液晶顯示器的器件構(gòu)造

TFT掃描電鏡照片

CF

　　液晶成盒基板是由TFT基板與彩膜(CF)基板貼合在一起，并在中間填充液晶構(gòu)成的。其中陣列基板和彩膜基板之間要求控制間隔為數(shù)微米，而且具有均一的間隔，并由均一的墊料(spacer)來(lái)達(dá)到這一效果。在陣列基板側(cè)為驅(qū)動(dòng)像素設(shè)計(jì)了gate線及數(shù)據(jù)線的引出電極。彩膜基板是由多個(gè)重復(fù)的RGB(紅、綠、藍(lán))三原色構(gòu)成的圖形，圖形形成的位置是與陣列基板上的各像素完全對(duì)應(yīng)的。利用與業(yè)已成熟的LCD技術(shù)形成一個(gè)液晶盒相結(jié)合，再經(jīng)過(guò)后工序如偏光片的貼覆等過(guò)程，最后形成液晶顯示屏。

　　TFT基板生產(chǎn)工藝

　　TFT基板的生產(chǎn)工藝流程，玻璃素板經(jīng)過(guò)反復(fù)4~5次的成膜-曝光-顯影-蝕刻-檢查等工序，形成等效于薄膜晶閘管的TFT基板。TFT基板上薄膜分成兩種：金屬膜和非金屬膜。非金屬膜由化學(xué)氣相沉積法(CVD)生成，金屬膜主要由濺射法(Sputter)生成。對(duì)應(yīng)薄膜的生成，蝕刻則是把不需要的薄膜部分去除掉，金屬膜蝕刻大多采用濕式蝕刻(wet etching)，非金屬膜大多采用干式蝕刻(dry etching)。

　　液晶顯示面板制造中TFT基板的制程工藝，并經(jīng)過(guò)掃描電鏡的顯示、檢查和分析等項(xiàng)目得出相關(guān)的結(jié)果。通過(guò)這些試驗(yàn)及其結(jié)果，提出了干式蝕刻中對(duì)產(chǎn)品缺陷產(chǎn)生的影響因素，并為提高產(chǎn)品的品質(zhì)、降低不良率提供了一種技術(shù)參考。
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　　審核編輯：ymf