玻璃電路板表面微蝕刻工藝

玻璃表面蝕刻紋路由于5G時代玻璃手機后蓋流行成為趨勢，預測大部分中高端機型將采用玻璃作為手機的后蓋板。因此，基于玻璃材質的微加工工藝也就成為CMF研究中...

2024-07-17 標簽：電路板蝕刻 615 0

Si(111)襯底上脈沖激光沉積AlN外延薄膜的界面反應控制及其機理

通過有效控制AlN薄膜與Si襯底之間的界面反應，利用脈沖激光沉積（PLD）在Si襯底上生長高質量的AlN外延薄膜。英思特對PLD生長的AlN/Si異質界...

2023-11-23 標簽：半導體激光蝕刻 614 0

化學添加劑對KOH 溶液中Si表面反應性的影響

介紹 于大多數半導體而言，陽極氧化需要價帶空穴。因此，人們期望該反應發生在黑暗中的p型半導體和僅在(超)帶隙光照射下的n型半導體。 氫氧化鉀溶液中硅的化...

2021-12-31 標簽：蝕刻測量 604 0

過硫酸銨溶液蝕刻回收銅上石墨烯片的合成

石墨烯是一種原子級薄層2D碳納米材料，具有以六方晶格結構排列的sp2鍵碳原子。石墨烯因其優異的物理和電子性能而受到廣泛關注。自發現石墨烯以來，石墨烯的基...

2023-10-24 標簽：晶圓蝕刻石墨烯 602 0

懸浮波導SiO2薄膜的應力和折射率控制

懸浮二氧化硅結構對于許多光學和光子集成電路(PIC)應用是重要的，例如寬光譜頻率梳，低傳播損耗波導，以及紫外-可見光濾光器等。除了這些應用，懸浮波導還可...

2023-11-16 標簽：薄膜蝕刻 601 0

氫氧化鉀在凸角處的蝕刻行為

各向異性蝕刻劑通過掩模中的矩形幵口在（100）硅晶片上產生由（ 100）和（111）平面組成的孔。在這種情況下，孔的上角是尖的。如果通過無掩模濕法各向異...

2022-03-07 標簽：集成電路封裝蝕刻 599 0

基于噴射條件的蝕刻特性和霧化特性研究

本研究根據蝕刻條件的變化，對蝕刻特性——蝕刻率和蝕刻系數進行了球面分析，并使用速度、液滴大小、沖擊力(PDA)系統分析了噴嘴、噴射壓力、線短距離、工質物...

2022-04-07 標簽：工藝特性蝕刻 583 0

如何利用原子力顯微鏡測量硅蝕刻速率

本文提出了一種利用原子力顯微鏡(AFM)測量硅蝕刻速率的簡單方法，應用硅表面的天然氧化物層作為掩膜，通過無損摩擦化學去除去除部分天然氧化物，暴露地下新鮮...

2022-03-18 標簽：檢測蝕刻測量 581 0

怎樣通過重新化學表面處理改善水痕缺陷

根據水痕缺陷主要成分是氧化硅的特征， 利用磷酸氧化硅有較低的蝕刻率， 并不會蝕刻掉多晶硅的特性， 工藝易于控制。 因此對于用光學顯微鏡觀察到產生水痕缺陷...

2022-03-15 標簽：晶圓蝕刻缺陷 574 0

氮化鋁單晶的濕法化學蝕刻

清洗過程在半導體制造過程中，在技術上和經濟上都起著重要的作用。超薄晶片表面必須實現無顆粒、無金屬雜質、無有機、無水分、無天然氧化物、無表面微粗糙度、無充...

2023-03-31 標簽：半導體蝕刻晶片 569 0

用蝕刻法對金屬陶瓷薄膜進行電阻修整

二極管射頻制備鉭硅金屬陶瓷薄膜的電學性能。研究了濺射和射頻。用氬氣對這些薄膜進行濺射蝕刻。 可以看出，當從鉭面積比超過50%的靶濺射時，鉭-二氧化硅金屬...

2022-02-25 標簽：電阻裝置蝕刻 558 0

單晶硅晶片的超聲輔助化學蝕刻

用氟化氫-氯化氫-氯氣混合物進行各向異性酸性蝕刻是一種有效的方法 單晶硅晶片紋理化的替代方法 在晶片表面形成倒金字塔結構[1，2]形貌取決于以下成分 蝕...

2022-04-12 標簽：晶圓蝕刻 540 0

鍺基襯底抗蝕劑剝離工藝研究

具有高k柵極電介質的鍺和絕緣體上鍺(GeOI)MOSFET由于鍺比硅具有更好的載流子傳輸特性，最近受到了先進技術節點的關注。對于Ge或GeOI CMOS...

2022-05-25 標簽：工藝蝕刻襯底 536 0

一種制備PS層的超聲增強化學蝕刻方法

本文采用超聲增強化學蝕刻技術制備了多孔硅層，利用高頻溶液和硝酸技術在p型取向硅中制備了多孔硅層。超聲檢測發現p型硅多孔硅層的結構，用該方法可以制備質量因...

2022-04-06 標簽：超聲波蝕刻 535 0

用蝕刻法測定硅晶片表面的金屬雜質

本研究為了將硅晶片中設備激活區的金屬雜質分析為ICP-MS或GE\AS，利用HF和HNQ混酸對硅晶片進行不同厚度的重復蝕刻，在晶片內表面附近，研究了定量...

2022-03-21 標簽：半導體設備蝕刻 522 0

單層和多層中的應力和分層控制

類金剛石碳(DLC)膜具有諸如高硬度和低摩擦系數的優異特性，并且在切削工具、金屬模具和機器部件中具有應用。不幸的是，它們通常表現出低粘合強度由于高的內部...

2023-09-26 標簽：RF蝕刻單晶體 515 0

Aston 質譜儀對小開口區域的蝕刻有更高的靈敏度

上海伯東日本 Aston? 質譜儀能夠進行準確且可操作的端點檢測, OA% 是傳統 OES 計量解決方案的一個數量級（1/10）. Aston? 質譜...

2023-06-20 標簽：檢測蝕刻質譜儀 514 0

通過X射線光刻在指尖大小的芯片中產生高精度微光學元件的晶圓級制造

引言 在過去的二十年中，市場對大量N灰度級三維微納米元件的需求一直很活躍。基于鉛筆束的光刻技術，我們可以生產出精確的組件，但目前需要更長的時間去處理。使...

2024-02-28 標簽：芯片蝕刻晶圓級 505 0