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標(biāo)簽 > 清洗
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使用精密滾動(dòng)軸承時(shí),為了得到最高轉(zhuǎn)速和較低的溫升效果,軸承的安裝作業(yè)十分重要。
在一個(gè)行業(yè)一個(gè)產(chǎn)品某種意義上來說都有其一個(gè)特定性。要解決一個(gè)問題,我們首先要了解產(chǎn)品的來與去。就太陽能原料而言,我們從以下方面來談它的來去,就是通常我們
等離子清洗不僅可以大大提高引線框架的粘接性能和粘接強(qiáng)度,而且可以避免人為因素長期接觸引線框架造成的二次污染。等離子清洗技術(shù)后,產(chǎn)品處理的結(jié)果通常通過水滴...
碳化硅(SiC)器件制造技術(shù)與硅制造有許多相似之處,但識(shí)別材料差異是否會(huì)影響清洗能力對(duì)于這個(gè)不斷發(fā)展的領(lǐng)域很有意義。材料參數(shù)差異包括擴(kuò)散系數(shù)、表面能和化...
晶片清洗和表面處理的重要性 RCA清洗過程的詳細(xì)步驟
硅集成電路(IC)的制造需要500-600個(gè)工藝步驟,這取決于器件的具體類型。在將完整的晶片切割成單個(gè)芯片之前,大多數(shù)步驟都是作為單元工藝來執(zhí)行的。大約...
使用清洗溶液實(shí)現(xiàn)蝕刻后殘留物的完全去除
我們?nèi)A林科納半導(dǎo)體開發(fā)了一種新的濕法清洗配方方法,其錫蝕刻速率在室溫下超過30/min,在50°c下超過100/min。該化學(xué)品與銅和低k材料兼容,適用...
蒸發(fā)冷凝器清洗的工藝、注意事項(xiàng)及現(xiàn)場清洗案例
一、水垢的成因和工業(yè)清洗的意義 化學(xué)工業(yè)的生產(chǎn)過程中,由于很多方面的原因,換熱器設(shè)備等管道中都會(huì)產(chǎn)生很多如碳酸垢、結(jié)焦、油污垢、水垢、沉積物、腐蝕產(chǎn)物、...
雖然RCA濕式清洗工藝具有較高的清洗性能,但仍存在化學(xué)消耗量高、化學(xué)使用壽命短、設(shè)備大、化學(xué)廢物產(chǎn)生量大等問題。傳統(tǒng)的臭氧化水(DIO3)濕式清洗系統(tǒng)具...
單片SPM系統(tǒng)使用了大量的化學(xué)物質(zhì),同時(shí)滿足28nm以下的清潔規(guī)格。 本文描述了在集成系統(tǒng)Ultra-C Tahoe中使用批量SPM系統(tǒng)和單晶片清洗,結(jié)...
評(píng)估各種清洗技術(shù)的典型方法是在晶片表面沉積氮化硅(Si,N4)顆粒,然后通過所需的清洗工藝處理晶片。國家半導(dǎo)體技術(shù)路線圖規(guī)定了從硅片上去除顆粒百分比的標(biāo)...
實(shí)驗(yàn)室超聲波清洗器是如何運(yùn)行的?
生物實(shí)驗(yàn)室做為科研的搖籃,每天要開展各種各樣試驗(yàn),在實(shí)驗(yàn)步驟中常用的各種各樣儀器配件、器皿、專用工具如試管、量杯、玻璃片、電子秤、棱鏡、醫(yī)用鑷子、鉗子等...
等離子清洗機(jī)主要通過氣體放電產(chǎn)生等離子。氣體放電中含有電子、離子、自由基、紫外線等高能物質(zhì),具有活化材料表面的作用。
2022-08-29 標(biāo)簽:清洗 1550 0
等離子表面處理設(shè)備plasma在醫(yī)療領(lǐng)域的功能及應(yīng)用案例
等離子表面處理設(shè)備在醫(yī)療領(lǐng)域主要功能: 1、對(duì)產(chǎn)品表面預(yù)清潔: O2 等離子體可以吸附附著在產(chǎn)品表面的微小顆粒物及其他污染物, 通過真空泵把混合氣體抽出...
2022-08-19 標(biāo)簽:清洗 1370 0
本文描述了我們?nèi)A林科納單晶片超電子清洗方法的開發(fā)、測試和驗(yàn)證,該傳感器設(shè)計(jì)滿足極端顆粒中性、顆粒去除效率(PRE)和生產(chǎn)規(guī)模晶片粘合的可重復(fù)性要求,以及...
多晶硅薄膜后化學(xué)機(jī)械拋光的新型清洗解決方案
索引術(shù)語—清洗、化學(xué)機(jī)械拋光、乙二胺四乙酸、多晶硅、三氧化二氫。 摘要 本文為后化學(xué)機(jī)械拋光工藝開發(fā)了新型清洗液,在稀釋的氫氧化銨(NH4OH+H2O)...
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