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標(biāo)簽 > 蝕刻
最早可用來(lái)制造銅版、鋅版等印刷凹凸版,也廣泛地被使用于減輕重量(Weight Reduction)儀器鑲板,銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等的加工;經(jīng)過(guò)不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展,亦可以用于航空、機(jī)械、化學(xué)工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產(chǎn)品的加工,特別在半導(dǎo)體制程上,蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。
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關(guān)于鋁鎵氮(AlGaN)上p-GaN的高選擇性、低損傷蝕刻
GaN基高電子遷移率晶體管(HEMT)由于其高頻和低導(dǎo)通電阻的特性,近來(lái)在功率開(kāi)關(guān)應(yīng)用中引起了廣泛關(guān)注。二維電子氣(2DEG)是由AlGaN/GaN異質(zhì)...
Si(111)襯底上脈沖激光沉積AlN外延薄膜的界面反應(yīng)控制及其機(jī)理
通過(guò)有效控制AlN薄膜與Si襯底之間的界面反應(yīng),利用脈沖激光沉積(PLD)在Si襯底上生長(zhǎng)高質(zhì)量的AlN外延薄膜。英思特對(duì)PLD生長(zhǎng)的AlN/Si異質(zhì)界...
懸浮波導(dǎo)SiO2薄膜的應(yīng)力和折射率控制
懸浮二氧化硅結(jié)構(gòu)對(duì)于許多光學(xué)和光子集成電路(PIC)應(yīng)用是重要的,例如寬光譜頻率梳,低傳播損耗波導(dǎo),以及紫外-可見(jiàn)光濾光器等。除了這些應(yīng)用,懸浮波導(dǎo)還可...
俄羅斯積極開(kāi)發(fā)***,最快會(huì)2024年有成果
Vasily Shpak表示,從2024年開(kāi)始,俄羅斯將撥款211.4億盧布(約23億美元)用于國(guó)內(nèi)電子產(chǎn)品的開(kāi)發(fā),并計(jì)劃開(kāi)發(fā)350nm到65nm微影光刻機(jī)。
通過(guò)檢測(cè)金剛石線鋸硅片表面顆粒負(fù)荷來(lái)評(píng)價(jià)清洗工藝的新方法
高效硅太陽(yáng)能電池的加工在很大程度上取決于高幾何質(zhì)量和較低污染的硅晶片的可用性。在晶圓加工結(jié)束時(shí),有必要去除晶圓表面的潛在污染物,例如有機(jī)物、金屬和顆粒。...
2023-11-01 標(biāo)簽:太陽(yáng)能電池測(cè)試晶圓 337 0
硅集成電路(IC)的制造需要500-600個(gè)工藝步驟,具體取決于器件的具體類(lèi)型。在將整個(gè)晶圓切割成單獨(dú)的芯片之前,大部分步驟都是作為單元過(guò)程進(jìn)行的。大約...
具有獨(dú)特底部輪廓的剝離光刻膠的開(kāi)發(fā)
金屬圖案的剝離方法已廣泛應(yīng)用于各種電子器件的制造過(guò)程中,如半導(dǎo)體封裝、MEMS和LED的制造。與傳統(tǒng)的金屬刻蝕方法不同的是,采用剝離法的優(yōu)點(diǎn)是節(jié)省成本和...
石墨烯是一種原子級(jí)薄層2D碳納米材料,具有以六方晶格結(jié)構(gòu)排列的sp2鍵碳原子。石墨烯因其優(yōu)異的物理和電子性能而受到廣泛關(guān)注。自發(fā)現(xiàn)石墨烯以來(lái),石墨烯的基...
眾所周知,微尺度和納米尺度的地形結(jié)構(gòu)對(duì)真核細(xì)胞和原核細(xì)胞的行為都有顯著的影響。例如,具有特殊尺寸的納米線、納米柱、納米管已被證明具有抗菌性能。開(kāi)發(fā)這種結(jié)...
2023-10-23 標(biāo)簽:蝕刻 357 0
圣彼得堡彼得大帝理工大學(xué)(SPbPU)的專(zhuān)家表示,他們已經(jīng)成功開(kāi)發(fā)了兩套用于生產(chǎn)微電子納米結(jié)構(gòu)的裝置,這將有助于解決俄羅斯在微電子領(lǐng)域的技術(shù)主權(quán)問(wèn)題。這...
AlGaN/GaN結(jié)構(gòu)的氧基數(shù)字蝕刻
寬帶隙GaN基高電子遷移率晶體管(HEMTs)和場(chǎng)效應(yīng)晶體管(fet)能夠提供比傳統(tǒng)Si基高功率器件更高的擊穿電壓和電子遷移率。常關(guān)GaN非常需要HEM...
俄羅斯開(kāi)發(fā)出可替代***的芯片制造設(shè)備
這個(gè)復(fù)合體由兩種設(shè)施組成。第一個(gè)裝置是為“無(wú)掩模納米光刻”設(shè)計(jì)的,可以在沒(méi)有口罩的情況下將圖像投射到基板上。第二種設(shè)備位于第一種設(shè)備制造的基板圖案上,利...
腐蝕pcb板的溶液按抗蝕層類(lèi)型與生產(chǎn)條件而選擇:有酸性氯化銅、堿性氯化銅、三氯化鐵、硫酸與過(guò)氧化氫、過(guò)硫酸鹽等多種。下面捷多邦小編和大家介紹一下腐蝕pc...
GaN及相關(guān)合金可用于制造藍(lán)色/綠色/紫外線發(fā)射器以及高溫、高功率電子器件。由于 III 族氮化物的濕法化學(xué)蝕刻結(jié)果有限,因此人們投入了大量精力來(lái)開(kāi)發(fā)干...
通過(guò)實(shí)驗(yàn)、理論模型和有限元模擬的結(jié)合,英思特通過(guò)將一個(gè)薄膜粘接到一個(gè)預(yù)應(yīng)變超過(guò)400%的軟彈性襯底上,探索了微觀和宏觀尺度上控制周期性屈曲脫層形成和發(fā)展...
類(lèi)金剛石碳(DLC)膜具有諸如高硬度和低摩擦系數(shù)的優(yōu)異特性,并且在切削工具、金屬模具和機(jī)器部件中具有應(yīng)用。不幸的是,它們通常表現(xiàn)出低粘合強(qiáng)度由于高的內(nèi)部...
應(yīng)對(duì)先進(jìn)工藝碳排放挑戰(zhàn),Imec開(kāi)發(fā)晶圓廠可持續(xù)發(fā)展評(píng)估模型
隨著技術(shù)的發(fā)展,與ic制造相關(guān)的排放量也增加了,特別是光刻和蝕刻能耗較大,例如n3工程中光刻工序產(chǎn)生的二氧化碳排放量約占45%。imec的工程師們半導(dǎo)體...
2023-09-13 標(biāo)簽:半導(dǎo)體技術(shù)光刻蝕刻 583 0
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