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標(biāo)簽 > 晶圓工藝
晶圓工藝是一種生產(chǎn)工藝,晶圓工藝是從大的方面來(lái)講,晶圓生產(chǎn)包括晶棒制造和晶片制造兩大步驟,它又可細(xì)分為以下幾道主要工序,其中晶棒制造只包括下面的第一道工序,其余的全部屬晶片制造,所以有時(shí)又統(tǒng)稱它們?yōu)榫е衅筇幚砉ば颉?/p>
晶圓工藝是一種生產(chǎn)工藝,晶圓工藝是從大的方面來(lái)講,晶圓生產(chǎn)包括晶棒制造和晶片制造兩大步驟,它又可細(xì)分為以下幾道主要工序,其中晶棒制造只包括下面的第一道工序,其余的全部屬晶片制造,所以有時(shí)又統(tǒng)稱它們?yōu)榫е衅筇幚砉ば颉?/p>
先進(jìn)封裝三種技術(shù):IPD/Chiplet/RDL技術(shù)
工藝選擇的靈活性。芯片設(shè)計(jì)中,并不是最新工藝就最合適。目前單硅SoC,成本又高,風(fēng)險(xiǎn)還大。像專用加速功能和模擬設(shè)計(jì),采用Chiplet,設(shè)計(jì)時(shí)就有更多選擇。
2023-03-08 標(biāo)簽:芯片設(shè)計(jì)封裝技術(shù)晶圓工藝 1.3萬(wàn) 0
Beyne 說(shuō),由此產(chǎn)生的壓降讓芯片設(shè)計(jì)師越來(lái)越頭疼。“電源必須通過(guò)意大利面條網(wǎng)絡(luò)連接到晶體管。由于高壓降,晶體管上的 0.7 伏不再是 0.7 伏。電阻太高。
新的晶圓工藝工具包括高溫外延生長(zhǎng)(>1,500°C)、熱離子注入、快速熱處理(RTP)和更快的脈沖原子層沉積。用于SiC 材料的晶圓研磨、CMP、...
2023-08-28 標(biāo)簽:集成電路功率半導(dǎo)體晶圓工藝 635 0
一片18寸(450mm)晶圓產(chǎn)出的芯片數(shù)是12寸(300mm)的兩倍以上,雖然晶圓尺寸愈大,愈能降低芯片制造成本,但推升晶圓尺寸所需的技術(shù)和復(fù)雜度高,需...
本內(nèi)容詳解了晶圓制造工藝流程,包括表面清洗,初次氧化,熱處理,光刻技術(shù)和離子刻蝕技術(shù)等
晶圓生產(chǎn)包括晶棒制造和晶片制造兩大步驟,它又可細(xì)分為以下幾道主要工序(其中晶棒制造只包括下面的第一道工序,其余的全部屬晶片制造,所以有時(shí)又統(tǒng)稱它們?yōu)榫е?..
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