光纖頭的各種加工方法

? 本文介紹光纖頭的各種加工方法 1. 拋光 當使用光纖時，有必要對其端面進行光學拋光，以便光能夠有效地進出端面。當反射光和返回光的影響出現問題時，拋光...

2024-12-24 標簽：光纖TEC拋光 75 0

單面拋光吸附墊是什么？

單面拋光吸附墊是拋光技術領域中的一種重要配件，主要用于晶圓等半導體材料的單面拋光過程中。以下是對單面拋光吸附墊的詳細介紹： 一、定義與功能 單面拋光吸...

2024-12-13 標簽：半導體晶圓拋光 123 0

藍寶石在化學機械拋光過程中的材料去除機理

在化學腐蝕點處的濃度越高，腐蝕速率越快。在拋光過程中拋光液持續流動，我們假設在腐蝕點處的濃度可以保持初始時的濃度，腐蝕率以最快的速度發生，則拋光液不同的...

2023-06-02 標簽：機械拋光 628 0

半導體拋光與清洗工藝課堂素材分享（3）（一）

figure class=imageimg src=https://file.elecfans.com/web2/M00/5A/33/pYYBAGLo6...

2022-08-02 標簽：半導體拋光 971 0

詳解硅片的研磨、拋光和清洗技術

在半導體和LED的制造中，需要研磨以使晶片的厚度變薄，以及拋光以使表面成為鏡面。在半導體器件的制造中，半導體制造工藝包括:（1）從晶體生長開始切割和拋光...

2022-04-20 標簽：SiC硅片清洗 1.5萬 0

關于薄膜金剛石的化學機械拋光的研究報告

摘要 納米晶金剛石(NCD)可以保留單晶金剛石的優越楊晶模量(1100GPa)，以及在低溫下生長的能力(450C)，這推動了NCD薄膜生長和應用的復興。...

2022-01-25 標簽：機械晶圓化學 2070 0

關于晶體硅太陽能電池單面濕法化學拋光的方法

引言 高效太陽能電池需要對硅片的正面和背面進行單獨處理。在現有技術中，電池的兩面都被紋理化，導致表面相當粗糙，這對背面是不利的。因此，在紋理化后直接引入...

2022-01-12 標簽：太陽能電池太陽能半導體 2726 0

在氯化鈉-異丙醇溶液中的表面鈍化和形態

引言 原子平面的制備是半導體基板上原子尺度操作的必要前提。由于自組裝現象或使用原子探針技術操縱單個原子，只有原子平面的表面才能產生可重復制造納米級原子結...

2022-01-10 標簽：半導體砷化鎵鈍化 1468 0

SK海力士研發可重復使用CMP拋光墊技術

需要指出的是，CMP 技術通過化學與機械作用使得待拋光材料表面達到所需平滑程度。其中，拋光液中化學物質與材料表面發生化學反應，生成易于拋光的軟化層。拋光...

2023-12-27 標簽：CMP拋光SK海力士 853 0

機器人復雜曲面打磨拋光主軸 全自動高精度打磨很簡單

速科德Kasite打磨拋光主軸主要對高精度零件的加工處理，如汽車零部件、光纖接插件陶瓷加工、義齒加工雕銑等行業。這些高精度零件如果在拋光打磨過程中稍有誤...

2023-05-29 標簽：機器人電主軸拋光 1384 0

如何讓自動拋光設備達到理想的拋光效果

一、自動拋光機的拋光效果因素自動拋光機的拋光效果取決于多個因素，除了自動拋光機本身的質量以外，還包括使用工藝、選用什么樣的拋光輔料，要拋光物件材質，操作...

2023-05-05 標簽：設備拋光 1151 0

超精密拋光技術，不簡單！

很早以前看過這樣一個報道：德國、日本等國家的科學家耗時5年時間，花了近千萬元打造了一個高純度的硅-28材料制成的圓球，這個1kg純硅球要求超精密加工研磨...

2023-04-13 標簽：電子拋光 2458 0

超精密雙面拋光的加工原理

超精密兩面拋光加工是化學機械拋光的應用(CMP)技術性，借助產品工件、碾磨顆粒物、拋光劑和拋光輪的機械作用，在工件打磨拋光環節中，發生部分持續高溫和髙壓...

2022-11-01 標簽：拋光 3773 0

拋光工藝---五金壓鑄件拋光工藝打磨部分有三個工序：粗磨、半精磨、精磨

1.粗磨：要達到的目標是去掉壓鑄件表面及邊緣的毛刺，以及在上步工序出現的碰傷，達到邊緣圓角初步成型，水平面和垂直面基本無大劃痕，無碰傷。;2.半精磨：對...

2022-06-13 標簽：拋光 3015 0

不銹鋼常用的幾種拋光方法

目前常用的不銹鋼拋光方法有以下幾種:1機械拋光機械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法，一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等...

2022-05-13 標簽：拋光 4401 0