過精心設計的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進行優化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰,imec 最近開發了一個新的工具箱來匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:121164

三相對稱負載型連接時線電壓的最大是相電壓有效的多少倍?

三相對稱負載型連接時線電壓的最大是相電壓有效的多少倍?
2023-04-07 11:44:42

泰晶科技攜全系列產品亮相2023(春季)亞洲智能穿戴展

泰晶科技擁有全系列豐富的產品條線,不斷深化半導體光刻工藝應用在石英晶體上,推出了32.768kHz K2012/1610音叉晶體,M2016/1612/1210超小尺寸晶體諧振器。
2023-04-03 09:15:55422

PCB加工的蝕刻工藝

印刷線路板從光板到顯出線路圖形的過程是一個比較復雜的物理和化學反應的過程,本文就對其最后的一步--蝕刻進行解析。目前,印刷電路板(PCB)加工的典型工藝采用"圖形電鍍法"。即先在
2023-03-29 10:04:07886

OPPO Pad 2 獨具好屏 煥新登場

OPPO Pad 2 獨具好屏,眼界大開 輕薄靈巧 舒適握持 全新發布的 OPPO Pad 2 采用堅固耐用的全金屬一體化機身設計,并帶來創新星軌雕刻工藝,使得機身背部的金屬光澤能夠隨光線變化流動,在呈現獨特美感的同時,更具質感;6.54mm 輕薄機身結合圓角設計,輕巧好帶
2023-03-26 13:15:02518

【魯班貓創意氛圍賽】智能像素時鐘--報名帖

ESP8266制作該項目。硬件組成部分框圖如下:可以實現像素時鐘的顯示、天氣的顯示、當前時間的顯示、黑客帝國流星特效、喝水提醒、倒計時等功能。
2023-03-25 21:19:15

被卡脖子的半導體設備(萬字深度報告)

光刻是將設計好的電路圖從掩膜版轉印到晶圓表面的光刻膠上,通過曝光、顯影將目標圖形印刻到特定材料上的技術。光刻工藝包括三個核心流程:涂膠、對準和曝光以及光刻膠顯影,整個過程涉及光刻機,涂膠顯影機、量測設備以及清洗設備等多種核心設備,其中價值量最大且技術壁壘最高的部分就是光刻機。
2023-03-25 09:32:394952

虹軟助力OPPO打造超強影像旗艦機OPPO Find X6

OPPO隆重推出了其旗下超光影三主攝影像旗艦OPPO Find X6系列。這次OPPO Find X6系列帶來的「超光影三主攝」,開啟了移動影像全主攝時代。OPPO Find X6系列每一個攝像頭
2023-03-24 14:51:491728

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