本文展示了一種使用連續濕法化學表面活化(即SPM→RCAl清洗)結合硅和石英玻璃晶片的鍵合方法。經過200 ℃的多步后退火,獲得了無空洞或微裂紋的牢固結合,基于詳細的表面和鍵合界面表征,建立
2022-05-13 16:08:322356 在整個晶圓加工過程中,仔細維護清潔的晶圓表面對于在半導體器件制造中獲得高產量至關重要。因此,濕式化學清洗以去除晶片表面的污染物是任何LSI制造序列中應用最重復的處理步驟。
2023-03-30 10:00:091940 本實用新型涉及云計算機設備技術領域,具體為一種新型云計算機設備。背景技術:云計算是基于互聯網的相關服務的增加、使用和交互模式,通常涉及通過互聯網來提供動態易擴展且經常是虛擬化的資源。通過云計算
2021-09-02 07:19:26
一種新型光纖位移傳感器的設計
2012-08-14 23:19:19
一種新型單相脈沖整流器
2012-08-20 17:00:38
一種新型多協作中繼選擇協議研究
2012-08-06 13:35:31
請求大佬詳細介紹一下一種新型微弱激光檢測系統
2021-04-21 06:19:40
一種新型的電梯門機控制系統電梯的開關門過程是一個變速運動過程 ,需要對電梯門系統的驅動電機進行調速控制;本文提出了一種以高性能單片微機87C196MC 為核心的電梯門機變頻調速控制系統,功率驅動電路
2009-10-06 08:59:56
一種新型的矩陣鍵盤掃描方式
2016-10-09 21:37:27
波長選擇開關(WSS)被認為是最重要的波長引擎技術,已成為運營商在下一代網絡部署中的關鍵器件。提出了一種新型的波長選擇開關結構,用基于一維的微電機系統(MEMS)轉鏡實現切換的功能和透射式MEMS
2010-06-02 10:05:15
一種新穎的ZVZCSPWM全橋變換器
2012-04-08 12:46:49
新型銅互連方法—電化學機械拋光技術研究進展多孔低介電常數的介質引入硅半導體器件給傳統的化學機械拋光(CMP)技術帶來了巨大的挑戰,低k 介質的脆弱性難以承受傳統CMP 技術所施加的機械力。一種結合了
2009-10-06 10:08:07
新型非聯網2.4GHz技術為什么會是一種理想的選擇?
2021-05-28 06:15:05
LabVIEW開發新型電化學性能測試設備
開發了一種基于Arduino和LabVIEW的新型電化學性能測試裝置,專門用于實驗電池,特別是在鋰硫(Li-S)技術領域的評估。這種裝置結合了簡單、靈活
2023-12-10 21:00:05
1、全自動化的在線式清洗機 一種全自動化的在線式清洗機,該清洗機針對SMT/THT的PCBA焊接后表面殘留的松香助焊劑、水溶性助焊劑、免清洗性助焊劑/焊膏等有機、無機污染物進行徹底有效的清洗
2021-02-05 15:27:50
不足之處在于廢液和廢水處理是一個較為復雜和尚待徹底解決的問題。 3、免清洗技術 在焊接過程中采用免清洗助焊劑或免清洗焊膏,焊接后直接進入下道工序不再清洗,免清洗技術是目前使用最多的一種替代技術,尤其是
2018-09-14 16:39:40
抄板之免清洗技術 在焊接過程中采用免清洗助焊劑或免清洗焊膏,焊接后直接進入下道工序不再清洗,免清洗技術是目前使用最多的一種替代技術,尤其是移動通信產品基本上都是采用免洗方法來替代ODS.目前國內
2018-09-13 15:47:25
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1、免清洗技術 在焊接過程中采用免清洗助焊劑或免清洗焊膏,焊接后直接進入下道工序不再清洗,免清洗技術是目前使用最多的一種
2012-07-23 20:41:56
定義的CSP分類中。晶片級CSP是多種應用的一種低成本選擇,這些應用包括EEPROM等引腳數量較少的器件,以及ASIC和微處理器。CSP采用晶片級封裝(WLP)工藝加工,WLP的主要優點是所有裝配
2018-08-27 15:45:31
什么是綠色無線通信的新型基站架構?基于軟件無線電技術的新型基站架構是怎樣設計的?
2021-05-27 06:27:18
分享一種Bluetooth 2.1+EDR版本的藍牙技術
2021-05-26 06:45:04
分享一種CameraCube新型圖像傳感技術
2021-06-08 09:29:49
本文根據國內外線纜測試技術的發展及生產企業的實際要求,設計了一種新型便攜式線纜組快速測試系統。該測試系統采用兩塊CPLD 用于接口電路,從而實現多組線纜(內有多條導線)同時測試,檢測線纜的通斷、短路和錯接情況,進而達到快速檢測線纜連通性能的目的。
2021-05-08 06:04:28
有機物光纖的特點是什么?一種新型有機物光纖的全光交換系統設計與實現
2021-06-03 06:45:33
新型車載影音系統的工作原理是什么?如何去設計一種新型車載影音系統?
2021-05-12 06:46:11
為什么要提出一種新型AC-PDP驅動電路?新型AC-PDP驅動電路的設計思想及其計算機仿真新型AC-PDP驅動電路的具體實現
2021-04-21 07:00:47
本文重點剖析了全橋模擬型D類功放設計要素,實現了一種基于NXP公司新型綠色能效模擬D類功放TFA9810T電路設計,并重點對綠色節能高效、高輸出功率、低溫升效應、PCB布局、EMI抑制幾個方面進行總結分析。
2021-04-22 06:20:52
在深亞微米工藝條件下設計了一種新型電流靈敏放大器,該電流靈敏放大器的優勢在于響應速度快,并且可以在較低電源電壓和惡劣環境下正常工作。
2021-04-20 06:08:25
在本設計中,設計了一種新型的應用pin diodes的射頻開關轉換電路,實現的功能是4路RF輸入信號選擇其中任意2路RF信號輸出。
2021-06-04 06:55:00
什么是DPGA(數字可編程增益放大器)?如何設計一種采用發散指數曲線理念的新型DPGA?
2021-04-23 07:05:37
接近傳感器是如何定義的?接近傳感器有哪些應用?接近傳感器的一種新型應用是什么?
2021-06-16 07:37:50
本文根據國內外線纜測試技術的發展及生產企業的實際要求,設計了一種新型便攜式線纜組快速測試系統。該測試系統采用兩塊CPLD 用于接口電路,從而實現多組線纜(內有多條導線)同時測試,檢測線纜的通斷、短路和錯接情況,進而達到快速檢測線纜連通性能的目的。
2021-05-14 06:19:16
根據供電企業的實際需要,采用無線技術設計了一種新型電纜接頭溫度監測系統終端。
2021-04-09 06:05:47
本文介紹了一種新型UHF頻段RFID讀寫器設計方案。
2021-06-01 06:33:21
基于FPGA的新型數字微鏡芯片測試系統是由哪些部分組成的?怎樣去設計一種基于FPGA的新型數字微鏡芯片測試系統?
2021-11-10 06:05:57
怎樣去設計一種基于STM32的負壓式玻璃清洗機器人呢?有哪些操作流程?
2021-10-14 08:47:00
怎樣去設計一種基于電磁感應定律的化學污水流量計選擇電路呢?其有哪些功能?
2021-11-10 07:21:00
的保潔維護。由停電作業轉變為帶電維護,是對全社會設備維護技術的一次革新,是對社會發展和文明進步的積極貢獻。傳統清洗維護傳統的清洗維護方法相當落后:用“皮老虎”吹拂,用小毛刷撣刷,用酒精棉球擦拭等等,效率
2020-09-10 08:45:55
求一種新型WCDMA直放站PA的設計方案
2021-05-26 06:14:52
求一種新型低溫科里奧利質量流量計
2021-05-06 06:56:40
請求大佬分享一種新型光電定向系統的設計與實現
2021-04-22 06:16:37
求一種新型系統級可編程芯片的設計方案
2021-05-06 07:44:32
求一種DSP+CPLD新型的智能儀器的設計方案
2021-05-08 07:54:25
求一種可以讓汽車中電容傳感器的應用數量大幅增長的新型測量技術?
2021-05-11 07:04:26
本文以傳統的電磁式系統為基礎,研制一種使用紅外輻射技術的新型轉速測量儀,安裝方便,對周圍環境要求不高,可以很容易地完成轉速的測量。具有較寬的動態測量范圍,測量精度較高。
2021-05-08 06:46:34
進入下道工序不再清洗,免清洗技術是目前使用最多的一種替換技術,尤其是移動通訊產品基本上都是采用免洗方法來替換ODS。目前海內外已經開發出良多種免洗焊劑,海內如北京晶英公司的免清洗焊劑。免清洗焊劑大致
2018-09-13 15:50:54
怎么設計一種新型射頻開關轉換電路?射頻開關轉換電路設計步驟有哪些?
2021-04-21 07:06:21
怎樣去設計一種全高清H264視頻硬解碼系統?如何對全高清H264視頻硬解碼系統進行測試?
2021-06-01 07:12:58
怎樣去設計一種新型寬帶圓極化微帶天線?
2021-05-31 06:10:06
為什么要設計一種新型電壓基準電路?怎樣去設計一種新型電壓基準電路?
2021-04-22 06:37:20
為什么要提出一種基于AVR的新型防汽車追尾安全裝置設計?怎樣去設計一種新型防汽車追尾安全裝置?
2021-05-12 06:02:32
ADXL202工作原理是什么?ADXL202的抗干擾設計思想是什么?車載電子羅盤中的一種新型抗干擾設計
2021-05-13 07:01:36
研究人員開發了一種新型的無線充電發射器,它可以以90% 的高效率在近距離為多個設備充電。無線充電技術不再依賴于插頭、插座和充電板來充電,使得人們的生活更加輕松。世界各地的研究人員都在嘗試制造真正
2022-03-03 11:10:26
敘述了凝汽器銅管化學清洗的優點和在清洗過程中必須注意的幾個問題,并且用實例進一步說明化學清洗還能夠有效防止凝汽器銅管的腐蝕。
2010-02-03 11:43:558 本發明的工藝一般涉及到半導體晶片的清洗。更確切地說,本發明涉及到可能存在于被研磨的單晶硅晶片的表面上的有機殘留物、金屬雜質和其它特定的沾污物的清洗處理步驟的順序。 集成電路制造中所用的半導體晶片
2020-12-29 14:45:211999 近日,中國科學院微系統與信息技術研究所第八研究室宓現強課題組通過同時引入電化學生物傳感器、DNA四面體探針和微流控芯片,開發了一種新型的微流控-電化學檢測系統
2021-05-30 08:58:412748 一種新型的多智能體深度強化學習算法
2021-06-23 10:42:4736 [技術領域] 本實用新型涉及半導體制造技術領域,具體地說是一種酸性化學品供應控制系 統。 由于半導體行業中芯片生產線的工作對象是硅晶片,而能在硅晶片上蝕刻圖形 以及清洗硅晶片上的雜質、微粒子的化學
2023-04-20 13:57:0074 索引術語—清洗、化學機械拋光、乙二胺四乙酸、多晶硅、三氧化二氫。 摘要 本文為后化學機械拋光工藝開發了新型清洗液,在稀釋的氫氧化銨(NH4OH+H2O)堿性水溶液中加入表面活性劑四甲基氫氧化銨
2022-01-26 17:21:18550 半導體制造工業中的濕法清洗/蝕刻工藝用于通過使用高純化學品清洗或蝕刻來去除晶片上的顆粒或缺陷。擴散、光和化學氣相沉積(CVD)、剝離、蝕刻、聚合物處理、清潔和旋轉擦洗之前有預清潔作為濕法清潔/蝕刻
2022-02-22 13:47:511696 和極低溫的關于向粒子噴射氮氣溶膠等“清洗能力相關技術”進行了大量研究;另一方面,關于通過清洗暫時遠離晶片的粒子,重新附著到晶片上,進行葉片式清洗,在干燥時晶片和保持晶片的轉盤高速旋轉。
2022-02-22 16:01:08904 清洗都是開發半導體電子器件的首要和基本步驟。清洗過程是在不改變或損壞晶圓表面或基片的情況下去除化學物質和顆粒雜質。 介紹 半導體是一種固體物質,其導電性介于絕緣體和導體之間。半導體材料的定義性質是,它可以摻雜
2022-02-23 17:44:201426 摘要 該公司提供了一種用于清洗半導體晶片的方法和設備 100,該方法和方法包括通過從裝載端口 110 中的盒中取出兩個或多個晶片來填充化學溶液的第一罐將晶片放入。將晶片放入裝滿液體的第一槽(137
2022-02-28 14:56:03927 摘要 研究了泵送方法對晶片清洗的影響。兩種類型的泵,例如隔膜泵和離心泵,用于在濕浴和單晶片工具中循環和供應用于晶片清潔的去離子水。清洗研究表明,泵送方法對清洗性能有很大影響。實驗研究表明,在 MLC
2022-03-02 13:56:46521 摘要 本文介紹了半導體晶片加工中為顆粒去除(清洗)工藝評估而制備的受污染測試晶片老化的實驗研究。比較了兩種晶片制備技術:一種是傳統的濕法技術,其中裸露的硅晶片浸泡在充滿顆粒的溶液中,然后干燥;另一種
2022-03-04 15:03:502588 殘留物由不同量的聚乙二醇或礦物油(切削液)、鐵和銅的氧化物、碳化硅和研磨硅,這些殘留物可以通過鋸切過程中產生的摩擦熱燒到晶片表面,為了去除這些殘留物,需要選擇正確的化學物質來補充所使用的設備。 在晶片清洗并給予
2022-03-15 16:25:37320 本文介紹了新興的全化學晶片清洗技術,研究它們提供更低的水和化學消耗的能力,提供了每種技術的工藝應用、清潔機制、工藝效益和考慮因素、環境、安全和健康(ESH)效益和考慮因素、技術狀態和供應商信息的可用信息。
2022-03-16 15:24:57308 單片SPM系統使用了大量的化學物質,同時滿足28nm以下的清潔規格。 本文描述了在集成系統Ultra-C Tahoe中使用批量SPM系統和單晶片清洗,結果達到了技術規范,使用了不到單晶片系統中使用的80%的SPM化學物質。
2022-04-01 14:22:551155 在許多半導體器件的制造中,硅是最有趣和最有用的半導體材料。 在半導體器件制造中,各種加工步驟可分為四大類,即沉積、去除、圖形化和電性能的修改。 在每一步中,晶片清洗都是開發半導體電子器件的首要和基本步驟。 清洗過程是在不改變或損壞晶圓表面或基片的情況下去除化學物質和顆粒雜質。
2022-04-01 14:25:332948 法與添加臭氧的超純水相結合的新清洗法,與以往的方法相比,具有更好的清洗能力,在抑制自然氧化膜生成的同時,可以在短時間內完全除去晶片表面的有機物。
2022-04-13 15:25:211593 本文利用CZ、FZ和EPI晶片,研究了濕式化學清洗過程對硅晶片表面微粒度的影響。結果表明,表面微粗糙度影響了氧化物的介電斷裂~特性:隨著硅基底的微粗糙度的增加,氧化物的微電擊穿會降解。利用
2022-04-14 13:57:20459 本發明公開了一種用濕式均勻清洗半導體晶片的方法,所公開的本發明的特點是:具備半導體晶片和含有預定清潔液的清潔組、對齊上述半導體晶片的平坦區域,使其不與上述清潔組的入口相對、將上述對齊的半導體晶片浸入
2022-04-14 15:13:57604 本文的目標是討論一種新技術,它可以在保持競爭力的首席運營官的同時改善權衡。 將開發濕化學抗蝕劑去除溶液的能力與對工藝和工具要求的理解相結合,導致了用于光刻膠去除的單晶片清洗技術的發展。 該技術針對
2022-05-07 15:11:11621 引言 描述了溢流晶片清洗工藝中的流場。該信息被用于一項倡議,其主要目的是減少晶片清洗中的用水量。使用有限元數值技術計算速度場。大部分的水無助于晶片清洗。 介紹 清洗步驟占工廠中使用的ulaa純水
2022-06-06 17:24:461044 表面和亞微米深溝槽的清洗在半導體制造中是一個巨大的挑戰。在這項工作中,使用物理數值模擬研究了使用脈動流清洗毯式和圖案化晶片。毯式晶片清洗工藝的初步結果與文獻中的數值和實驗結果吻合良好。毯式和圖案化晶片的初步結果表明,振蕩流清洗比穩定流清洗更有效,并且振蕩流的最佳頻率是溝槽尺寸的函數。
2022-06-07 15:51:37291 華林科納使用多步清洗工藝清洗晶片的半導體襯底表面,其中清洗工藝的最后一步包括用HMSO和HCO的溶液清洗,由此在晶片表面上形成化學氧化物初始層。此后,晶片的表面被氧化以形成熱氧化層,其中在集成電路的制造中,化學氧化
2022-06-17 17:20:40783 本文講述了我們華林科納的一種在單個晶圓清洗工藝中使用新型清洗溶液的方法,該方法涉及在單一晶片模式下使用清洗溶液,并且清洗溶液包括至少包括氫氧化銨(NH-OH)、過氧化氫(HO)、水(HO)和螯合劑
2022-06-30 17:22:112101 雖然聽起來可能沒有極紫外(EUV)光刻那么性感,但對于確保成功的前沿節點、先進半導體器件制造,濕法晶片清洗技術可能比EUV更重要,這是因為器件的可靠性和最終產品的產量都與晶片的清潔度直接相關,因為晶片要經過數百個圖案化、蝕刻、沉積和互連工藝步驟。
2022-07-07 16:24:231578 的實驗和理論分析來建立晶片表面清潔技術。本文解釋了金屬和顆粒雜質在硅片表面的粘附機理,并提出了一些清洗方法。 介紹 LSI(大規模集成電路)集成密度的增加對硅片質量提出了更高的要求。更高質量的晶片意味著晶體精度、成形質量和
2022-07-11 15:55:451025 在半導體和太陽能電池制造過程中,清洗晶圓的技術的提升是為了制造高質量產品。目前已經有多種濕法清洗晶圓的技術,如離子水清洗、超聲波清洗、低壓等離子和機械方法。由于濕法工藝一般需要使用含有有害化學物質的酸和堿溶液,會產生大量廢水,因此存在廢物處理成本和環境監管等問題。
2023-06-02 13:33:211021 激光清洗技術是激光技術在工程領域的一種成功應用,其基本原理是利用激光能量密度高的特點,使激光與工件基底上附著的污染物相互作用,以瞬間受熱膨脹、熔化、氣體揮發等形式與工件基底分離。激光清洗技術具有高效
2023-10-29 08:07:49883
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