雖然標(biāo)準(zhǔn)單元布局是用最小設(shè)計規(guī)則繪制的，以最大限度地提高設(shè)計區(qū)域收縮的效益，但復(fù)雜的設(shè)計規(guī)則給信號路由訪問標(biāo)準(zhǔn)單元布局中的管腳帶來了困難。因此，對于物理布局設(shè)計師來說，設(shè)計一個針對面積、功率、時間、信號完整性和可打印性進(jìn)行優(yōu)化的標(biāo)準(zhǔn)單元布局已經(jīng)成為一個巨大的挑戰(zhàn)。在標(biāo)準(zhǔn)單元布局期間，需要多次設(shè)計迭代來考慮插針可訪問性，以增加路由器可用的可行解決方案的數(shù)量。在這項工作中，我們將演示Synopsys PAC方法的幾個改進(jìn)，例如在相同的細(xì)胞基臺條件下減少每個Synopsys“測試細(xì)胞”所需的細(xì)胞數(shù)量，增加插針連接的復(fù)雜性，以更好地評估插針的可及性。我們還建議附加約束以提高檢測插針可訪問性問題的可能性。我們還集成了其他物理驗證方法來訪問標(biāo)準(zhǔn)單元的設(shè)計規(guī)則遵從性和可打印性。我們希望易于使用的實用程序能夠使布局工程師執(zhí)行驗證，簡化驗證方法。

　　CMOS技術(shù)的不斷擴(kuò)展現(xiàn)在正面臨著使用193i光刻工藝的瓶頸。與圖案相關(guān)的缺陷繼續(xù)增加，并限制了每片晶片的良好模具數(shù)量。傳統(tǒng)的基于規(guī)則的設(shè)計規(guī)則檢查（DRC）方法不再足以保證100%的模式可打印性。從全球鑄造40納米技術(shù)開始，需要設(shè)計可制造性（DFM）驗證來識別制造弱點，并防止諸如開（縮頸）和短路（橋接）等災(zāi)難性錯誤，從而使早期斜坡獲得良好的產(chǎn)量。

　　隨著每一代新技術(shù)中物理驗證的增加，知識產(chǎn)權(quán)（IP）庫的開發(fā)資源變得極具挑戰(zhàn)性和成本高昂。特別地，標(biāo)準(zhǔn)單元IP庫是構(gòu)建位置和路由（P＆R）數(shù)字電路設(shè)計的首要和最重要的設(shè)計基礎(chǔ)庫；標(biāo)準(zhǔn)單元布局的質(zhì)量直接影響芯片設(shè)計的面積和可制造性。今天，我們觀察到限制標(biāo)準(zhǔn)單元庫質(zhì)量的主要挑戰(zhàn)是分別放置針位置和光刻兼容（光刻可打印性和顏色兼容）設(shè)計。因此，需要對電路設(shè)計所施加的設(shè)計限制進(jìn)行早期評估。