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      標簽　>　光刻膠

      光刻膠

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      光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

      文章：302個 瀏覽：30238次 帖子：4個

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      2024-11-15 標簽：光刻膠刻蝕工藝 395 0

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      2024-10-15 標簽：晶圓晶體管半導體制造 297 0

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      一文讀懂半導體工藝制程的光刻膠

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      光刻膠按照種類可以分為正性的、負性的。正膠受到紫外光照射的部分在顯影時被去除，負膠受到紫外光曝光的地方在顯影后被留下。

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      光刻膠資料下載

      光刻膠az1500產品說明立即下載

      類別：規則標準 2022-08-12 標簽：光刻膠 1034 0

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      光刻膠是半導體制造等領域的一種重要材料，在整個電子元器件加工產業有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中，感光樹脂決定了光刻...

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