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中圖儀器

深圳市中圖儀器股份有限公司是一家高新技術(shù)企業(yè),致力于全尺寸鏈精密測量儀器及設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售。

2.8k 內(nèi)容數(shù) 99w+ 瀏覽量 64 粉絲

涂層薄膜厚度臺(tái)階儀

型號(hào): NS系列
品牌: 中圖儀器(中圖儀器)

--- 產(chǎn)品參數(shù) ---

  • 注釋 如有疑問或需要更多詳細(xì)信息,請(qǐng)隨時(shí)聯(lián)系中圖儀器咨詢。

--- 產(chǎn)品詳情 ---

中圖儀器NS系列涂層薄膜厚度臺(tái)階儀用于測量臺(tái)階高、膜層厚度、表面粗糙度等微觀形貌參數(shù)。測量時(shí)通過使用2μm半徑的金剛石針尖在超精密位移臺(tái)移動(dòng)樣品時(shí)掃描其表面,測針的垂直位移距離被轉(zhuǎn)換為與特征尺寸相匹配的電信號(hào)并最終轉(zhuǎn)換為數(shù)字點(diǎn)云信號(hào),數(shù)據(jù)點(diǎn)云信號(hào)在分析軟件中呈現(xiàn)并使用不同的分析工具來獲取相應(yīng)的臺(tái)階高或粗糙度等有關(guān)表面質(zhì)量的數(shù)據(jù)。

涂層薄膜厚度臺(tái)階儀

NS系列涂層薄膜厚度臺(tái)階儀應(yīng)用場景適應(yīng)性強(qiáng),其對(duì)被測樣品的反射率特性、材料種類及硬度等均無特殊要求,能夠廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、太陽能光伏、光學(xué)加工、LED、MEMS器件、微納材料制備等各行業(yè)領(lǐng)域內(nèi)的工業(yè)企業(yè)與高校院所等科研單位,其對(duì)表面微觀形貌參數(shù)的準(zhǔn)確表征,對(duì)于相關(guān)材料的評(píng)定、性能的分析與加工工藝的改善具有重要意義。

 

產(chǎn)品功能

1.參數(shù)測量功能

1)臺(tái)階高度:能夠測量納米到330μm或1050μm的臺(tái)階高度,可以準(zhǔn)確測量蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料。

2)粗糙度與波紋度:能夠測量樣品的粗糙度和波紋度,分析軟件通過計(jì)算掃描出的微觀輪廓曲線,可獲取粗糙度與波紋度相關(guān)的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等數(shù)十項(xiàng)參數(shù)。

3)應(yīng)力測量:可測量多種材料的表面應(yīng)力。

2.測量模式與分析功能

1)單區(qū)域測量模式:完成Focus后根據(jù)影像導(dǎo)航圖設(shè)置掃描起點(diǎn)和掃描長度,即可開始測量。

2)多區(qū)域測量模式:完成Focus后,根據(jù)影像導(dǎo)航圖完成單區(qū)域掃描路徑設(shè)置,可根據(jù)橫向和縱向距離來陣列形成若干到數(shù)十?dāng)?shù)百項(xiàng)掃描路徑所構(gòu)成的多區(qū)域測量模式,一鍵即可完成所有掃描路徑的自動(dòng)測量。

3)3D測量模式:完成Focus后根據(jù)影像導(dǎo)航圖完成單區(qū)域掃描路徑設(shè)置,并可根據(jù)所需掃描的區(qū)域?qū)挾然驋呙杈€條的間距與數(shù)量完成整個(gè)掃描面區(qū)域的設(shè)置,一鍵即可自動(dòng)完成整個(gè)掃描面區(qū)域的掃描和3D圖像重建。

4)SPC統(tǒng)計(jì)分析:支持對(duì)不同種類被測件進(jìn)行多種指標(biāo)參數(shù)的分析,針對(duì)批量樣品的測量數(shù)據(jù)提供SPC圖表以統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)的變化趨勢。

3.雙導(dǎo)航光學(xué)影像功能

在NS200-D型號(hào)中配備了正視或斜視的500W像素的彩色相機(jī),在正視導(dǎo)航影像系統(tǒng)中可精確設(shè)置掃描路徑,在斜視導(dǎo)航影像系統(tǒng)中可實(shí)時(shí)跟進(jìn)掃描軌跡。

4.快速換針功能

NS系列涂層薄膜厚度臺(tái)階儀采用了磁吸式測針,當(dāng)需要執(zhí)行換針操作時(shí),可現(xiàn)場快速更換掃描測針,并根據(jù)軟件中的標(biāo)定模塊進(jìn)行快速標(biāo)定,確保換針后的精度和重復(fù)性,減少維護(hù)煩惱。

涂層薄膜厚度臺(tái)階儀
磁吸針實(shí)物外觀圖(330μm量程)

 

性能特點(diǎn)

1.亞埃級(jí)位移傳感器

具有亞埃級(jí)分辨率,結(jié)合單拱龍門式設(shè)計(jì)降低環(huán)境噪聲干擾,確保儀器具有良好的測量精度及重復(fù)性;

2.超微力恒力傳感器

1-50mg可調(diào),以適應(yīng)硬質(zhì)或軟質(zhì)樣品表面,采用超低慣量設(shè)計(jì)和微小電磁力控制,實(shí)現(xiàn)無接觸損傷的接觸式測量;

3.超平掃描平臺(tái)

系統(tǒng)配有超高直線度導(dǎo)軌,杜絕運(yùn)動(dòng)中的細(xì)微抖動(dòng),真實(shí)地還原掃描軌跡的輪廓起伏和樣件微觀形貌。

 

典型應(yīng)用

涂層薄膜厚度臺(tái)階儀

 

部分技術(shù)參數(shù)

型號(hào)

NS200

測量技術(shù)探針式表面輪廓測量技術(shù)
探針傳感器超低慣量,LVDC傳感器
平臺(tái)移動(dòng)范圍X/Y電動(dòng)X/Y(150mm*150mm)(可手動(dòng)校平)

樣品R-θ載物臺(tái)

電動(dòng),360°連續(xù)旋轉(zhuǎn)
單次掃描長度

55mm

樣品厚度
 
50mm
載物臺(tái)晶圓尺寸150mm(6吋),200mm(8吋)
尺寸(L×W×H)mm

640*626*534

重量40kg
儀器電源100-240 VAC,50/60 Hz,200W

使用環(huán)境

相對(duì)濕度:濕度 (無凝結(jié))30-40% RH

溫度:16-25℃ (每小時(shí)溫度變化小于2℃)

地面振動(dòng):6.35μm/s(1-100Hz)

音頻噪音:≤80dB

空氣層流:≤0.508 m/s(向下流動(dòng))

 

懇請(qǐng)注意:因市場發(fā)展和產(chǎn)品開發(fā)的需要,本產(chǎn)品資料中有關(guān)內(nèi)容可能會(huì)根據(jù)實(shí)際情況隨時(shí)更新或修改,恕不另行通知,不便之處敬請(qǐng)諒解。

如有疑問或需要更多詳細(xì)信息,請(qǐng)隨時(shí)聯(lián)系中圖儀器咨詢。

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  • 先進(jìn)封裝廠關(guān)于Bump尺寸的管控2023-09-06 14:26

    BumpMetrologysystem—BOKI_1000在半導(dǎo)體行業(yè)中,Bump、RDL、TSV、Wafer合稱先進(jìn)封裝的四要素,其中Bump起著界面互聯(lián)和應(yīng)力緩沖的作用。Bump是一種金屬凸點(diǎn),從倒裝焊FlipChip出現(xiàn)就開始普遍應(yīng)用,Bump的形狀有多種,常見的為球狀和柱狀,也有塊狀等其他形狀,下圖所示為各種類型的Bump。Bump起著界面之間的電氣互聯(lián)和應(yīng)力緩沖的作用,從Bondwire
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