、氮化鎵、磷化鎵、鍺、磷化銦、鈮酸鋰、藍(lán)寶石、硅、碳化硅、玻璃不同材質(zhì)晶圓的量測。WD4000國產(chǎn)晶圓幾何形貌量測設(shè)備自動測量Wafer厚度、表面粗糙度、三維形貌、單
2024-03-15 09:22:08
如下硅與石墨復(fù)配的負(fù)極材料的背散SEM,圓圈標(biāo)的地方是硅嗎?如果不是還請大佬指點(diǎn)一下,那些位置是硅?
2024-03-12 08:53:37
的移相特性非常重要,并且在電子電路中有許多實(shí)際應(yīng)用。 首先,我們來觀察和分析RC電路的移相特性。為了用于觀測和分析移相特性,我們可以通過輸入一個正弦信號來激勵RC電路。正弦信號是一種周期性變化的信號,通常用于分析系統(tǒng)的頻率響應(yīng)。在
2024-03-09 14:07:49308 襯底(substrate)是由半導(dǎo)體單晶材料制造而成的晶圓片,襯底可以直接進(jìn)入晶圓制造環(huán)節(jié)生產(chǎn)半導(dǎo)體器件,也可以進(jìn)行外延工藝加工生產(chǎn)外延片。
2024-03-08 11:07:41161 射線,表征材料元素方面的信息,可定性、半定量Be-U的元素 ;
定位測試點(diǎn),如在失效分析中可以用來定位失效點(diǎn),在異物分析中可以用來定位異物點(diǎn)。
博****仕檢測測試案例:
1.觀察材料的表面形貌
2024-03-01 18:59:58
WD4000無圖晶圓幾何形貌測量系統(tǒng)是通過非接觸測量,將晶圓的三維形貌進(jìn)行重建,強(qiáng)大的測量分析軟件穩(wěn)定計(jì)算晶圓厚度,TTV,BOW、WARP、在高效測量測同時有效防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷。可兼容不同材質(zhì)
2024-02-21 13:50:34
輪廓儀,也被稱為白光干涉儀,是利用白光干涉原理進(jìn)行成像測量的儀器,是一種通過測量干涉光的干涉條紋來獲取物體表面形貌的方法。該儀器通過發(fā)射一束寬光譜的白光,并將其照射到
2024-02-20 09:10:090 表面形貌信息。具體而言,掃描探針通過細(xì)微的力變化,測量樣品表面的起伏程度以及凹凸部分的高度差。然后通過數(shù)據(jù)處理,形成高分辨率的圖像。它能夠?qū)崿F(xiàn)納米級別的測量,對微觀結(jié)構(gòu)的細(xì)節(jié)進(jìn)行觀測和分析,揭示出表面的微
2024-02-20 09:06:240 光學(xué)3D表面輪廓儀利用白光干涉原理,以0.1nm分辨率精準(zhǔn)捕捉物體表面細(xì)節(jié),實(shí)現(xiàn)三維顯微成像測量。廣泛應(yīng)用于材料學(xué)領(lǐng)域,可測量各種材料表面形貌,提高超光滑表面形貌的測試精度。
2024-02-19 13:47:01237 臺階儀是一款超精密接觸式微觀輪廓測量儀,能高精度測量微觀表面形貌,揭示表面微觀特征。它具有高速掃描能力,測量范圍廣泛,可應(yīng)用于科學(xué)研究、材料表征、納米技術(shù)等領(lǐng)域。臺階儀的優(yōu)勢包括高精度、快速測量和廣泛適用范圍。
2024-02-18 10:51:05242 、元器件表面進(jìn)行微觀形貌分析的研究課題。無論您的研究方向如何,我們都愿意攜手助力,共同完成科學(xué)研究的使命,推動中國科研和先進(jìn)精密制造事業(yè)的發(fā)展。
2024-01-30 15:21:55267 突破1:液氛SEM的原位多模態(tài)分析 蔡司原位液體電化學(xué)顯微解決方案在SEM高分辨形貌/襯度成像的同時,還能夠?qū)崿F(xiàn)多模態(tài)分析表征,通過搭載EDS、Raman,對物質(zhì)結(jié)構(gòu)與成分進(jìn)行鑒別。在液氛SEM中,將高分辨成像和成分、結(jié)構(gòu)分析有機(jī)結(jié)合,提供
2024-01-30 14:22:07137 概述 Minitab 在“圖形”菜單上提供了一套靈活的圖形以支持各種分析需要。創(chuàng)建圖形時有許多自定義選項(xiàng)可用。 除了可以從“圖形”菜單中使用的圖形以外,Minitab 還在“統(tǒng)計(jì)”菜單上提供了特定
2024-01-29 10:28:48124 近日,廣東致能科技團(tuán)隊(duì)與西安電子科技大學(xué)廣州研究院/廣州第三代半導(dǎo)體創(chuàng)新中心郝躍院士、張進(jìn)成教授團(tuán)隊(duì)等等合作攻關(guān),通過采用廣東致能科技有限公司的薄緩沖層AlGaN / GaN外延片,基于廣州第三代半導(dǎo)體創(chuàng)新中心中試平臺,成功在6英寸藍(lán)寶石襯底上實(shí)現(xiàn)了1700V GaN HEMTs器件。
2024-01-25 10:17:24365 電子科技領(lǐng)域中,半導(dǎo)體襯底作為基礎(chǔ)材料,承載著整個電路的運(yùn)行。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展,對半導(dǎo)體襯底材料的選擇和應(yīng)用要求也越來越高。本文將為您詳細(xì)介紹半導(dǎo)體襯底材料的選擇、分類以及襯底與外延的搭配方案。
2024-01-20 10:49:54474 鈦藍(lán)寶石超強(qiáng)超短激光器的似乎漲到10拍瓦就達(dá)到了上限。目前,對于10拍瓦到100拍瓦的發(fā)展規(guī)劃,研究人員普遍對鈦藍(lán)寶石啁啾脈沖放大技術(shù)不太抱希望,轉(zhuǎn)而將目標(biāo)投向基于氘化磷酸二氫鉀非線性晶體的光學(xué)參數(shù)啁啾脈沖放大技術(shù)。
2024-01-11 09:13:00285 反應(yīng)表面形貌的參數(shù)。通過非接觸測量,WD4000無圖晶圓幾何形貌測量設(shè)備將晶圓的三維形貌進(jìn)行重建,強(qiáng)大的測量分析軟件穩(wěn)定計(jì)算晶圓厚度,TTV、BOW、WARP、在
2024-01-10 11:10:39
在鉆孔過程中鉆頭會發(fā)生磨損,評估和量化磨損的狀況至關(guān)重要,因?yàn)殂@頭的狀態(tài)會直接影響加工孔的質(zhì)量。如何簡單、快速的獲取鉆頭的磨損狀態(tài)?如何精準(zhǔn)的定量分析鉆頭的磨損狀態(tài)?蔡司三本精密儀器可以通過同時提供
2024-01-08 15:12:5298 中圖儀器CP系列臺階儀接觸式表面形貌測量儀器主要用于臺階高、膜層厚度、表面粗糙度等微觀形貌參數(shù)的測量。測量時通過使用2μm半徑的金剛石針尖在超精密位移臺移動樣品時掃描其表面,測針的垂直位移距離被轉(zhuǎn)換
2024-01-04 10:08:52
中圖儀器VT6000系列3D共聚焦形貌顯微鏡以共聚焦技術(shù)為原理、結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等,測量表面物理形貌,進(jìn)行微納米尺度的三維形貌分析,如3D表面形貌、2D的縱深形貌、輪廓(縱深
2024-01-03 10:05:05
切割對于芯片膜厚層為幾十納米的,可以選擇用聚焦離子束FIB-SEM來做芯片截面形貌觀察,SEM-EDS對于芯片的結(jié)構(gòu)成分分析 做線性方向元素分析掃描,面掃描MAPPING來表征芯片結(jié)構(gòu)的元素分析。
FIB剪
2024-01-02 17:08:51
碲鋅鎘(CZT)單晶材料作為碲鎘汞(MCT)紅外焦平面探測器的首選襯底材料,其表面質(zhì)量的優(yōu)劣將直接影響碲鎘汞薄膜材料的晶體質(zhì)量以及成品率,故生產(chǎn)出外延級別的碲鋅鎘襯底表面是極其重要的。
2024-01-02 13:51:18157 當(dāng)前,大尺寸襯底成為碳化硅襯底制備技術(shù)的重要發(fā)展方向。
2023-12-24 14:18:08616 如何使用頻譜分析儀來觀察和分析雜散信號? 頻譜分析儀是一種廣泛應(yīng)用于電子領(lǐng)域的儀器,用于觀察和分析信號的頻譜特性。它可以幫助工程師們檢測和排除信號中的雜散信號,確保設(shè)備的正常工作和無干擾的信號傳輸
2023-12-21 15:37:16592 微納米表面輪廓形貌的測量可以幫助我們了解材料的物理特性、表面形態(tài)以及質(zhì)量狀況。如白光干涉儀是一種常見的微納米表面輪廓儀測量儀器,常用于研究產(chǎn)品的微觀形貌和粗糙度;而共聚焦顯微鏡大傾角超清納米測量,在滿足精度的情況下使用場景更具有兼容性。選擇適合的測量儀器對于準(zhǔn)確獲取樣品表面形貌和特征至關(guān)重要。
2023-12-20 16:38:09358 )及分析反映表面質(zhì)量的2D、3D參數(shù)。廣泛應(yīng)用于襯底制造、晶圓制造、及封裝工藝檢測、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學(xué)加工、顯示面板、MEMS器件等超精密加工行業(yè)。WD
2023-12-20 11:22:44
中圖儀器WD4000無圖晶圓幾何形貌量測系統(tǒng)自動測量Wafer厚度、表面粗糙度、三維形貌、單層膜厚、多層膜厚。它采用白光光譜共焦多傳感器和白光干涉顯微測量雙向掃描技術(shù),完成非接觸式掃描并建立表面3D
2023-12-14 10:57:17
分析 1)對LED燈帶表面兩處異常位置進(jìn)行外觀觀察,兩處位置均呈現(xiàn)片狀發(fā)綠現(xiàn)象。 #LED7位置: #LED10位置: 2)將異常位置表面樹脂層剝離后進(jìn)行觀察,PCB板側(cè)黑油下方發(fā)生腐蝕發(fā)綠;樹脂表面存在腐蝕殘留物質(zhì)。 #PCB側(cè): #剝離后的樹脂: 2.2 X-RAY分析 對LE
2023-12-11 10:09:07188 芯元基由行業(yè)資深專家郝茂盛博士于2014年創(chuàng)辦,上海創(chuàng)徒、張江科投、中微半導(dǎo)體等先后進(jìn)行了投資,并在上海臨港建設(shè)了中試生產(chǎn)線。經(jīng)過5年多的潛心研發(fā),芯元基已經(jīng)形成了以藍(lán)寶石復(fù)合圖形襯底技術(shù)(DPSS)
2023-12-10 09:39:06856 中圖儀器SuperViewW系列3d表面微觀形貌輪廓儀可測各類從超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面,從納米到微米級別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等。它是以3D非接觸方式,測量分析
2023-12-08 11:27:29
中圖儀器SuperViewW1非接觸表面形貌儀白光干涉儀具有測量精度高、功能全面、操作便捷、測量參數(shù)涵蓋面廣的優(yōu)點(diǎn)。它基于白光干涉原理,以3D非接觸方式,測量分析樣品表面形貌的關(guān)鍵參數(shù)和尺寸,測量
2023-12-06 14:04:23
中圖儀器SuperViewW1白光干涉表面形貌檢測儀是利用光學(xué)干涉原理研制開發(fā)的超精細(xì)表面輪廓測量儀器。它具有測量精度高、操作便捷、功能齊全、測量參數(shù)涵蓋面廣的優(yōu)點(diǎn),測量單個精細(xì)器件的過程用時短
2023-12-04 14:52:41
常規(guī)的TEM使用固定的入射電子束,而SEM的電子束在兩個垂直的(X和Y)方向上水平掃描樣品。
2023-12-01 11:37:50686 在工業(yè)應(yīng)用中,光學(xué)3D表面輪廓儀超0.1nm的縱向分辨能力能夠高精度測量物體的表面形貌,可用于質(zhì)量控制、表面工程和納米制造等領(lǐng)域。與其它表面形貌測量方法相比,SuperViewW系列光學(xué)3D表面
2023-11-29 10:04:380 與其它表面形貌測量方法相比,SuperViewW系列光學(xué)3D表面輪廓儀達(dá)到納米級別的相移干涉法(PSI)和垂直掃描干涉法(VSI),具有快速、非接觸的優(yōu)點(diǎn)。它結(jié)合了跨尺度納米直驅(qū)技術(shù)、精密光學(xué)干涉
2023-11-28 10:59:58241 通過有效控制AlN薄膜與Si襯底之間的界面反應(yīng),利用脈沖激光沉積(PLD)在Si襯底上生長高質(zhì)量的AlN外延薄膜。英思特對PLD生長的AlN/Si異質(zhì)界面的表面形貌、晶體質(zhì)量和界面性能進(jìn)行了系統(tǒng)研究。
2023-11-23 15:14:40232 我使用AD8226采集表面肌電信號,使用兩節(jié)18650電池,+-4V供電,ref接地,只能使用50倍放大信號,能觀察到肌肉收縮時信號的波動,使用100倍以上放大信號,無波形!!!!救救我,小白搞畢業(yè)設(shè)計(jì),現(xiàn)在只剩下放大沒弄好!!!!
我使用這個電路,快崩潰了,搞了好久!!!!
2023-11-14 06:35:45
目前以ENIG為表面處理方式所占比例較大,ENIG金屬Ni層以NiP成份為主,在生產(chǎn)中易發(fā)生鎳腐蝕(后面稱blackpad)。
2023-11-10 09:42:39136 中圖儀器CP200國產(chǎn)臺階形貌儀是一種接觸式表面形貌測量儀器,可以對微米和納米結(jié)構(gòu)進(jìn)行膜厚和薄膜高度、表面形貌、表面波紋和表面粗糙度等的測量。測量時通過使用2μm半徑的金剛石針尖在超精密位移臺移動
2023-11-09 09:11:26
干涉現(xiàn)象,使用白光源照射物體,并將反射光經(jīng)過干涉儀的分光裝置后形成干涉圖樣。通過觀察干涉圖樣的變化,就可以獲得物體表面形貌的細(xì)節(jié)信息。
如何使用白光干涉儀來測量坑的形貌?在使用白光干涉儀測量坑的形貌
2023-11-06 14:27:48
晶圓在加工過程中的形貌及關(guān)鍵尺寸對器件的性能有著重要的影響,而形貌和關(guān)鍵尺寸測量如表面粗糙度、臺階高度、應(yīng)力及線寬測量等就成為加工前后的步驟。以下總結(jié)了從宏觀到微觀的不同表面測量方法:單種測量手段
2023-11-03 09:21:580 晶圓在加工過程中的形貌及關(guān)鍵尺寸對器件的性能有著重要的影響,而形貌和關(guān)鍵尺寸測量如表面粗糙度、臺階高度、應(yīng)力及線寬測量等就成為加工前后的步驟。以下總結(jié)了從宏觀到微觀的不同表面測量方法:單種測量手段
2023-11-02 11:21:54462 圖像,通過系統(tǒng)軟件對器件表面3D圖像進(jìn)行數(shù)據(jù)處理與分析,并獲取反映器件表面質(zhì)量的2D、3D參數(shù)。基于白光干涉原理,SuperViewW1白光干涉三維形貌測量儀以3
2023-11-01 09:39:26
廣東全自動SEM掃描電鏡是一種高分辨率的顯微鏡,通過掃描樣品表面并利用電子信號生成圖像。它與傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡不同,能夠提供更高的放大倍數(shù)和更好的表面細(xì)節(jié)。以下是廣東全自動SEM掃描電鏡的原理和構(gòu)造
2023-10-31 15:12:41770 ?它是利用干涉現(xiàn)象,使用白光源照射物體,并將反射光經(jīng)過干涉儀的分光裝置后形成干涉圖樣。通過觀察干涉圖樣的變化,就可以獲得物體表面形貌的細(xì)節(jié)信息。 如何使用白
2023-10-26 10:47:58
WD4000無圖晶圓幾何量測系統(tǒng)自動測量Wafer厚度、表面粗糙度、三維形貌、單層膜厚、多層膜厚。1、使用光譜共焦對射技術(shù)測量晶圓Thickness、TTV、LTV、BOW、WARP、TIR
2023-10-24 09:42:25554 WD4000半導(dǎo)體晶圓表面三維形貌測量設(shè)備自動測量Wafer厚度、表面粗糙度、三維形貌、單層膜厚、多層膜厚。可廣泛應(yīng)用于襯底制造、晶圓制造、及封裝工藝檢測、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學(xué)加工、顯示
2023-10-23 11:05:50
干涉現(xiàn)象,使用白光源照射物體,并將反射光經(jīng)過干涉儀的分光裝置后形成干涉圖樣。通過觀察干涉圖樣的變化,就可以獲得物體表面形貌的細(xì)節(jié)信息。如何使用白光干涉儀來測量坑的形貌?
2023-10-20 09:52:210 UltraScale / UlraScale+系列的SEM IP一共有6種工作模式
2023-10-13 10:06:59432 共聚焦光學(xué)系統(tǒng)為基礎(chǔ),結(jié)合高穩(wěn)定性結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和3D重建算法共同組成測量系統(tǒng),能用于各種精密器件及材料表面的非接觸式微納米測量。能測量表面物理形貌,進(jìn)行微納米尺度的三維形貌分析,如3D表面形貌、2D的縱深
2023-10-11 14:37:46
SOI是Silicon-On-Insulator的縮寫。直譯為在絕緣層上的硅。實(shí)際的結(jié)構(gòu)是,硅片上有一層超薄的絕緣層,如SiO2。在絕緣層上又有一層薄薄的硅層,這種結(jié)構(gòu)將有源硅層與襯底的硅層分開。而在傳統(tǒng)的硅制程中,芯片直接在硅襯底上形成,沒有使用絕緣體層。
2023-10-10 18:14:031123 實(shí)際樣品中,并不能直接觀察到不同的晶體學(xué)方向或晶面,只能看到晶粒的形貌。
2023-10-08 10:40:173037 經(jīng)過離子槍聚焦、加速后作用于樣品表面,實(shí)現(xiàn)離子的成像、注入、刻蝕和沉積。 截面分析是SEM/FIB(Scanning Electron Microscope/Focused Ion beam)雙束系統(tǒng)
2023-10-07 14:44:41393 CD-SEM,全名Critical Dimension Scanning Electron Microscopy,中文翻譯過來是:特征尺寸掃描電子顯微鏡。
2023-10-07 10:34:231434 W系列3d光學(xué)輪廓儀是以白光干涉技術(shù)為原理(用于光在兩個不同表面反射后形成的干涉條紋進(jìn)行分析的設(shè)備),能夠以優(yōu)于納米級的分辨率,非接觸測量樣品表面形貌的光學(xué)測量儀器。其基本原理就是通過不同光學(xué)元件
2023-09-28 15:36:421805 SuperViewW系列白光干涉顯微形貌儀是以白光干涉技術(shù)原理,通過測量干涉條紋的變化來測量表面三維形貌,是一款用于精密零部件之重點(diǎn)部位表面粗糙度、微小形貌輪廓及尺寸的納米級測量儀器。產(chǎn)品簡介
2023-09-26 14:12:49
SuperViewW1白光干涉表面形貌儀用于對各種精密器件及材料表面進(jìn)行亞納米級測量,可測各類從超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面,從納米到微米級別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等
2023-09-19 14:31:26
觸針式粗糙度輪廓儀廣泛應(yīng)用于工程領(lǐng)域和制造業(yè)中,用于表面形貌的分析和處理。通過測量獲得的表面形貌數(shù)據(jù),可以進(jìn)行各種形式的分析,如峰谷高度分布、表面輪廓特征、表面粗糙度和形狀參數(shù)等。
2023-09-18 09:44:07474 臺階儀是一種接觸式表面形貌測量儀器,可以對微米和納米結(jié)構(gòu)進(jìn)行膜厚和薄膜高度、表面形貌、表面波紋和表面粗糙度等的測量。中圖儀器CP系列臺階儀接觸式表面形貌測量儀廣泛應(yīng)用于:大學(xué)、研究實(shí)驗(yàn)室和研究所
2023-09-14 16:10:14
SuperViewW1三維白光干涉表面形貌儀采用光學(xué)干涉技術(shù)、精密Z向掃描模塊和3D重建算法組成測量系統(tǒng),高精度測量;隔振系統(tǒng)能夠有效隔離頻率2Hz以上絕大部分振動,消除地面振動噪聲和空氣中聲波振動
2023-09-13 10:30:22
表面貼裝技術(shù)中的鋼網(wǎng)設(shè)計(jì)是決定焊膏沉積量的關(guān)鍵因素,而再流焊后形成的焊點(diǎn)形貌與鋼網(wǎng)的開口設(shè)計(jì)有著千絲萬縷的聯(lián)系。從SMT錫膏印刷工藝的理論基礎(chǔ)出發(fā),結(jié)合實(shí)際PCB(印制線路板)上錫膏印刷量,針對在不同線寬的高速信號線衍生形成的焊盤上印刷不同體積的錫膏量,論證再流焊后形成的焊點(diǎn)形貌。
2023-09-12 10:29:03383 ,另一方面需要控制材料表面的缺陷密度,減少由缺陷導(dǎo)致的碲鎘汞外延片可用面積損失。研究人員已經(jīng)對碲鎘汞薄膜的表面缺陷進(jìn)行了大量研究。液相外延碲鎘汞材料表面出現(xiàn)的貫穿型缺陷深度超過10 μm,與碲鎘汞材料的厚度相近,可達(dá)碲鋅鎘襯底界面
2023-09-10 08:58:20368 SuperViewW1光學(xué)材料表面形貌測試儀是利用光學(xué)干涉原理研制開發(fā)的超精細(xì)表面輪廓測量儀器,具有測量精度高、操作便捷、功能齊全、測量參數(shù)涵蓋面廣的優(yōu)點(diǎn),測量單個精細(xì)器件的過程用時2分鐘以內(nèi),確保
2023-09-08 17:32:10
聚焦離子束-掃描電子顯微鏡雙束系統(tǒng) FIB-SEM應(yīng)用
聚焦離子束-掃描電鏡雙束系統(tǒng)主要用于表面二次電子形貌觀察、能譜面掃描、樣品截面觀察、微小樣品標(biāo)記以及TEM超薄片樣品的制備。
1.FIB切片
2023-09-05 11:58:27
此教程描述如何使用 Arm 圖形分析器來捕捉使用馬里 GPU 的 Android 設(shè)備運(yùn)行的可調(diào)試應(yīng)用程序的圖形痕跡。 您也可以觀看此教程的視頻: 在您開始在主機(jī)上 : 1. 下載并安裝適合您的主機(jī)
2023-08-24 08:04:03
白光干涉儀是一種常見的測量設(shè)備,它能夠利用不同的光束干涉原理來觀察和測量顯微形貌。當(dāng)白色光經(jīng)過分束鏡分成兩束光線,這些光線在目標(biāo)物體上反射后重新合并。這樣,生成的光束會發(fā)生干涉,由此產(chǎn)生一系列明暗相間的干涉條紋。這些條紋的形狀和間距與目標(biāo)物體的表面形貌直接相關(guān)。
2023-08-23 10:35:21441 、三維表面結(jié)構(gòu):粗糙度,波紋度,表面結(jié)構(gòu),缺陷分析,晶粒分析等;
2、二維圖像分析:距離,半徑,斜坡,格子圖,輪廓線等;
3、表界面測量:透明表面形貌,薄膜厚度,透明薄膜下的表面;
4、薄膜和厚膜
2023-08-21 13:46:12
測量金屬制品的長度、寬度、高度等維度參數(shù)。
除了測量金屬表面的形狀和輪廓外,光學(xué)3D表面輪廓儀還可以生成三維點(diǎn)云數(shù)據(jù)和色彩圖像,用于進(jìn)一步分析和展示:
1、三維點(diǎn)云數(shù)據(jù)可以用于進(jìn)行CAD模型比對、工藝
2023-08-21 13:41:46
CP國產(chǎn)臺階儀是一款超精密接觸式微觀輪廓測量儀器,其主要用于臺階高、膜層厚度、表面粗糙度等微觀形貌參數(shù)的測量。測量時通過使用2μm半徑的金剛石針尖在超精密位移臺移動樣品時掃描其表面,測針的垂直位移
2023-08-16 11:16:49
GaN半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)為:襯底→GaN材料外延→器件設(shè)計(jì)→器件制造。其中,襯底是整個產(chǎn)業(yè)鏈的基礎(chǔ)。 作為襯底,GaN自然是最適合用來作為GaN外延膜生長的襯底材料。
2023-08-10 10:53:31664 圖形分析器是一個幫助OpenGL ES和Vulkan開發(fā)人員通過API級別的分析來充分利用其應(yīng)用程序的工具。
該工具允許您觀察API調(diào)用參數(shù)和返回值,并與正在運(yùn)行的目標(biāo)應(yīng)用程序交互,以調(diào)查單個API
2023-08-09 06:08:14
和共聚焦3D顯微形貌檢測技術(shù),廣泛應(yīng)用于涉足超精密加工領(lǐng)域的三維形貌檢測與表面質(zhì)量檢測方案。其中,VT6000系列共聚焦顯微鏡,在結(jié)構(gòu)復(fù)雜且反射率低的表面3D微觀形貌重構(gòu)與檢測方面具有不俗的表現(xiàn)。
一
2023-08-04 16:12:06
平臺中心并正式投入使用。SEM5000可提供形貌觀測服務(wù):(1)對于觀測已經(jīng)干燥的組織樣品,可以直接在儀器預(yù)約平臺上預(yù)約使用。(2)需要進(jìn)行干燥處理的新鮮組織樣品,可以采用固定液
2023-07-31 23:30:26350 白光干涉儀利用白光干涉原理,通過測量光的相位變化來獲取物體表面的形貌信息。在工業(yè)制造、科學(xué)研究等領(lǐng)域,被廣泛用于測量精密器件的形貌、表面缺陷檢測等方面。白光干涉儀通過對干涉條紋進(jìn)行圖像處理,可以獲得
2023-07-21 11:05:48418 白光干涉儀測量的結(jié)果通常以二維形貌圖或三維形貌圖的形式展示。二維形貌圖是對干涉條紋進(jìn)行圖像處理得到的,顯示出被測物體表面的高低起伏。而三維形貌圖則是在二維圖像的基礎(chǔ)上,進(jìn)一步還原出物體表面的立體形貌
2023-07-21 11:03:00522 SEM IP是一種比較特殊的IP。它的基本工作就是不停地后臺掃描檢測FPGA配置RAM中的數(shù)據(jù)
2023-07-10 16:40:23420 這是Amanda王莉第55篇文章,點(diǎn)這里關(guān)注我,記得標(biāo)星在當(dāng)今世界,SEM掃描電子顯微鏡分析技術(shù),一種介于透射電子顯微鏡和光學(xué)顯微鏡之間的一種觀察手段,主要應(yīng)用在半導(dǎo)體、材料科學(xué)、生命科學(xué)和納米材料
2023-07-05 10:04:061995 NightN光學(xué)表面形貌測試儀HION產(chǎn)品介紹:光學(xué)測試儀HION用于光學(xué)表面測試。該技術(shù)基于 Shack-Hartmann 方法。激光束從被測光學(xué)表面反射并進(jìn)入 Shack-Hartmann 波前
2023-06-29 14:12:45
基于具有規(guī)則六邊形孔的納米圖案化氮化鋁AlN/藍(lán)寶石模板,藍(lán)寶石氮化預(yù)處理和解理面的有序橫向生長,保證了離散的氮化鋁AlN柱,以均勻的面外和面內(nèi)取向結(jié)合,有效地抑制了凝聚過程中穿透位錯threading dislocations的再生。
2023-06-25 16:26:11359 白光干涉儀是以白光干涉技術(shù)原理,對各種精密器件表面進(jìn)行納米級測量的光學(xué)3D表面輪廓測量儀,通過測量干涉條紋的變化來測量表面三維形貌,專用于精密零部件之重點(diǎn)部位表面粗糙度、微小形貌輪廓及尺寸的非接觸
2023-06-16 11:53:051106 最重要的器件之一,在功率器件和射頻器件領(lǐng)域擁有廣泛的應(yīng)用前景。HEMT器件通常是在硅(Si)、藍(lán)寶石(Al2O3)、碳化硅(SiC)等異質(zhì)襯底上通過金屬有機(jī)氣象外延(MOCVD)進(jìn)行外延制備。由于異質(zhì)
2023-06-14 14:00:551652 EMMI:Emission microscopy 。與SEM,F(xiàn)IB,EB等一起作為最常用的失效分析手段。
2023-06-12 18:21:182310 等離子體蝕刻是氮化鎵器件制造的一個必要步驟,然而,載體材料的選擇可能會實(shí)質(zhì)上改變蝕刻特性。在小型單個芯片上制造氮化鎵(GaN)設(shè)備,通常會導(dǎo)致晶圓的成本上升。在本研究中,英思特通過鋁基和硅基載流子來研究蝕刻過程中蝕刻速率、選擇性、形貌和表面鈍化的影響。
2023-05-30 15:19:54452 在材料生產(chǎn)檢測領(lǐng)域中,共聚焦顯微鏡主要測量表面物理形貌,進(jìn)行微納米尺度的三維形貌分析,如3D表面形貌、2D的縱深形貌、輪廓(縱深、寬度、曲率、角度)、表面粗糙度等。與傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡相比,它具有更高
2023-05-25 11:27:02
AlN基器件的熱阻抗降至AlN/藍(lán)寶石基器件的1/3(從31K-mm/W壓降至10K-mm/W),與SiC和銅散熱器相當(dāng),相較于其他半導(dǎo)體器件體現(xiàn)出顯著的熱電協(xié)同設(shè)計(jì)優(yōu)勢,從而實(shí)現(xiàn)峰值漏極飽和電流
2023-05-25 09:51:23599 測表面反射回來,另外一束光經(jīng)參考鏡反射,兩束反射光最終匯聚并發(fā)生干涉,顯微鏡將被測表面的形貌特征轉(zhuǎn)化為干涉條紋信號,通過測量干涉條紋的變化,能實(shí)現(xiàn)表面輪廓的三維重建并可進(jìn)行輪廓尺寸分析。
白光干涉儀的形貌
2023-05-23 13:58:04
特性與使用性能的關(guān)系、控制和改進(jìn)加工方法等都有著顯著的意義。隨著微電子技術(shù)、光學(xué)技術(shù)、計(jì)算機(jī)技術(shù)、傳感技術(shù)、信號分析和處理技術(shù)等飛速發(fā)展,對表面形貌測量精度不斷提高
2023-05-19 16:52:10411 PTFE表面等離子改性是一種有效的技術(shù)手段,可以改變PTFE表面的性質(zhì),增加其在各個領(lǐng)域的應(yīng)用。通過引入親水基團(tuán)、改善表面形貌、形成致密的氟化物膜等方式,可以提高PTFE表面的粘附性、潤濕性、抗腐蝕性、耐磨性、生物相容性和電性能。
2023-05-19 10:45:39628 藍(lán)寶石是一種高硬度、高強(qiáng)度、高熔點(diǎn)的陶瓷材料,其主要成分是氧化鋁(Al2O3)。藍(lán)寶石陶瓷基板的制備方法是在高溫高壓下燒結(jié)制成。藍(lán)寶石陶瓷基板的晶體結(jié)構(gòu)具有六方晶系,其晶體密度為3.98 g/cm
2023-05-17 08:42:00519 在信號量的api中有一個api: rt_sem_control ,目前只支持一個命令RT_IPC_CMD_RESET 即重置信號量值,在官方的demo中經(jīng)常看到這種用法rt_sem
2023-05-05 17:26:37
藍(lán)寶石是一種高硬度、高強(qiáng)度、高熔點(diǎn)的陶瓷材料,其主要成分是氧化鋁(Al2O3)。藍(lán)寶石陶瓷基板的制備方法是在高溫高壓下燒結(jié)制成。藍(lán)寶石陶瓷基板的晶體結(jié)構(gòu)具有六方晶系,其晶體密度為3.98 g/cm3,熔點(diǎn)為2040℃。
2023-05-05 16:35:28343 生長中主要以藍(lán)寶石、Si、砷化鎵、氧化鎂等的立方相結(jié)構(gòu)作為襯底,以(011)面為基面有可能得到比較穩(wěn)定的閃鋅礦結(jié)構(gòu)的氮化鎵納米材料。
2023-04-29 16:41:0012092 研究團(tuán)隊(duì)利用傳統(tǒng)的機(jī)械剝離法在藍(lán)寶石襯底上制備了二維金屬納米片,利用光學(xué)顯微鏡將飛秒脈沖激光垂直輻射在納米片上:當(dāng)脈沖激光照射時,二維納米片開始運(yùn)動,并在均勻光照區(qū)域內(nèi)持續(xù)運(yùn)動,通過激光的移動來改變輻照區(qū)域
2023-04-28 10:35:17483 藍(lán)寶石陶瓷基板是一種高硬度、高強(qiáng)度、高熔點(diǎn)的陶瓷材料,其主要成分是氧化鋁(Al2O3)。藍(lán)寶石陶瓷基板的制備方法是在高溫高壓下燒結(jié)制成。藍(lán)寶石陶瓷基板的晶體結(jié)構(gòu)具有六方晶系,其晶體密度為3.98 g/cm3,熔點(diǎn)為2040℃。
2023-04-25 15:38:04400 根據(jù)維基百科的定義,光刻是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu),然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓,還可以是其他金屬層、介質(zhì)層,例如玻璃、SOS中的藍(lán)寶石。
2023-04-25 11:11:331243 【核芯觀察】是電子發(fā)燒友編輯部出品的深度系列專欄,目的是用最直觀的方式令讀者盡快理解電子產(chǎn)業(yè)架構(gòu),理清上、中、下游的各個環(huán)節(jié),同時迅速了解各大細(xì)分環(huán)節(jié)中的行業(yè)現(xiàn)狀。本期【核芯觀察】的主題是衛(wèi)星通信產(chǎn)業(yè),對上下游企業(yè)、技術(shù)、市場等方面進(jìn)行梳理,分析當(dāng)前衛(wèi)星通信產(chǎn)業(yè)中芯片的需求趨勢。
2023-04-23 00:01:004089 季豐電子HITACHI HF5000功能豐富,借助超高的分辨率和獨(dú)特的探頭設(shè)計(jì),可滿足客戶大多數(shù)極限應(yīng)用需求,比如高分辨單原子像、輕元素成像、表面納米級至原子級形貌觀察以及納米結(jié)構(gòu)至原子形貌mapping等,對于常規(guī)需求能輕松應(yīng)對。
2023-04-11 17:08:181472 。左圖直徑800 mm、500 mm、 300 mm 和 200 mm 微孔陣列. 右圖直徑5mm、3mm、 2mm、1mm、800 mm and 500 mm 微孔圖樣。 圖2. 藍(lán)寶石晶體表面光柵刻劃,周期2 mm和3 mm。 圖3. 透明材料(藍(lán)寶石)內(nèi)部激光誘導(dǎo)折射率變化--衍射光柵 審核編輯?黃宇
2023-04-06 07:43:13306
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