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      標簽　>　蝕刻

      蝕刻

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      最早可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版，也廣泛地被使用于減輕重量（Weight Reduction）儀器鑲板，銘牌及傳統加工法難以加工之薄形工件等的加工；經過不斷改良和工藝設備發展，亦可以用于航空、機械、化學工業中電子薄片零件精密蝕刻產品的加工，特別在半導體制程上，蝕刻更是不可或缺的技術。

      文章：406個 瀏覽：15495次 帖子：14個

      蝕刻資訊

      各種濕化學處理方法及其對表面特性的影響

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      引言 III-V半導體廣泛應用于氣體檢測系統、光電探測器、光遺傳學、生物醫學應用、高電子遷移率和異質結雙極晶體管、諧振隧穿二極管和自旋電子器件太陽能電池...

      2022-01-11 標簽：半導體蝕刻 894 0

      鋁蝕刻劑控制研究—華林科納半導體

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      摘要 本文對本克斯使用的鋁蝕刻劑進行調查，以長期提高蝕刻部件的質量。非常薄的鋁箔圖案在磷酸、氯化鐵和水銹溶液中精確蝕刻的鋁箔圖案符合尺寸和一致性標準。蝕...

      2022-01-07 標簽：半導體蝕刻 984 0

      基于 KOH 的 AIN 和 GaN 體的選擇性濕化學蝕刻

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      我們華林科納開發了一種可控、平滑的氫氧化鉀基濕法刻蝕技術，AlN和AlxGa1xN之間的高選擇性被發現對于基于AlGaN的深紫外發光二極管實現有效的襯底...

      2022-01-05 標簽：半導體蝕刻 900 0

      控制堿性蝕刻液的表面張力

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      引言 氫氧化鉀(KOH)和添加劑2-丙醇(異丙醇，IPA)通常用于單晶硅片的堿性織構化，以減少其反射。氫氧化鉀和異丙醇在水中的蝕刻混合物需要明確定義氫氧...

      2022-01-04 標簽：蝕刻晶片表面張力 1013 0

      化學添加劑對KOH 溶液中Si表面反應性的影響

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      介紹 于大多數半導體而言，陽極氧化需要價帶空穴。因此，人們期望該反應發生在黑暗中的p型半導體和僅在(超)帶隙光照射下的n型半導體。 氫氧化鉀溶液中硅的化...

      2021-12-31 標簽：蝕刻測量 608 0

      Cu雜質對Si(110)濕法蝕刻的影響—蘇州華林科納半導體

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      引言 我們在蝕刻的硅(110)表面上實驗觀察到的梯形小丘的形成，描述它們的一般幾何形狀并分析關鍵表面位置的相對穩定性和（或）反應性。在我們的模型中，小丘...

      2021-12-29 標簽：半導體蝕刻 485 0

      在HF溶液中蝕刻期間GaAs上的砷形成

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      引言 到目前為止，GaAs晶片的直接再利用受到晶片表面上的殘留物的限制，這些殘留物不能利用一般的清洗方法方式去除。因此，用顯微技術、輪廓術和x光電子能譜...

      2021-12-28 標簽：蝕刻晶片光刻膠 959 0

      低濃度KOH中的各向異性蝕刻

      低濃度KOH中的各向異性蝕刻

      引言 在使用濕化學硅體微機械加工制造微機電系統時，使用堿性溶液，如氫氧化鉀、氫氧化四甲銨和氫氧化銨。除了微機械加工之外，堿性溶液還用于單晶硅的表面紋理化...

      2021-12-28 標簽：蝕刻單晶硅 1500 0

      用磷酸揭示氮化硅對二氧化硅的選擇性蝕刻機理

      用磷酸揭示氮化硅對二氧化硅的選擇性蝕刻機理

      關鍵詞:氮化硅，二氧化硅，磷酸，選擇性蝕刻，密度泛函理論，焦磷酸 介紹 信息技術給我們的現代社會帶來了巨大的轉變。為了提高信息技術器件的存儲密度，我們華...

      2021-12-28 標簽：半導體蝕刻氮化硅 7099 0

      KOH和HCl處理后氧化銦錫表面的表征

      KOH和HCl處理后氧化銦錫表面的表征

      引言 通過使用透明導電材料，有機發光二極管產生的光的提取已經成為可能，該透明導電材料應該具有明確定義的電子和光學特性。銦錫氧化物滿足了所有要求，它已迅速...

      2021-12-24 標簽：薄膜電子器件蝕刻 1310 0

      輔助陶瓷蝕刻的超聲加工

      引言 陶瓷很難蝕刻。它們的化學惰性使它們非常穩定，并且通常需要熱蝕刻技術來獲得它們的微結構。我們介紹一項旨在簡化陶瓷蝕刻過程的技術。 陶瓷有著廣泛的應用...

      2021-12-23 標簽：陶瓷蝕刻 762 0

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      引言 了解形成MEMS制造所需的三維結構，需要SILICON的各向異性蝕刻，此時使用的濕式蝕刻工藝考慮的事項包括蝕刻率、長寬比、成本、環境污染等[1]。...

      2021-12-23 標簽：晶圓蝕刻 740 0

      《炬豐科技-半導體工藝》單晶的濕法蝕刻和紅外吸收

      書籍：《炬豐科技-半導體工藝》 文章：單晶的濕法蝕刻和紅外吸收 編號：JFKJ-21-206 作者：炬豐科技 摘要 采用濕法腐蝕、x射線衍射和紅外吸收等...

      2023-04-23 標簽：蝕刻 301 0

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      CMOS器件是在硅材料上逐層制作而成的。雖然蝕刻和沉積是標準工藝，但它們主要使用光刻和等離子蝕刻在裸片上創建圖案。另一方面，MEMS是采用體硅加工工藝嵌...

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      PCB板蝕刻工藝說明

      PCB板蝕刻工藝用傳統的化學蝕刻過程腐蝕未被保護的區域。有點像是挖溝，是一種可行但低效的方法。在蝕刻過程中也分正片工藝和負片工藝之分，正片工藝使用固定的...

      2020-07-12 標簽：pcbPCB設計蝕刻 4464 0

      基于MDSN?導電膜的超窄邊框大尺寸電容觸控功能片

      烘干后的銀漿層厚度在5μm~8μm的范圍內，需要用激光蝕刻3~4次，這樣會使得激光蝕刻的效率不高，更會使得激光蝕刻過程中產生大量的銀顆粒，很難被完全吸附...

      2020-05-13 標簽：電容電極蝕刻 4478 0

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      SMT的基本知識簡介 1一般來說,SMT車間規定的溫度為253℃。 2.錫膏印刷時,所需準備的材料及工具錫膏、鋼板﹑刮刀﹑擦拭紙、無塵紙﹑清洗劑﹑攪拌刀...

      2020-04-16 標簽：smt錫膏蝕刻 1.3萬 0

      噴淋蝕刻在精細印制電路制作過程中的蝕刻原理解析

      噴淋蝕刻在精細印制電路制作過程中的蝕刻原理解析

      在噴淋蝕刻過程中，蝕刻液是通過蝕刻機上的噴頭，在一定壓力下均勻地噴淋到印制電路板上的。蝕刻液到達印制板之后進入干鏌之間的凹槽內并與凹槽內露出的銅發生化學反應。

      2020-04-08 標簽：印制電路板PCB設計蝕刻 4155 0

      蝕刻簡介

      PCB，電路板，基板上面如何出現電路呢？這就要蝕刻來實現。所謂蝕刻，先在板子外層需保留的銅箔部分，也就是電路的圖形部分，在上面預鍍一層鉛錫抗蝕層，然后用...

      2020-03-08 標簽：pcb電路板PCB設計 4766 0

      去日本化，三星將采用韓國企業SEMES的蝕刻設備

      三星計劃大量引進韓國企業SEMES的蝕刻設備，該設備原先主要由日本半導體設備大廠東京威力科創（TEL）提供。韓國業界期待，韓國半導體設備能提升前段制程中...

      2019-12-19 標簽：三星電子PCB設計蝕刻 7458 0

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