資料介紹
《半導體制造工藝基礎》的第一章簡要回顧了半導體器件和關鍵技術的發展歷史,并介紹了基本的制造步驟。第二章涉及晶體生長技術。后面幾章是按照集成電路典型制造工藝流程來安排的。第三章介紹硅的氧化技術。第四章和第五章分別討論了光刻和刻蝕技術。第六章和第七章介紹半導體摻雜的主要技術;擴散法和離子注入法。第八章涉及一些相對獨立的工藝步驟,包括各種薄層淀積的方法?!栋雽w制造工藝基礎》最后三章集中討論制版和綜合。第九章通過介紹晶體工藝技術、集成器件和微機電系統加工等工藝流程,將各個獨立的工藝步驟有機地整合在一起。第十章介紹集成電路制造流程中高層次的一些關鍵問題,包括電學測試、封裝、工藝控制和成品率。第十一章探討了半導體工業所面臨的挑戰,并展望了其未來的發展前景?!栋雽w制造工藝基礎》適合于物理、化學、電子工程、化學工程和材料科學等專業本科高年級或碩士研究生
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