資料介紹
真空技術是結合機械、電機、材料、化工和航太等技術發展出來的產業,亦是目前我國與美、日等國極力推動之十大新興產業之一。真空技術應用范圍日趨廣泛,運用對象包括光電、半導體和LCD產業等,近年來尤其在光電、IC和LCD等產業之制造設備,更是成長迅速。
EMI濺射鍍膜具有以下特點:
價格低(國內擁有自主知識產權的話)。
真空濺射加工的金屬薄膜厚度只有0.5~2μm,絕對不影響裝配。
真空濺射是徹底的環保制程,絕對環保無污染。
欲濺射材料無限制, 任何常溫固態導電金屬及有機材料、絕緣材料皆可使用(例:銅、鉻、銀、金、不銹鋼、鋁、氧化矽 SiO2等)。
被濺射基材幾無限制(ABS、PC、PP、PS、玻璃、陶瓷、epoxy resin等)。
膜質致密均勻、膜厚容易控制。
附著力強(ASTM3599方法測試4B)。
可同時搭配多種不同濺射材料之多層膜。并且,可隨客戶指定變換鍍層次序。
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