資料介紹
在單晶硅太陽電池的制備過程中 ,通常利用晶體硅[ 100 ]和[ 111 ]不同晶向在堿溶液中各向異性腐蝕特性 ,在表面形成類似于“金字塔”的絨面結構 ,使得入射光在硅片表面多次反射 ,提高入射光吸收效率 ,可提高單晶硅太陽電池的轉換效率。實驗探索了一種廉價的硅織構化腐蝕技術 ,即單獨采用 Na2SiO3代替傳統的氫氧化鈉和異丙醇溶液 ,以減少價格較高的異丙醇的用量 ,降低成本。不采用異丙醇或其他機械消泡的條件下 ,用質量分數為 5 %的 Na2SiO3溶液在 80 ℃腐蝕 120 min ,單晶硅片表面可獲得最佳反射率為 12. 56 %的減反射絨面。雖然與傳統的氫氧化鈉和異丙醇溶液效果相比 ,單獨使用 Na2SiO3溶液腐蝕單晶硅片表面的反射率和均勻性略差 ,但在傳統的氫氧化鈉和異丙醇體系中加入質量分數為 0. 1 %的 Na2SiO3也會促進腐蝕反應的進行 ,獲得更加均勻的減反射絨面。
反應時間和濃度對反射率的影響
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